【課題】本発明の非晶質カーボン被覆工具は、摩擦係数が低く、高硬度と適度な靭性を有し、凝着低減に有効で、クラック進展を抑制する効果も併せ持つ非晶質カーボン被覆工具及び非晶質カーボン皮膜の被覆方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、非晶質カーボン皮膜を被覆した非晶質カーボン被覆工具において、前記非晶質カーボン皮膜は、σ結合に対するπ結合の強度比率であるπ結合／σ結合が０．３０以上、０．４２未満であることを特徴とする非晶質カーボン被覆工具である。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、被膜の耐摩耗性と耐酸化特性とを飛躍的に向上させた表面被覆切削工具を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具であって、該被膜は、ＡｌまたはＣｒのいずれか一方または両方の元素と、Ｚｒと、炭素、窒素、酸素およびホウ素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とにより構成される化合物を含むことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 導電性を有する酸化物膜を基材表面上に成膜することにより耐酸化性、耐欠損性、耐摩耗性の全てに優れ、また、物理蒸着法により成膜可能であり、さらに美しい外観色を呈することにより商品価値の高い表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 本発明は、基材上にコーティング層を備える表面被覆切削工具であって、前記コーティング層は、前記基材側から内層および外層をこの順で備え、該内層は、周期律表４ａ族に属する金属、５ａ族に属する金属、６ａ族に属する金属、ＡｌおよびＳｉからなる群より選択される１種以上の元素と、炭素、窒素および酸素からなる群より選択される１種以上の元素との化合物から構成され、前記外層は、導電性を有する酸化物膜から構成される表面被覆切削工具を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、被膜の耐摩耗性と耐酸化特性とを飛躍的に向上させた表面被覆切削工具を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具であって、該被膜は、ＡｌまたはＣｒのいずれか一方または両方の元素と、炭素、窒素、酸素およびホウ素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とにより構成される化合物と、Ｎｉとを含むことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、被膜の耐摩耗性と耐酸化特性とを飛躍的に向上させた表面被覆切削工具を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具であって、該被膜は、ＡｌまたはＣｒのいずれか一方または両方の元素と、Ｈｆと、炭素、窒素、酸素およびホウ素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とにより構成される化合物を含むことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 高速切削加工で表面被覆層がすぐれた耐摩耗性および耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具の製造方法を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具の製造方法において、（ａ）超硬基体表面を洗浄処理し、（ｂ）硬質層を形成した後、密着接合層を形成し、（ｃ）蒸着装置内の反応雰囲気を、酸素ガスとＡｒガスの酸化性混合ガス雰囲気とした状態で、潤滑層形成用スパッタリング装置のカソード電極に印加して、反応雰囲気中のＡｒの作用で、酸化クロムをスパッタ放出させ、同時に潤滑層形成用アーク放電装置のカソード電極とアノード電極との間にアーク放電を発生させて、Ｃｒをイオン化放出させ、反応雰囲気中で、酸化クロムを生成させることにより、スパッタ放出酸化クロムと反応生成酸化クロムで構成された潤滑層を形成する。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で表面被覆層がすぐれた耐摩耗性および耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具の製造方法を提供する。
【解決手段】 超硬基体の表面に、（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層の硬質層、これに重ねて酸化クロム層の潤滑層で構成された表面被覆層を蒸着形成する表面被覆超硬合金製切削工具の製造方法において、（ａ）硬質層形成用アーク放電装置、潤滑層形成用スパッタリング装置、さらに蒸着装置を用い、（ｂ）上記超硬基体表面をＣｒボンバード洗浄処理し、（ｃ）（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなる硬質層を形成した後、ＣｒＮからなる密着接合層を形成し、（ｄ）スパッタ放出酸化クロムと反応生成酸化クロムで構成された潤滑層を形成する。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜被覆小径部材の実作用部の耐熱性、耐摩耗性と耐チッピング性及び摺動性を高めた部材を提供することである。特に、プリント基板等の高速回転、高送り穴開け加工に適し、優れた加工面粗さと加工精度を有し、工具寿命の長い硬質皮膜被覆小径工具を提供することである。
