【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-(X+Z) Ａｌ_XＳｉ_Z）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＺｒ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＺｒの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

本発明によれば、パルスｄｃ物理気相堆積プロセスによるＬｉＣｏＯ_２層の堆積が提供される。そのような堆積により、所望の＜１０１＞配向または＜００３＞配向を有するＬｉＣｏＯ_２の結晶性層の低温高堆積速度堆積を提供することが可能である。堆積のいくつかの実施形態は、固体再充電可能Ｌｉ電池のカソード層として利用しうるＬｉＣｏＯ_２膜の高速度堆積の必要性に対処するものである。本発明に係るプロセスの実施形態によれば、ＬｉＣｏＯ_２層を結晶化させるために慣例的に必要とされる高温（＞７００℃）アニール工程を省略することが可能である。本プロセスのいくつかの実施形態によれば、短時間のランプ速度の急速熱アニールプロセスを利用することにより、ＬｉＣｏＯ_２層を利用する電池を改良することが可能である。
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【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足する（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＴａ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＴａの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-(X+Z) Ａｌ_XＢ_Z）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】従来のTiN 皮膜、TiC 皮膜、TiCN皮膜、(Al,Ti)(N,C)系皮膜の中で最も耐摩耗性に優れている(Al,Ti)(N,C)系皮膜よりも耐摩耗性に優れ、高速切削の場合に対応可能な耐摩耗性を有する硬質皮膜を提供する。
【解決手段】（１）結晶質の硬質皮膜であって、AlとＸ（Ｘ：Cr、Ｖの一種）の複合窒化物、複合炭化物、複合ホウ化物、複合炭窒化物、複合ホウ窒化物、複合炭ホウ化物または複合炭窒ホウ化物よりなり、そのAlとＸの組成が、（ Al_1-yＸ_y ）〔但し、Ｘ：Cr、Ｖの一種、０＜ｙ≦０．３〕で示される組成からなることを特徴とする硬質皮膜、（２）前記硬質皮膜において膜厚が0.1 〜20μm であるもの等。 （もっと読む）

【課題】所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得る。
【解決手段】 部材の表面に、蒸着法によって、単に、光触媒膜、親水性膜をこの順で積層した構造の膜を形成しても、実質的に光触媒作用が発現されそれによる効果が発現されるとは言えない部材に関し、部材の表面粗さを各種材料に適した方法によって、また所望する光触媒性能やコスト増等を勘案して、部材の表面粗さを本願所定の範囲内（算術平均表面粗さＲａで０．７８μｍ以下）で微妙に調整することによって、所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 Ｓｉ含有皮膜を高硬度化させ、硬質皮膜全体の高硬度化、耐剥離性に優れ、耐摩耗性の要求される部材等に最適な硬質皮膜を提供し、この硬質皮膜を被覆した硬質皮膜被覆部材及びその被覆方法を提供する。
【解決手段】 基体に硬質皮膜を積層した硬質皮膜被覆部材において、硬質皮膜は最下層と最上層と中間積層部とを有し、最下層はＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｎｂから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物主体の硬質皮膜、最上層はＳｉが１０から３０％を含有し、非金属成分としてＮ、Ｃ、Ｏ、Ｂの１種以上を含有する非晶質相を含有し、硬度が４０から８０ＧＰａの高硬度な硬質皮膜、中間積層部は金属元素としてＡｌ及びＳｉを含有し、残部Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｗから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物、ホウ窒化物又は炭窒化物の何れかが主体の積層部、該積層部はＡ層とＢ層とが交互に積層される。 （もっと読む）

【課題】 被加工物を的確に保持することが可能なワークパレットを提供すること。
【解決手段】 このワークパレット１は、互いに沿うように配置され、その間に被加工物である圧電アクチュエータ用素子２を保持するベース部材１０及びマスク部材３０と、ベース部材１０とマスク部材３０との間に配置され、ベース部材１０に対する被加工物の位置を定めるスペーサ部材２０と、を備え、ベース部材１０から突出するように永久磁石１１が配置されており、スペーサ部材２０は、ベース部材１０からマスク部材３０に向かう方向において、被加工物よりも突出しないように配置され、マスク部材３０は、磁性体材料によって形成されると共に、スペーサ部材２０に対して予め定められた位置に配置されて永久磁石１１と接触する。 （もっと読む）

ドープ酸化金属皮膜を作製する方法であり、ステップ：
（ａ）真空槽内に半導体基板を準備する；（ｂ）不活性キャリアガスの存在下で前記槽内に少なくとも金属（Ｍ）、酸素（Ｏ）およびドーパントイオンを含むプラズマを発生させる；（ｃ）前記プラズマから前記基板上にドープ酸化金属（ＭＯ）皮膜を形成する；および（ｄ）ステップ（ｃ）の間、前記基板上にｎ型ＭＯ皮膜およびｐ型ＭＯ皮膜の少なくとも１つを形成するために、前記プラズマ内の前記ドーパントイオンに対するＯイオンの量を制御する、を含む、前記方法。ドープ酸化金属皮膜を作製するシステムもまた開示する。
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【課題】 大容量通信の需要に伴い、次世代の短波長帯通信では、青色や紫外域へと波長帯がさらに短波長化するものと考えられる。この状況に鑑み、次世代の短波長帯通信にも適した新しい磁気光学材料を提供する。
【解決手段】 アナターゼ型結晶構造を有し、Ti_1-x-yCo_xNb_yO₂（0<x+y<1,x>0,y>0）の化学式で表されることを特徴とする酸化物材料。本構成によれば、青色などの短波長領域であっても大きなファラデー回転係数を示す磁気光学効果が得られる。 （もっと読む）

