【課題】プラスチック基材に対し、耐摩耗性、接着性及び／又は微小亀裂耐性の向上した被覆を提供する。
【解決手段】基材と第一の層とその上に堆積した第二の層とを含む多層品であって、第一の層は、式R₂Si(OR’)₂のジオルガノジオルガノオキシシラン、式RSi(OR’)₃のオルガノトリオルガノオキシシラン又は両者の部分縮合物を含み、式中Ｒは独立に炭素原子数約1〜3のアルキル基、炭素原子数約6〜13の芳香族基、ビニル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、γ-グリシドキシプロピル基及びγ-メタクリロキシプロピル基からなる群から選択され、R’は独立に炭素原子数約1〜8のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基及び水素からなる群から選択される。第二の層はプラズマ中で重合して酸化した有機ケイ素材料を含み、ケイ素、酸素、炭素及び水素を含有している。 （もっと読む）

【課題】十分な光量を透過できるとともに高いブラインド効果を得ることができるシート材であって、高い遮光性、遮熱性と高い視認性のいずれもを兼ね備えた光透過性シート材を提供する。
【解決手段】総繊度が1０〜３３０ｄｔｅｘの合成繊維を用いてカバーファクターを５００〜４０００にした織編物の片面に金属層を設けており、反対面は金属層を設けずしてなるシート材であり、該シート材の前記片面から前記反対面への可視光透過率が５〜５０％、且つ前記反対面の可視光反射率が３０％以下である光透過性シート材。 （もっと読む）

【課題】より高いガスバリア性を有し、かつ耐食性にも優れたガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】基材２と、基材２上に設けられたガスバリア層３とを有し、前記ガスバリア層３が、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物、無機酸化炭化物、無機窒化炭化物、無機酸化窒化物及び無機酸化窒化炭化物から選ばれる少なくとも１種の無機化合物と、モリブデンと、モリブデン以外の耐食性金属とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材と蒸着源との距離を短くしつつ、発光色の変動が抑制された、高品質な有機ＥＬ素子を効率的に製造し得る有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】気化された有機層形成材料をノズルから吐出させることにより、該ノズルに対して相対的に移動する基材上に有機層を形成する蒸着工程を含み、前記有機層からなり基材移動方向に対して垂直な方向の幅Ａ（ｍｍ）を有する発光領域を形成する有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記ノズルの開口部における前記基材移動方向と垂直方向の長さをＷ（ｍｍ）、前記開口部と前記基材との距離をｈ（ｍｍ）とするとき、Ｗ≧Ａ＋２×ｈ（但し、ｈ≦５ｍｍである。）を満たすようにして前記蒸着工程を行なうことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フィルムにした際に、蒸着強度、耐ブロッキング性およびヒートシール強度に優れ、溶媒抽出成分量の少ない蒸着フィルム用ポリプロピレン系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】プロピレンに由来する構造単位が主な構造単位であるプロピレン系重合体成分（成分（Ａ））６０〜９０重量％と、エチレンに由来する構造単位の含有量が２０〜４０重量％であり、極限粘度（［η］Ｂ）が３〜８ｄＬ／ｇであるプロピレン−エチレン共重合体成分（成分（Ｂ））１０〜４０重量％とを含む蒸着フィルム用ポリプロピレン系樹脂組成物（但し、成分（Ａ）と成分（Ｂ）との合計の重量を１００重量％とする。）。 （もっと読む）

【課題】プラズマを用いるスパッタリング法により、逆スパッタされやすい元素の組成減少を抑制して所望の組成比を有する膜を成膜する成膜方法を提供する。
【解決手段】基板２０上に、プラズマを用いるスパッタリング法により、複数の金属元素を含む複合ターゲットＴを用いて複合ターゲットＴに含まれる全ての構成元素を含み、複合ターゲットＴに含まれる全ての金属元素のうち、個々の該元素単体の結合エネルギーが最も高い元素の結合エネルギーＥｍａｘと、個々の前記元素単体の結合エネルギーが最も低い元素の結合エネルギーＥｍｉｎとが下記式（１）を満足する膜４０を成膜する方法であって、成膜時のプラズマ中のプラズマ電位Ｖｐ（Ｖ）と基板電位Ｖｓｕｂ（Ｖ）との電位差を、膜４０中の結合エネルギーが最も低い元素が逆スパッタされる閾値以下となるように制御して成膜する。Ｅｍａｘ／Ｅｍｉｎ≧１．５・・・（１） （もっと読む）

