耐酸化性物品の製造方法が開示される。該方法は、（ａ）支持体上へ白金族金属の層を沈着させることによって白金族金属沈着化支持体を形成させ、次いで（ｂ）白金族金属沈着化支持体層上へ、Ｈｆ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｚｒ及びこれらの混合物から選択される反応性元素を沈着させることによって該白金族金属沈着化支持体上へ表面改質領域を形成させる工程を含む。この場合、該表面改質領域は、白金族金属、Ｎｉ、Ａｌ及び反応性元素を、γ−Ｎｉ＋γ’−Ｎｉ_３Ａｌ相組成が形成されるような相対濃度で含有する。
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【課題】エピタキシャルウェーハを製造する際に、多孔質バッファ層を容易に形成し、安価に半導体エピタキシャル層を形成しうる手段を提供する。
【解決手段】単結晶ウェーハ上に単結晶半導体層を形成する段階と、単結晶半導体層上にナノサイズのドットを有するマスク層を形成する段階と、マスク層と共に単結晶半導体層の表面をエッチングして、ナノサイズの空孔部を有する多孔質バッファ層を形成する段階と、多孔質バッファ層を熱処理する段階と、多孔質バッファ層上にエピタキシャル成長法によりエピタキシャル物質層を形成する段階と、含むエピタキシャルウェーハの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 保持可能な基板の種類が限定されず、かつ当該基板の温度を効果的に制御することができる新規な基板保持装置を提供する。
【解決手段】 この発明に係る基板保持機構１８は、例えば真空蒸着装置に適用されるものであり、図示しない液体冷却装置から冷却水が供給される水冷ジャケット３４を有している。そして、この水冷ジャケット３４の下面には、複数の押圧ユニット４０，４０，…が設けられており、それぞれの押圧ユニット４０は、水冷ジャケット３４を介して冷却水が注入される溶接ベローズ５２を有している。この溶接ベローズ５２の移動端（先端）には、中継冷却板５６が結合されており、冷却水の圧力に応じて当該ベローズ５２が伸縮すると、中継冷却板５６によってヒートシンク７０と共にウェハ１６が下方に押し付けられ、固定される。 （もっと読む）

【課題】 高温においても劣化し難く所望の耐摩耗性を維持、発揮し得る耐摩耗性膜で被覆された耐摩耗性膜被覆物品を提供する。
【解決手段】窒素、酸素、炭素及びホウ素のうち少なくとも窒素及び酸素を含むクロムアルミニゥムの化合物の層を最上層として含む耐摩耗性膜Ｆで被覆されており、該耐摩耗性膜Ｆの室温でのマイクロビッカース硬度が２０００以上である耐摩耗性膜被覆物品（例えばエンドミルＥＭ）。 （もっと読む）

【課題】 被覆膜に潤滑性機能を付与し、高速、ドライ加工時の工具刃先温度を低下させ、長寿命が達成可能な表面被覆切削工具およびその製造方法を提供すること
【解決手段】 基材と、該基材の表面上に積層形成された被覆膜とを備える表面被覆切削工具であって、前記被覆膜は、基材直上に形成されるＴｉ_ａＳｉ_ｂ（ただし、０＜ｂ＜０．３，ａ＋ｂ＝１）の窒化物からなるＡ層と、Ａｌ_ｃＴｉ_ｄＭ_ｅ（ただし、０．４＜ｃ＜０．７５、０＜ｅ＜０．３、ｃ＋ｄ＋ｅ＝１）（該ＭはＳｉ，Ｃｒ，Ｖ，Ｙ，Ｚｒ，Ｂ，Ｚｎ，ＭｏおよびＭｎからなる群より選択される元素の一種以上）の窒化物、炭窒化物、窒酸化物または炭窒化物からなるＢ層と、Ｔｉ_ｆＳｉ_ｇ（ただし、０＜ｇ＜０．３、ｆ＋ｇ＝１）の炭窒化物からなるＣ層とからなり、前記Ｂ層および前記Ｃ層は前記Ａ層上で交互に積層されることを特徴とする表面被覆切削工具が提供される。 （もっと読む）