【課題】従来試みられることのなかった新規な方法で担体に触媒材料を担持してなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに該触媒構造体を用いた水素の貯蔵及び発生方法を提供する。
【解決手段】担体表面にガスフロースパッタリング法により触媒材料をコーティングしてなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに、該触媒構造体と、芳香族炭化水素とを用いることを特徴とする水素の貯蔵方法、及び上記触媒構造体と、芳香族炭化水素の水素化誘導体とを用いることを特徴とする水素の発生方法である。 （もっと読む）

【課題】炭素を含む銅酸化物超伝導体の薄膜が、より高いＴｃを備えた状態で得られるようにする。
【解決手段】結晶基板１０１の表面に酸素ラジカル及び二酸化炭素からなる反応ガス１２１が供給された（吹き付けられた）状態とし、この後、結晶基板１０１が５５０℃程度に加熱された状態とし、また、Ｂａ，Ｃａ，Ｃｕ），及びフラーレンＣ₆₀の各蒸着源を、所定温度にまで加熱して蒸発させ、金属原料１２２が結晶基板１０１の表面に供給された状態とすることで、結晶基板１０１の上に、Ｔｃが８５Ｋと高い超伝導転移臨界温度を示す酸化物超伝導薄膜１０２が形成された状態が得られる。 （もっと読む）

【課題】半導体発光素子の窓層として、金属酸化物の透明導電膜からなる電流分散層を形成し、且つ同時に粗面化することが可能な真空蒸着装置、この真空蒸着装置に利用するフィルタ、それらを用いて作製した半導体発光素子を提供すること。
【解決手段】真空蒸着装置の構成として、真空容器１５内に、金属酸化物の蒸発源１４と、この蒸発源上方に該蒸発源に対し被着面を傾斜させて臨ませた被着基板１１とを置き、前記蒸発源１４と被着基板１１との間に、機械的に構成された多数の微小径の空孔を有するフィルタ１２を設け、これに蒸気流を通過させることによって被着基板１１の被着面に粗面化された金属酸化物から成る透明導電膜が形成されるように構成する。 （もっと読む）

磁性ガーネット単結晶膜を液相エピタキシャル成長させるための磁性ガーネット単結晶膜形成用基板２を製造するための方法である。まず、液相エピタキシャル成長させるために用いるフラックスに対して不安定なガーネット系単結晶から成るベース基板１０を形成する。次に、ベース基板１０の少なくとも結晶育成面に、フラックスに対して安定なガーネット系単結晶薄膜から成るバッファ層１１を形成する。このベース基板１０にバッファ層１１を形成する際に、基板１０を積極的に加熱せずに、スパッタリングなどの薄膜形成法によりベース基板１０にバッファ層１１を形成する。
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【課題】高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被削材元素の拡散を抑制し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜で被覆された工具を提供することを目的とする。
【解決手段】周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ及びＳｉから選択される１種以上の元素と、Ｃ、Ｎから選択される１種以上の元素と、ＳとＯとを含有する硬質皮膜であり、電子分光分析法によって該硬質皮膜の表面にはＳとＯとの結合状態を示すピークが検出され、該ＳとＯとの結合状態を示すピーク位置が１６７〜１７０ｅＶの範囲内にあることを特徴する硬質皮膜及びその製造方法に、少なくとも２種以上のプラズマ密度の異なる物理蒸着による蒸発源を用いて被覆することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エンジン油やトランスミッショシ油等の潤滑油中においても低い摩擦係数が得られ、簡便なプロセスで製造でき、かつ潤滑油の種類の制約が少ない硬質炭素被膜摺動部材を提供する。
【解決手段】少なくとも相手材との摺動部位に硬質炭素被膜を備えた摺動部材の上記硬質炭素被膜中にマグネシウムを含有させ、その含有量を２原子％以上４１原子％以下の範囲とする。 （もっと読む）

【課題】 従来の皮膜よりも耐酸化性および耐摩耗性に優れた硬質皮膜を提供する。
【解決手段】 （Ａｌ_ａ，Ｍ_ｂ，Ｃｒ_{１−ａ−ｂ}）（Ｃ_１−ｅＮ_ｅ）からなる硬質皮膜（但し、ＭはＷ及び／又はＭｏ）であって、
０．２５≦ａ≦０．６５、
０．０５≦ｂ≦０．３５、
０．５≦ｅ≦１
（ａ，ｂ，ｅはそれぞれＡｌ，Ｍ，Ｎの原子比を示す。）
であることを特徴とする硬質皮膜。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の密着性を改善し、耐酸化性、耐摩耗性を向上させ、更に高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被削材元素の拡散を抑制し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本願第１発明は、硬質皮膜は高密度プラズマにより被覆した相と、低密度プラズマにより被覆した相とが多相構造をなし、該硬質皮膜内部において組成濃度差を発生させることを特徴とする硬質皮膜の製造方法である。次に、本願第２発明は、プラズマ密度の異なる手法を被覆時に併用し、高硬度皮膜と低硬度皮膜とを連続して交互に被覆することを特徴とする硬質皮膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 プルームの測定方法、その評価方法、レーザアブレーション方法、及び、レーザアブレーション装置に関し、安定した結晶性或いは安定した特性を有するレーザアブレーションによる薄膜を再現性良く成膜する。
【解決手段】 チャンバー１内のターゲット２にパルスレーザ光４を照射することでターゲット材料を瞬間的に蒸発させ、相対する基板３上に蒸発材料の薄膜を成長させる際に、ターゲット２にレーザ光４を照射した時に発生するプルーム５の大きさおよび形状を、光強度のデジタル情報としてマトリックス状に取得する。 （もっと読む）