【課題】ボイル殺菌、レトルト殺菌、加熱調理等による加熱処理がなされても当初のガスバリア性及びラミネート強度が劣化しにくく、落下による破袋がしにくく、突き刺し性に優れるようにした、加熱処理耐性を有する蒸着フィルムの提供を目的とする。
【解決手段】少なくともポリエステル樹脂とポリアミド樹脂からなる共押出し延伸フィルム基材の片面に、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）法によるプラズマ処理を施し、該プラズマ処理面上に無機化合物の蒸着膜層を設けたことを特徴とする蒸着フィルムである。 （もっと読む）

【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧気圧０．１Ｐａ〜１０Ｐａという環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にシラノール基を有する鱗片状シリカを主剤に対して添加した第１高分子樹脂層、ガスバリア層、シラノール基を有する鱗片状シリカを主剤に対して添加した第２高分子樹脂層、をこの順に積層してなる備えてなる製造方法、及び該方法により得られるガスバリアフィルムとした。 （もっと読む）

【課題】耐熱サイクル特性、耐熱応力特性に優れたアモルファス状炭素皮膜の形成を可能とするアモルファス状炭素皮膜の形成方法及びアモルファス状炭素皮膜を提供する。
【解決手段】基材表面に、アモルファス状炭素皮膜を形成させる方法であって、前記基材のアモルファス状炭素皮膜形成面に、前記基材よりも炭化物生成自由エネルギーの小さい物質からなる粒子を分散させ、化学蒸着法又は物理蒸着法により前記粒子上にアモルファス状炭素を成長させて、柱状のセグメントの集合体からなるアモルファス状炭素皮膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧１×１０^−１〜１×１０^−３Ｔｏｒｒという環境下にて予めグロー放電によるプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にシラノール基を有する鱗片状シリカを主剤に対して添加した第１高分子樹脂層、ガスバリア層、をこの順に積層してなる備えてなる製造方法、及び該方法により得られるガスバリアフィルムとした。 （もっと読む）

【課題】光透過性、耐熱性および力学的強度に優れた透明導電性フィルムおよびそれを含むタッチパネルを提供すること。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面に透明導電膜を有する透明導電性フィルムであって、該基材が、示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が２３０〜３５０℃である芳香族ポリエーテル系重合体を含む、透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】長尺のシート状基材Ｓを、真空処理室１を通して搬送し、この真空処理室に設けた処理ユニット３によりシート状基材に所定の処理を施す真空処理装置の小型化が図れて生産性のよい低コストの真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理室で処理ユニットを跨ぐように配置され、シート状基材の片面が処理ユニットに対向する姿勢で当該シート状基材を周回走行させる上流側ローラユニット４と、上流側ローラユニットからのシート状基材の表裏を反転させる反転手段６と、シート状基材が処理ユニットを跨ぐ方向に直交する方向で上流側ローラユニットに隣接配置され、反転手段にて反転されたシート状基材の他面が処理ユニットに対向する姿勢で当該シート状基材を周回走行させる下流側ローラユニット５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧１×１０^−１〜１×１０^−３Ｔｏｒｒという環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にシラノール基を有する鱗片状シリカを主剤に対して添加した第１高分子樹脂層、ガスバリア層、シラノール基を有する鱗片状シリカを主剤に対して添加した第２高分子樹脂層、をこの順に積層してなる備えてなる製造方法、及び該方法により得られるガスバリアフィルムとした。 （もっと読む）

