【課題】 単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）のマイクロパイプ欠陥を短時間で修復することに加えて、不純物原子をイオン注入した多結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板をソースとして半導体単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）膜を気相エピタキシャル成長することを可能とし、ＳｉＣ高耐圧半導体が高い歩留まりとスループットで生産可能となる方法を提供する。
【解決手段】 表面にドーパントをイオン注入した前記多結晶ＳｉＣ基板１９に対し、単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板５を近接又は密接させて密閉容器に収納して、１，６００℃〜２，１００℃（好ましくは１，７００℃〜１，９００℃）の高温に短時間で加熱して熱処理する。単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板５と多結晶ＳｉＣ基板１９との距離（隙間ｇの大きさ）は、密接から０．６ｍｍ以下が好ましく、０．１ｍｍ以上０．３ｍｍ以下が更に好ましい。 （もっと読む）

【課題】 より微細な構造の形成を行うことの出来る、熱化学加工法による炭素材料の処理方法を提供すること。
【解決手段】
炭素材料１の処理面に単結晶金属薄膜２を成膜する第１の工程と、該炭素材料１に対して熱処理を行って熱化学加工を行う第２の工程とを有する炭素材料１の処理方法において、当該第１の工程がスパッタリングの工程により行われ、当該スパッタリングの工程は、０.０１Ｐａ〜１０Ｐａの圧力下で該炭素材料１を６００〜１８００℃に加熱しながら、２００〜１０００Ｗのスパッタ電力を印加して該炭素材料１上に単結晶金属薄膜２を成膜させる工程であることを特徴とする炭素材料１の処理方法である。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＢ_Ｆ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、上記薄層Ｂは特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｍ＋Ｎ）}Ａｌ_ＭＢ_Ｎ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＢ_Ｙ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】ブローチに適用する超硬合金を最適化することによって、ブローチの精度を長期間維持できる被覆超硬ブローチを提供することを課題とする。
【解決手段】シェル型の被覆超硬合金製ブローチにおいて、該シェルに用いる超硬合金は、ＷＣの平均粒径が１．２μｍ以下、保磁力が２０ｋＡ／ｍ以上４０ｋＡ／ｍ未満、飽和磁化値をＲとし、２０２×Ｃｏ重量％／１００の値をＳとした時、飽和磁化比Ｒ／Ｓが、０．６５≦Ｒ／Ｓ≦０．９５、更に、該被覆は、金属成分として少なくともＡｌとＣｒを含有する窒化物、酸化物、硼化物、硫化物、炭化物のいずれか１種以上の固溶体又は混合物から構成されていることを特徴とする被覆超硬合金製ブローチである。 （もっと読む）

本発明は、データ媒体や銀行券や証明書などの重要書証及び／又は包装及び同様なものを、偽造防止や追跡調査できるようにすることを目的とするものであって、対象物にコーティングを施して、このコーティングの発色を介して光学的に容易に識別でき、かつ、一義的に関連づけできるように特性表示するシステムに関する。本発明は、また、この特性表示システムのための、セキュリティエレメント及びセキュリティマーキングにも関するものであり、これらは、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法による蒸着によって製造することができるもので、本発明は、それらの製造方法及びそれらの使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】平滑面を有し、Ｎ_２等により特性が劣化されていない、スピンフィルタ型トンネル磁気抵抗素子のコヒーレントトンネル機構でも高効率なスピン注入が可能な、安価で高品質の単結晶絶縁酸化鉄膜の作製方法を実現する。
【解決手段】真空槽３（３×１０^−６Ｔｏｒｒ）内に置いた基板表面に、鉄成分が９９．９５％の金属鉄を蒸着するとともに、基板１に向けて酸化源であるオゾン成分が９０％以上のオゾンガスを前記基板表面に供給し、前記基板１（温度：２５０℃以下）の表面に、前記鉄を酸化しながら単結晶絶縁酸化鉄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】ブローチに適用する超硬合金を最適化することによって、ブローチの精度を長期間維持できる被覆超硬ブローチを提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも切れ刃部に超硬合金を用いた被覆超硬合金製ブローチにおいて、該超硬合金は、ＷＣの平均粒径が１．５μｍ以下、保磁力が１２ｋＡ／ｍ以上２０ｋＡ／ｍ未満、飽和磁化値をＲとし、２０２×Ｃｏ重量％／１００の値をＳとした時、飽和磁化比Ｒ／Ｓが、０．６５≦Ｒ／Ｓ≦０．９５、更に、該被覆層は、硬質炭素膜を含む固体潤滑皮膜であることを特徴とする被覆超硬合金製ブローである。 （もっと読む）