【課題】 硬質被覆層が高硬度鋼の断続重切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆立方晶窒化硼素基焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆立方晶窒化硼素基焼結材料製切削工具が、立方晶窒化硼素基焼結材料からなる工具基体の表面に、組成式：（Ｔｉ_1-X Ａｌ_X ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７０を示す）を満足し、かつ、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する立方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である{１００}面の法線がなす傾斜角を測定し、特定な傾斜角度数分布グラフを示し、かつ２〜１５μｍの平均層厚を有する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 切削工具の刃先における欠損や基材の酸化を防止し、かつ、優れた切削性能を発揮する被覆層を備えた表面被覆切削工具およびその製造方法を提供すること
【解決手段】 基材と、該基材の表面上に積層形成された被覆膜とを備える表面被覆切削工具であって、前記被覆膜は、基材直上に形成されるＴｉ_ａＳｉ_ｂ（ただし、０＜ｂ＜０．３，ａ＋ｂ＝１）の窒化物からなるＡ層と、該Ａ層直上に形成されるＡｌ_ｃＴｉ_ｄＭ_ｅ（ただし、０．４＜ｃ＜０．７５、０＜ｅ＜０．３、ｃ＋ｄ＋ｅ＝１）（該ＭはＳｉ，Ｃｒ，Ｖ，Ｙ，Ｚｒ，Ｂ，Ｚｎ，ＭｏおよびＭｎからなる群より選択される元素の一種以上）の窒化物、炭窒化物、窒酸化物または炭窒化物からなるＢ層と、該Ｂ層直上に形成されるＴｉ_ｆＳｉ_ｇ（ただし、０＜ｇ＜０．３、ｆ＋ｇ＝１）の炭窒化物からなるＣ層とからなることを特徴とする表面被覆切削工具が提供される。 （もっと読む）

【課題】硬質被覆層が断続重切削ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆サーメット製切削工具が、ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットからなる工具基体の表面に、組成式：（Ｔｉ_1-X Ａｌ_X ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７０を示す）を満足し、かつ、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する立方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である{１００}面の法線がなす傾斜角を測定し、特定な傾斜角度数分布グラフを示し、かつ２〜１５μｍの平均層厚を有する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

本発明の膜は特にマイクロ波およびＲＦ用途に関して最適化された高温超伝導（ＨＴＳ）薄膜である。特に、本発明はマクロ波／ＲＦ用途に関して最適化された膜を製造するために１：２：３の化学量論からの大きなずれを有する組成に焦点を合わせる。ＲＦ／マイクロ波ＨＴＳ用途はＨＴＳ薄膜が優れたマイクロ波特性、特に低い表面抵抗、Ｒ_ｓおよび高線形表面リアクタンスＸ_ｓ、すなわち高Ｊ_ＩＭＤを有することを要する。そのようなものとして、本発明はその物理的組成、表面モルホロジー、超伝導特性、およびこれらの膜からつくられるマイクロ波回路の性能特性に関して特徴がある。
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【課題】従来のTiAlN 膜よりも高速・高能率切削が可能な、耐熱性および耐摩耗性に優れた切削工具用硬質皮膜を被覆した硬質皮膜被覆工具を提供。
【解決手段】超硬合金、サーメットまたは高速度工具鋼を基材とする切削工具の基材上に、(Al _a ,Cr _b ,M_c )(C _1-d N _d ) からなる硬質皮膜であって、M は1 種または2 種以上の金属および半金属元素であり、Al、Cr、M それぞれの原子比a 、b 、c が、0.７5 ≦a ≦0 .95 、0.05≦b ≦0.25、a+b+c=1 を満たすようにし、かつN の原子比d が0.5 ≦d ≦1 となるようにする、組成の硬質皮膜を、を少なくとも１層以上被覆したことを特徴とする硬質皮膜被覆工具。 （もっと読む）

【課題】 各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。
【解決手段】 被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 材料ガスによるプラズマガン内の汚染を防止する。
【解決手段】 プラズマガン１８内で発生されたプラズマ３４は、アパーチャ２４を介して真空槽１２内に供給される。この状態で、真空槽１２内に材料ガスとしてのＴＭＳガスおよびアセチレンガスが導入されると、これらのガスはプラズマ化され、プラズマ化されたガスは、被処理物５４，５４，…の表面において化学反応を起こす。これによって、被処理物５４，５４，…の表面に、シリコンを含有するＤＬＣ膜が形成される。
なお、ＴＭＳガスおよびアセチレンガスは、アパーチャ２４を介してプラズマガン１８内にも流入する。そして、特にアセチレンガスに含まれる炭素によって、プラズマガン１８内が汚染される。しかし、この炭素は、エッチングガスとしての酸素ガスと反応して、二酸化炭素となり、真空ポンプ１６によって真空槽１２の外部に排出される。 （もっと読む）