【課題】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置および真空システムを提供する。
【解決手段】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置は、真空チャンバ内の１つ以上の蒸気源に隣接して配置されるように構成された筐体を備える。この筐体は、対象物を収容するように構成された空間の体積を部分的に囲む筐体の内面を含み、この筐体は、上記１つ以上の蒸気源よりも低い温度に保たれる。上記筐体の内面は１つ以上の排水溝に結合される。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性を有し、かつ、ガスバリア層と積層する薄膜層との密着性に優れた透明ガスバリアフィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】高分子基材フィルム上に、少なくとも珪素酸化物からなる薄膜層が積層された透明ガスバリアフィルムであって、該珪素酸化物からなる薄膜層の表面がアルゴン（Ａｒ）と窒素（Ｎ₂）の混合ガスを原料とするイオン照射処理されてなるものであることを特徴とする透明ガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】長時間連続して基材上に蒸着材料を蒸着させることができるとともに、品質の高い薄膜を基材上に形成することが可能な真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空成膜装置が、真空容器１０と、真空容器内に、被成膜面を下向きにして配設される基材１１と、真空容器内の基材の下方に配置され、上記被成膜面に略対向する位置に設けられる蒸着材料収納容器開口部１７２を上面に有する蒸着材料収納容器１８と、アノード電極３１を有し、真空容器内にプラズマを照射するプラズマガン３と、蒸着材料収納容器を加熱し、蒸着材料を蒸発させる加熱部４と、蒸着材料収納容器に正電位を印加する、電位印加部５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】誘電体フィルム上の金属蒸着電極中の各金属成分の比率を制御し、優れた特性を有する金属化フィルムを提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、上部が開口した蒸着室８と、蒸着室内に設けられ、金属材料を加熱して金属蒸気を発生させる複数の蒸発源１６と、蒸着室内において、複数の蒸発源どうしを仕切る隔壁１８を備え、隔壁は、水平方向に可動な板状の基部２４と、基部の上部に設けられ、鉛直方向に可動な仕切り板２５を有する構成とした。この構成により、各金属蒸気が放出される開口部の面積を自由に変更できるようになり、さらに夫々の蒸発源からの金属蒸気どうしが重なり合う量を制御することができる。この結果、金属蒸気の蒸着量やその状態の制御が可能となり、金属蒸着電極中の各金属成分の比率や分布状態を制御できる。そして、優れた特性を有する金属化フィルムを作製できる。 （もっと読む）

【課題】高い生産性で多段蒸着フィルムを製造する方法を提供する。さらに、多段蒸着フィルムの厚みの増加を小さい範囲に抑えつつ、水蒸気バリア性を大幅に高める技術を提供する。
【解決手段】アノード電極を有するプラズマガンを備えた真空成膜装置を用いて、該真空成膜装置内の蒸着材料収納容器に保持された蒸着材料を蒸発させ、基材の被成膜面に薄膜を形成する第一薄膜形成工程と、第一薄膜形成工程と同様にして、上記薄膜上にさらに薄膜を形成する第二薄膜形成工程と、を備える多段蒸着フィルムの製造方法を採用し、薄膜の形成を、蒸着材料収納容器を上記蒸着材料が蒸発する温度以上に加熱するとともに、蒸着材料収納容器に正電位を印加してプラズマガンから放出される電子を蒸着材料に照射しながら行なう。 （もっと読む）

【課題】電子ペーパー、太陽電池、有機ＥＬなどの電子材料の基板として用いた際に、優れた透明性および水蒸気バリア性を発揮し、長期使用時のデバイスの経時的信頼性を高めることができる積層体を提供する。
【解決手段】積層体１０は、第１の透明プラスチックフィルム１の片面に、無機物からなる無機薄膜層３を積層した積層フィルムの無機薄膜層３側の面に、第２の透明プラスチックフィルム５を粘着剤層４を介して積層した積層体１０であって、前記第１の透明プラスチックフィルム１の屈折率ｎ_１、前記粘着剤層４の屈折率ｎ_２および前記無機薄膜層３の屈折率ｎ_３が下記（ｉ）および（ｉｉ）の関係を満たすことを特徴とする。｜ｎ_３−ｎ_１｜≦０．２（ｉ）｜ｎ_３−ｎ_２｜≦０．２（ｉｉ） （もっと読む）

【課題】 積層数が少なくてもガスバリア性に優れ、かつ、高い透明性を有する透明ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板上にガスバリア性を有する透明ガスバリア層が形成された透明ガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、第１の無機層と第２の無機層とを積層した積層体であり、前記第１の無機層が、金属および半金属から選択される少なくとも１種と、窒素とを含む層であり、前記第２の無機層が、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも１種の炭化物を含むターゲットを用いたスパッタリング法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と、炭素と、水素とを含む層であることを特徴とする。 （もっと読む）