【課題】成膜時のチャージアップによる局所的な膜質変化を防止し、半導体レーザ素子の反射率のばらつきを低減させることができる半導体レーザの製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも所定表面領域が酸化し難い導電性材料にて構成された保持部材１１、１４を用いて、共振器端面１７ａが露出した複数の半導体レーザ素子を有するレーザバー１７を、共振器端面と所定表面領域が同じ向きとなるように保持し、共振器端面に所定反射率のコート膜を形成するための成膜装置内に保持部材１１、１４にて保持したレーザバー１７を設置し、共振器端面にコート膜を成膜する半導体レーザ素子の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】硬質被覆層がすぐれた高温強度を有する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆超硬合金製切削工具を構成するＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットからなる基体の表面に蒸着形成される硬質被覆層を、組成式：（Ａｌ_1-X Ｔｉ_X ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．３０〜０．５５を示す）を満足し、かつ、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する立方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である{１００}面の法線がなす傾斜角を測定し、特定な傾斜角度数分布グラフを示し、かつ２〜１５μｍの平均層厚を有する改質（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ層、で構成する。 （もっと読む）

【課題】 ニオブ酸カリウム層の薄膜を含むニオブ酸カリウム堆積体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るニオブ酸カリウム堆積体１００の製造方法は，
基板１１の上方にニオブ酸カリウム層１３を形成する工程と、
少なくともニオブ酸カリウム層１３に対して、大気圧より低い圧力下で行う熱処理工程と，を含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光用マスクの製造工程等において膜剥がれを生じない導電膜を基板側面に設けたＥＵＶ露光用マスクブランクスとその製造方法を提供し、ＥＵＶ露光後、ＥＵＶ露光用マスクが強固に静電チャックに付着してしまい、取り外しにくくなるということが無く、静電チャックに簡単に着脱できるＥＵＶ露光用マスクを提供する。
【解決手段】基板の一方の主面上に、ＥＵＶ光を反射する反射層と、該反射層上に前記ＥＵＶ光を吸収する吸収層とを少なくとも設けてパターン形成層としたＥＵＶ露光用マスクブランクスであって、前記基板の他方の主面上に導電層が形成されており、前記基板の相対する主面上の前記パターン形成層と前記導電層が、前記基板の側面に設けられた一箇所以上の側面導電膜により導通されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速ドライ歯切加工で硬質被覆層がすぐれた潤滑性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具を提供する。
【解決手段】歯切工具が、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）（Ｔｉ，Ａｌ，Ｖ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも５〜２０ｎｍの層厚を有する薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは、組成式：（Ｔｉ_{1-（Ａ＋Ｂ）}Ａｌ_ＡＶ_Ｂ）Ｎ（ただし、原子比で、Ａは０．０１〜０．１０、Ｂは０．５０〜０．７０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、上記薄層Ｂは、組成式：（Ｔｉ_{1-（Ｃ＋Ｄ）}Ａｌ_ＣＶ_Ｄ）Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：（Ｔｉ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＶ_Ｆ）Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】低密度の結晶欠陥と高品質の結晶性を有する窒化ガリウム系半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に伴う窒化ガリウム系半導体の製造方法は、ガリウム酸化物基板を準備する段階と;上記ガリウム酸化物基板表面に対する物理的化学的前処理により上記ガリウム酸化物基板表面を窒化物に改質させＧａ-Ｎ結合を有する表面窒化物層を形成する段階と;上記表面窒化物層上に窒化ガリウム系半導体層を形成する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】高硬度、耐高温酸化性の優れる硬質皮膜においても密着性を犠牲にすること無く、特に靭性を改善することである。併せて高温状態での耐溶着性、潤滑特性も改善し、例えば切削加工などにおける乾式化、高速化、高送り化に対応可能な硬質皮膜を提供することである。
【解決手段】物理蒸着法により基体表面に形成された硬質皮膜であって、該硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であることを特徴とする。 （もっと読む）

