【課題】 従来と比べて担持する物質の使用量を少なくすることによりコストを低減させた担持微粒子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る担持微粒子は、表面に細孔２１を有する微粒子３と、前記微粒子３の見掛け表面に担持された、該微粒子３より粒径の小さい超微粒子又は薄膜と、を具備し、前記超微粒子又は薄膜は、前記細孔２１内より前記微粒子３の見掛け表面に多く担持されていることを特徴とする。尚、見掛け表面とは、細孔内表面を含む微粒子の全表面から細孔内表面を除いた微粒子の表面をいう。 （もっと読む）

【課題】 ボアピン表面の耐摩耗性を向上させることにより、シリンダボアの形成位置精度を良好に維持でき、従来材料に比べて耐用寿命が長いシリンダブロック鋳造用ボアピンを提供する。
【解決手段】 シリンダブロックを鋳造する際にライナに嵌め込んで用いられるボアピンであって、該ボアピンがサーメットからなることを特徴とし、前記サーメットが炭化タングステンを４０％以上含有する超硬合金であることを特徴とする。また、シリンダブロックを鋳造する際にライナに嵌め込んで用いられるボアピンであって、炭化タングステンを４０％以上含有する超硬合金からなる母材の少なくともライナと接触する部分に硬質皮膜を形成したことを特徴とし、前記硬質皮膜は、ＴｉＮおよびＴｉＣＮのいずれか
からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 物理蒸着法によって触媒を製造する場合に、触媒の担体上に金属粒子を担持析出させた後、物理蒸着装置からの触媒の取り出し時に、触媒に対する酸素の吸着及び酸化を低減する。
【解決手段】 物理蒸着法によって導電性粉体よりなる担体例えばカーボン担体上に金属粒子を担持析出させた後、物理蒸着装置２内外の圧力差を解消するためのパージ処理を、二酸化炭素や水蒸気等の、担体による吸着力が高く、触媒に対して不活性な気相吸着媒体によって行う。 （もっと読む）

【課題】 化学的安定性が高く、かつ、発光材料、高温ガスセンサー、導電材料、触媒、電界放出材料などに使用できる、炭素膜で被覆された酸化ガリウムナノケーブル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化ガリウム粉末と活性炭粉末との混合物を、不活性ガス気流中で加熱することによって、酸化ガリウムナノワイヤーを炭素で被覆する。この酸化ガリウムナノワイヤーは長さが１００ｎｍ以上の結晶性酸化ガリウムでなり、ナノサイズの炭素膜で被覆される。例えば、長さ数μｍ、直径約５０ｎｍの炭素膜で被覆された酸化ガリウムナノケーブルが得られる。炭素膜で被覆した酸化ガリウムナノケーブルは、化学的に安定で、発光材料、高温ガスセンサー、導電材料、触媒、電界放出材料などに利用できる。 （もっと読む）

【課題】 高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｚ）} Ａｌ_X Ｓｉ_Ｚ ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．１〜０．５μｍの平均層厚を有するＺｒＢＮ（硼窒化ジルコニウム）層からなる密着接合層、（ｃ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＺｒＢ_２（硼化ジルコニウム）層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｚ）} Ａｌ_X Ｓｉ_Ｚ ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．１〜０．５μｍの平均層厚を有するＷＢＮ（硼窒化タングステン）層からなる密着接合層、（ｃ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＷＢ（硼化タングステン）層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】基体表面にプラズマ密度の異なる少なくとも２種以上の物理蒸着源を併用することより、硬質皮膜の耐酸化性及び耐摩耗性を向上させることである。
【解決手段】基体表面にプラズマ密度の異なる少なくとも２種以上の物理蒸着源を併用することよって被覆した硬質皮膜の製造方法において、該硬質皮膜を電子顕微鏡により観察した際に、複数の層が存在し、第１の層は、該プラズマ密度の高い蒸発源により形成され、且つ、連続的に結晶成長し、第２の層は、該プラズマ密度の低い蒸発源により形成され、更に、第１の層と第２の層とは、界面を形成することなく成膜されていることを特徴とする硬質皮膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_{1-（X＋Ｚ）} Ａｌ_X Ｂ_Ｚ ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足するＴｉとＡｌとＢ（ボロン）の複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）０．１〜０．５μｍの平均層厚を有するＺｒＢＮ（硼窒化ジルコニウム）層からなる密着接合層、（ｃ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＺｒＢ_２（硼化ジルコニウム）層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ａｌ_１−Ｘ Ｔｉ_X ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６０を示す）を満足する（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．１〜０．５μｍの平均層厚を有するＺｒＢＮ（硼窒化ジルコニウム）層からなる密着接合層、（ｃ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＺｒＢ_２（硼化ジルコニウム）層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｚ）} Ａｌ_X Ｂ_Ｚ ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．１〜０．５μｍの平均層厚を有するＷＢＮ（硼窒化タングステン）層からなる密着接合層、（ｃ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＷＢ（硼化タングステン）層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