【課題】支持基板の電極上に成膜される圧電体の膜応力を低減させ、支持基板の変形を抑制可能にする。
【解決手段】この圧電アクチュエータ６０は、１０−２０μｍ厚の振動板６２の電極６４上にエアロゾルデポジション法（ＡＤ法）により１０μｍ厚のＰＺＴ膜６８を成膜して構成されるが、この電極６４とＡＤ膜のＰＺＴ膜６８との間にスパッタ法により成膜される0.5 μｍ以上の厚みのＰＺＴ膜６６を介在させる。スパッタ膜のＰＺＴ膜６６は、ＡＤ膜のＰＺＴ膜６８と同一組成の材料で構成されているため、ＰＺＴ膜６８との界面に圧縮応力が溜め込まれず、ＰＺＴ膜６８の膜応力を低減させることができ、応力緩和層として機能するとともに、膜応力が少なく且つ膜密着性が強いため、ＡＤ膜のＰＺＴ膜６８の密着性向上層としての機能も併せ持つ。 （もっと読む）

【課題】 電気接点材料等に要求される種々の特性を向上させ得る分散強化合金をスポット的に形成することを可能にして、高性能の電気接点材料等を低コストで提供する。
【解決手段】 本発明は、基材2の表面に、第１の金属よりなるマトリックス中に第２の金属の酸化物の粒子が分散した分散強化合金の膜3を形成する方法であって、基材2の表面に第１の金属の膜と第２の金属の膜とを少なくとも１層ずつ形成する工程と、熱処理によって第１の金属の膜と第２の金属の膜との間で相互拡散を起こさせる工程と、酸化雰囲気中での熱処理によって第２の金属を内部酸化させる工程とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】抵抗発熱体は種々の材料ソースあるいは基板加熱などに用いられ、近年あらゆる雰囲気で化学的に安定な発熱体材料が必要とされている。従来、炭化ケイ素、モリブデン、タンタル、タングステンを用いた発熱体が知られているが、薄膜化が困難であり、小さくできない。また形状も、板状、ワイヤー状に限られる場合が多く、熱効率がよい形状が望まれている。
【解決手段】MoSi₂の欠点を、RFマグネトロンスパッタリング装置などを用いて、るつぼ等に直接薄膜として堆積させることで改善し、高効率の加熱が可能な薄膜状のMoSi₂薄膜発熱体、および、基体にMoSi₂薄膜を形成した薄膜発熱器を提供する。薄膜層の劣化を防止するため第１電極と第２電極を設ける。 （もっと読む）

【課題】１段階（アンモ）酸化プロセスの収率を増加させるためにさらに改善すること。
【解決手段】本発明は混合金属酸化物（ＭＭＯ１）触媒に関する。ＭＭＯ１触媒の性能は、蒸着によるその表面上へのＴｅのサブモノレイヤー堆積によって改善される。アクリル酸に対する選択性が約６％改善され、アクリル酸収率が絶対量で３％改善された。湿式含浸法で同様のＴｅをＭＭＯ１上に適用した場合は、触媒性能は改善されなかった。Ｔｅを蒸着したＭＭＯ１触媒を、高温において酸素で後処理すると、同じ高温において不活性ガスを使用して対応する試料を処理した場合と比較して、改善された触媒性能が得られた。 （もっと読む）

【課題】 高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-XＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．７５を満足する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．１〜０．５μｍの平均層厚を有するＣｒＮ層からなる密着接合層、（ｃ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＺｒ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＺｒの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

本発明によれば、パルスｄｃ物理気相堆積プロセスによるＬｉＣｏＯ_２層の堆積が提供される。そのような堆積により、所望の＜１０１＞配向または＜００３＞配向を有するＬｉＣｏＯ_２の結晶性層の低温高堆積速度堆積を提供することが可能である。堆積のいくつかの実施形態は、固体再充電可能Ｌｉ電池のカソード層として利用しうるＬｉＣｏＯ_２膜の高速度堆積の必要性に対処するものである。本発明に係るプロセスの実施形態によれば、ＬｉＣｏＯ_２層を結晶化させるために慣例的に必要とされる高温（＞７００℃）アニール工程を省略することが可能である。本プロセスのいくつかの実施形態によれば、短時間のランプ速度の急速熱アニールプロセスを利用することにより、ＬｉＣｏＯ_２層を利用する電池を改良することが可能である。
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【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足する（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＴａ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＴａの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）