製造安定化装置および方法は、ＴｉＡｌＮ等の融点の大きく異なる金属成分を持つ多元系被膜を、単一のルツボ（３）と収束プラズマ（７）とを用いて、高原料利用効率で、膜質良く作製する。この時、原料（４）を蒸発させるに必要な電力を最初に供給し、その後、最初の電力より順次増大した電力を、必要な最大電力に至るまで繰り返して供給する。或いは、原料を蒸発させるに必要な最初の領域にプラズマ（７）を収束させるためのプラズマ制御を行い、続いて、最初のプラズマ領域より最大のプラズマ領域に至るまでプラズマを連続的に順次移動・拡大せしめるプラズマ制御を行い、原料の未溶融部位（４ｂ）を順次溶解させる。原料は、焼結体または圧粉成型体（４）とする。
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【課題】硬質皮膜全体の高硬度化と耐剥離性に優れ、剥離や異常摩耗が発生を著しく抑制することを可能とし、過酷な摩耗環境において、耐摩耗性を改善することができる硬質皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】基体表面から、最下層、中間積層部、最上層とからなる硬質皮膜被覆部材において、該中間積層部は、金属元素としてＡｌ及びＳｉを含有し、残部Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｙから選択される１種以上の金属元素からなる酸窒化物、ホウ酸窒化物、炭酸窒化物からなる少なくとも２層以上の積層部であり、該中間積層部は層厚方向にＡｌ及びＳｉの含有量が０．５ｎｍ以上、５０ｎｍ未満の周期で変動していることを特徴とする硬質皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】付着力が高く、優れた耐摩耗性を発揮する硬質膜を具備した表面被覆体の製造方法を提供する。
【解決手段】基体と、当該基体の表面に少なくとも１層被覆された硬質膜とを備える表面被覆体の製造方法において、無機物粉末を含む成形体を焼成することにより硬質合金からなる基体を作製する焼成工程と、前記基体の表面に、イオンプレーティング法を用いて硬質膜を形成する成膜工程とを含み、前記成膜工程は、窒素：不活性ガス元素（Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ）＝２：１〜３０：１の比率の混合ガス雰囲気中において、バイアス電圧を初期の１０〜５０Ｖとし、その後、１５０〜３００Ｖに変化させる。 （もっと読む）

【課題】機械産業、自動車産業などに用いられる高速切削工具及びダイ用材料に適用されて材料の機械的な特性、特に、硬度及び靭性を高められる固溶体粉末、この固溶体粉末の製造方法、この固溶体粉末を用いるセラミック、このセラミックの製造方法、この固溶体粉末を含むサーメット粉末、このサーメット粉末の製造方法、このサーメット粉末を用いるサーメット、及びこのサーメットの製造方法を提供する。
【解決手段】周期表４、５及び６族の金属からＴｉを含んで選ばれる少なくとも２種の金属成分の炭化物、炭窒化物またはこれらの混合物を含む固溶体粉末であり、前期固溶体粉末のマイクロ構造は完全固溶相である固溶体粉末及びその焼結体であるセラミック。及びその製造方法。また、前記セラミックのコーティング方法。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ及びＣｒを必須成分とした硬質皮膜を優れた耐熱性並びに潤滑特性を有した状態で高硬度化し、硬質皮膜被覆部材の耐摩耗性の改善を課題とする。
【解決手段】基体表面から、最下層、中間積層部、最上層とからなる硬質皮膜被覆部材において、該中間積層部は、金属成分の組成が（Ａｌ_ＷＣｒ_ＸＴｉ_ＹＳｉ_Ｚ）、但し、組成は原子％で、Ｗ＋Ｘ＋Ｙ＋Ｚ＝１００、の窒化物、ホウ化物、炭化物及び酸化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物からなるＡ層とＢ層とが、Ａ層は７０＜Ｗ＋Ｘ＜１００、Ｂ層は３０＜Ｙ＜１００で層厚方向に交互に積層され、該最上層は、Ｔｉ又はＴｉとＳｉの窒化物、炭化物、硫化物、硼化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物であることを特徴とする硬質皮膜被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】 膨張黒鉛材料が備える優れた熱伝導特性を損なうことなく、黒鉛粉の落下を生じない膨張黒鉛を用いたシート材料の提供。
【解決手段】 シート状に形成された膨張黒鉛と、該膨張黒鉛のシートの少なくとも一方の面に蒸着されて形成される金属層からなることを特徴とするシート材料である。 （もっと読む）