組成Ａｌ_xＳｉ_yＭｅ_zＮの窒化アルミニウムベースの硬い耐摩耗性コーティングが提案される。ｘ、ｙおよびｚは原子分率を表し、その和は０．９５から１．０５であり、Ｍｅは、ＩＩＩからＶＩＩＩ族およびＩｂ族の遷移金属の金属ドーパントまたはこれらの組合せである。この金属は、コーティングプロセス中に、金属ドーピングのないコーティングよりも高い固有導電率（intrinsic electrical conductivity）を提供する。ケイ素含量は０．０１≦ｙ≦０．４であり、１つまたは複数の金属ドーパントＭｅの含量は、０．００１≦ｚ≦０．０８、好ましくは０．０１≦ｚ≦０．０５、最も好ましくは０．０１５≦ｚ≦０．０４５である。
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真空チェンバーの中でOLEDデバイスの基板に有機層をコーティングするのに用いる蒸着源であって、有機材料を収容するチェンバーを画定する側壁及び底部壁並びに該側壁間に配置された開口プレート（40）を含み、該開口プレートが、気化した有機材料を放出させるための互いに離れた複数の開口部（90）を有するマニホールド（60）を含み；上記開口プレートは、電流に応答して熱を発生させる導電性材料を含み；上記有機材料をその気化温度に加熱するとともに、上記マニホールドの側壁を加熱する手段を含み；上記開口プレートを上記側壁にカップリングさせて、上記開口プレートの該開口部に隣接する支持されていない領域に熱を集める電気的絶縁体（120）を含むことにより、上記開口プレートと上記基板との間の距離を小さくして基板上のコーティングの厚さの均一性を高くすることができる蒸着源。
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有機材料を気化させて表面に膜を形成する方法であって、所定量の流動化した粉末形態の有機材料を供給し；その粉末化した有機材料を計量し、流動化した粉末流として第1の部材の上に誘導し；その第1の部材を加熱して流動化した上記粉末流を気化させ；気化した有機材料をマニホールド内に回収し；そのマニホールドに通じている少なくとも1つの開口部が形成された第2の部材を用意し、気化した有機材料をその第2の部材によって上記表面に誘導して膜を形成する操作を含む方法。
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(a)蒸着ゾーン中でホウ素を支持体の表面に蒸着させる工程;(b)支持体を加圧された気体マグネシウムを含む反応ゾーンに移動する工程;(c)支持体を蒸着ゾーンに戻す工程;および(d)工程(a)〜(c)を繰り返す工程を含むMgB₂膜を形成する方法。本発明の好ましい態様で、支持体は回転可能なプラテンを用いて蒸着ゾーンおよび反応ゾーンに入れられたり出されたりする。

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本発明は、
−ケイ素イオンまたはゲルマニウムイオンのビームを使用して、基材を照射することによる核生成サイト（４）の形成と、
−形成された核生成サイト上でのナノストラクチャー（８）の成長
とを含むナノストラクチャーの形成方法に関する。
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本発明は、疎水性及び／または疎油性表面を有するデバイスに関し、該表面はカーペット状のナノファイバー（２０）を含むものであって、これらのナノファイバー（２０）は疎水性及び／または疎油性の連続的なフィルムで全て覆われ、これらのナノファイバー間の表面（２２）が、この同じポリマー層で覆われる。
本発明は、そのようなデバイスを作成する方法にも関する。
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材料の混合物を基板（１）上で量を徐々に変化させて蒸着させるのに使用可能で、様々な目的に使用可能であるが、コンビナトリアルケミストリーにおいて特別な価値を有する蒸着法において、ソース（３）から基板（１）までの蒸発材料の経路は、マスク（５）によって部分的に妨げられ、基板（１）により規定される平面と平行な平面におけるマスクの配置は、基板（１）に沿う方向に実質的に連続して増加する厚みで材料を基板（１）上に蒸着させるようになされる。 （もっと読む）

露光ビームでマスクを照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板上に転写するための露光装置であって、前記基板の表面と前記投影光学系との間に所定の液体を介在させた前記露光装置に使用される光学素子において、 前記投影光学系の前記基板側の透過光学素子の表面に第１の溶解防止部材を備えている光学素子。 （もっと読む）

真空チャンバ中に物品を載置し、チャンバを排気し、加速イオンで物品の表面を処理し、処理表面上に後に形成する層を接着させる材料層を形成し、グラファイトカソードでパルス電子−アーク放電を開始し、カソード表面に沿って動く複数のカソードスポットから炭素プラズマのパルス流を生成し、物品表面の所定領域に炭素プラズマを収束して超硬質非晶質炭素被膜を形成し、物品温度を、電子−アーク放電パルスの繰り返し周波数を制御することによって２００から４５０Ｋの範囲内に維持する工程を含む真空中での超硬質非晶質炭素被膜を形成する方法であって、炭素被膜を形成する工程において、炭素プラズマのパルス流が、２３から３５eＶのイオン平均エネルギー、１０¹²から１０¹³ｃｍ^-3のイオン濃度を有し、炭素プラズマ流の軸が、物品の所定表面に対して１５から４５°の角度傾斜させ、被膜の形成工程において、物品の温度変化Δｔが、５０から１００Ｋの範囲内で維持することを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】 ドリル、エンドミル等に好適で、耐摩耗性、高滑り性、高焼き付き性、被削材の加工精度などを向上できる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 基材と、その基材上に形成された4a、5a、6a族元素およびAlからなる群の中から選択される1種以上の元素の窒化物または炭窒化物を主成分とする耐摩耗性被膜とを具える。耐摩耗性被膜中には、B₄C、BN、TiB₂、TiB、TiC、WC、SiC、SiN_X（X＝0.5〜1.33）およびAl₂0_３をよりなる群から選択される少なくとも1種の超微粒化合物を含む。この超微粒化合物の粒径は0.5〜50nmが好ましい。基材としては、WC基超硬合金、サーメットなどが利用できる。 （もっと読む）