【解決手段】硬質皮膜被覆小径部材の基体は、ＷＣの平均結晶粒径が０．９μｍ以下、Ｃｏ含有量が２〜１３質量％、該Ｃｏ中にＣｒがＣｏの１．５〜１２質量％含有されているＷＣ基超硬合金であり、前記部材の少なくとも実作用部の表面に硬質皮膜が被覆され、該実作用部における該硬質皮膜の平均膜厚をＴａｖｅ、基体表面から突起表面までの最大高さをＴｍａｘとした時、Ｔｍａｘ／Ｔａｖｅが１〜１．３であることを特徴とする硬質皮膜被覆小径部材である。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、切削工具の靭性と耐摩耗性とを高度に両立させるとともに膜チッピングを抑制した表面被覆切削工具を提供することにある。
【解決手段】 本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該被膜は、該基材上の最外層となるものであり、かつ圧縮応力を有しており、該圧縮応力は、上記被膜の厚み方向に強度分布を有するように変化しており、該強度分布は、上記被膜の表面の圧縮応力が上記被膜の表面から、上記被膜の表面と上記被膜の底面との間に位置する第１の中間点まで連続的に減少し、該第１の中間点において極小点を有するとともに、該第１の中間点から、該第１の中間点と上記被膜の底面との間に位置する第２の中間点まで連続的に増加し、該第２の中間点において極大点を有することを特徴としている。 （もっと読む）

組織の結合または貫通する厚さの勾配を有しないかまたは最小であることにより特徴付けられるモリブデンスパッタリングターゲットおよび焼結体。微細な、均一な粒度および均一な組織を有するモリブデンスパッタリングターゲットは高い純度であり、性能を改良するためにミクロ合金化できる。スパッタリングターゲットは丸い円板、正方形、長方形、または管状であってもよく、基板に薄膜を形成するために、スパッタすることができる。セグメント形成法を使用することにより、スパッタリングターゲットの大きさは６ｍ×５.５ｍｍまでであってもよい。薄膜を電子部品、例えば薄膜トランジスター、液晶ディスプレー、プラズマディスプレーパネル、有機発光ダイオード、無機発光ダイオードディスプレー、電界発光ディスプレー、太陽電池、センサー、半導体装置および調節可能な仕事関数を有するＣＭＯＳ（相補的金属酸化物半導体）のゲート装置に使用される。
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【課題】膜厚均一性を±１％程度の範囲内に抑えるとともに、２００ｍｍ×２００ｍｍ以上の大サイズにも対応可能な、蛍光体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】複数の原料蒸発源を有し、前記複数の原料蒸発源のそれぞれに予め必要に応じた量の原料を充填し、前記蒸発源のそれぞれについて、前記原料が蒸発し切った時点で、当該原料蒸発源への加熱エネルギー供給を絶つことを特徴とする方法。前記複数の原料蒸発源のそれぞれが、母体構成材料を充填されるものと、これと対をなす付活剤材料を充填されるものとの互いに対をなす構成を有するものである二元蒸着の場合は、前記互いに対をなす構成を有する複数の原料蒸発源のそれぞれについて、前記母体構成材料が蒸発し切った原料蒸発源と、この母体構成材料の蒸発源と対をなす付活剤材料の蒸発源への加熱エネルギー供給を絶つことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、切削工具の靭性と耐摩耗性とを高度に両立させるとともに特に膜チッピングを抑制した表面被覆切削工具を提供することにある。
【解決手段】 本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備え、該被膜は、該基材上の最外層となり、かつ圧縮応力を有しており、該圧縮応力は、上記被膜の厚み方向に強度分布を有するように変化しており、該強度分布は、上記被膜の表面の圧縮応力が上記被膜の表面から、上記被膜の表面と上記被膜の底面との間に位置する第１の中間点まで連続的に増加し、該第１の中間点において極大点を有するとともに、該第１の中間点から、該第１の中間点と上記被膜の底面との間に位置する第２の中間点まで連続的に減少し、該第２の中間点において極小点を有し、さらに該第２の中間点と上記被膜の底面との間に上記同様の極大点を１以上有する。 （もっと読む）

【課題】 擬似位相整合型波長変換素子を用いて基本波光を高調波光に変換する波長変換レーザ装置におけるレーザの生成効率を改善する。
【解決手段】 光共振器７内に配置する擬似位相整合型波長変換（ＱＰＭ）素子４の両端面４ａ、４ｂの反射率を下げるために、各端面４ａ、４ｂに酸化シリコンと窒化シリコンとの混合物を材料とする薄膜を形成する。その混合物の混合比率は、使用する波長におけるＱＰＭ素子の基体の屈折率と入射（又は出射）媒質である空気の屈折率とから求まる所定の屈折率になるように制御する。それによって、端面４ａ、４ｂでの反射率を従来よりも１桁以上改善した０．０１％以下にまで抑制することが可能である。 （もっと読む）

【課題】 遮蔽板の移動速度制御や位置調整に要求される精度をやみくもに高くすることなく、高い成膜速度を確保することができる成膜装置等を提供すること。
【解決手段】 基板ホルダ２１によって基板Ｗを適当な速度で自転させつつ、ターゲットユニット３３〜３６のうちいずれかを動作させて成膜処理をおこなう。その際にマスク保持装置４６により速度を制御しながら透過性を有する遮蔽マスク４１を動作させる。以上のような、処理は、例えばＭｏ用のターゲットユニット３３と、例えばＳｉ用のターゲットユニット３４とを交互に切り替えて繰り返して行われる。これにより、基板Ｗ上に多層膜ＭＬを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマを用いる半導体製造装置における反応チャンバ内のプラズマ密度の分布を制御し、半導体基板面内の膜形成あるいは加工を均一に行うことができる半導体製造装置を提供する。
【解決手段】電気的に相互に独立したＲＦ放電により複数の部分プラズマ１０を発生させることで全体プラズマ１１の密度を制御するための複数の分割ＲＦ電極７を備えたＲＦ電極部５を有する。その各々の分割ＲＦ電極７に、別々に電力を供給する電力供給手段を有することにより、分割ＲＦ電極７に供給された電力に応じた密度を有する複数の部分プラズマ１０が発生する。この複数の部分プラズマ１０が集合して全体プラズマ１１が形成される。部分プラズマ１０の密度を制御することにより、全体プラズマ１１の密度を制御する。この全体プラズマ１１を用いてその基板の面内を均一に処理する。 （もっと読む）

【課題】耐熱合金の高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）下部層として、０．５〜１０μｍの平均層厚を有し、かつ、層厚方向にそって、Ａｌ最高含有点とＴｉ最高含有点とが所定間隔をおいて交互に繰り返し存在し、かつＡｌおよびＴｉ含有量がそれぞれ連続的に変化する成分濃度分布構造を有し、さらに、上記Ａｌ最高含有点及びＴｉ最高含有点が、特定な組成式を満足し、かつ隣り合う上記Ａｌ最高含有点とＴｉ最高含有点の間隔が、０．０１〜０．１μｍからなる組成変化構造を有するＴｉとＡｌとＳｉの複合窒化物層、（ｂ）上部層として、０．５〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 表面積の大きい多孔質バルブ金属薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を陽極体として利用した容量密度の大きい薄膜キャパシタを提供する。
【解決手段】 １）バルブ金属と異相成分の粒子径が１ｎｍ〜１μｍの範囲にあり、かつ、バルブ金属と異相成分が均一に分布した薄膜を作製する工程、２）熱処理により粒子径を調整をするとともに適度に焼結を進める工程、３）異相部分を除去する工程、からなる製造方法を用いて、多孔質バルブ金属薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】 カーボンナノ材料を溶融金属に均等に分散させるために、カーボンナノ材料の濡れ性を改善することができる処理方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 カーボンナノ材料１１に、炭素と反応して化合物を生成する元素を含む金属粉末１２を混合する工程と、得られた混合物１５を真空炉２０に入れ、高温真空下で金属粉末１２を蒸発させ、この蒸気をカーボンナノ材料１１の表面に付着させる蒸着処理工程と、からなる。
【効果】 金属微粒子は炭素と化合物を生成し、この化合物が接合作用を発揮するため、金属微粒子はカーボンナノ材料に強固に結合する。カーボンナノ材料を溶融金属に混入した場合には、金属微粒子は溶融金属との濡れ性が高いため、溶融金属にカーボンナノ材料を均等に分散させることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、切削工具として靭性と耐摩耗性さらには膜チッピングに対する耐性とを両立させた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該被膜は、該基材上の最外層となるものであり、かつ圧縮応力を有しており、該圧縮応力は、上記被膜の厚み方向に強度分布を有するように変化しており、該強度分布は、上記被膜の表面において最大の圧縮応力を有するとともに、上記被膜の表面から、上記被膜の表面と上記被膜の底面との間に位置する中間点まで該圧縮応力が連続的に減少し、該中間点において極小点を有するとともに、該中間点から上記被膜の底面まで圧縮応力が一定の値となることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 従来の反射式と透過式膜厚監視装置の問題を同時に解決でき、且つ、効果的に膜厚監視の精度を高めることができる膜厚監視装置を提供する。
【解決手段】 クランプメカニズムの表面に固定された光学基板の上に蒸着された光学薄膜厚を監視する膜厚監視装置であって、第一径路に沿って前記光学薄膜を透過するビームを発する少なくとも一つの光源、前記クランプメカニズムに相対する前記光源のもう一つ側に設置され、前記ビームを反射し、前記ビームを前記第一径路に平行した第二径路に沿って、再度、光学薄膜に透過させる少なくとも一つの逆反射器、および前記第二径路に沿って前記光学薄膜に透過した前記ビームを受ける少なくとも一つの光受信器を含む。 （もっと読む）