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Fターム[4K029AA11]の内容

物理蒸着 (93,067) | 基体 (14,066) | 材質 (8,002) | 有機質材 (1,647)

Fターム[4K029AA11]に分類される特許

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【課題】採光性を確保しつつ日射遮蔽性を高めることが可能な網入り窓ガラスの日射調整方法を提供する。
【解決手段】透明高分子フィルムよりなるスクリーン基材14と、スクリーン基材14の少なくとも一方面に接着された透明積層フィルム12と、を備え、透明積層フィルム12が透明高分子フィルムよりなるフィルム基材16の少なくとも一方面に日射遮蔽性を有する積層構造部18を備えた構成の透明ロールスクリーンのシート材10,30を、網入り窓ガラス40に対し、室内側のガラス面から1〜300mmの範囲内で離して室内側のガラス面に沿って室内側に配置する。 (もっと読む)


【課題】溶剤系のアンダーコートあるいはプライマー処理を行うことなく、硬質塩化ビニルからなる基材の表面に強固に接着して高温・高湿に対する耐久性に優れた金属皮膜を有する、金属被覆された硬質塩化ビニル基材を提供する。
【解決手段】硬質塩化ビニルからなる基材の表面に表面改質層が設けられ、前記基材の表面改質層を介して、蒸着による金属薄膜層が被覆してなる金属被覆された硬質塩化ビニル基材。表面改質層が、官能基として少なくともカルボキシル基を含むことが好ましい。表面改質層が、窒素ガスを反応ガスとする大気圧プラズマ処理により形成されてなることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも1種の炭化物を含むターゲット17を用い、反応性ガスとして窒素ガスおよび酸素ガスを含む混合ガスを用い、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が1〜10体積%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】PMMAフィルムの接着強度を向上させる。
【解決手段】アクリル酸を含む第1反応ガスをPMMAフィルムに接触させる(第1接触工程)。次に、アルゴンプラズマをPMMAフィルムに照射する(第1照射工程)。次に、アクリル酸を含む第2反応ガスをPMMAフィルムに接触させる(第2接触工程)。次に、アルゴンプラズマをPMMAフィルムに照射する(第2照射工程)。 (もっと読む)


【課題】 積層数が少なくてもガスバリア性に優れ、かつ、高い透明性を有する透明ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板上にガスバリア性を有する透明ガスバリア層が形成された透明ガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、亜酸化物無機層と炭素含有無機層とを含む積層体であり、前記樹脂基板上に、前記亜酸化物無機層と前記炭素含有無機層とがこの順に積層されており、前記炭素含有無機層が、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも1種の炭化物を含むターゲットを用いたスパッタリング法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と、炭素と、窒素とを含む層であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】必要に応じて日射調整することが可能であり、採光性を確保しつつ日射遮蔽性に優れる透明ロールスクリーンを提供する。
【解決手段】透明高分子フィルムよりなるスクリーン基材14と、スクリーン基材14の少なくとも一方面に接着された透明積層フィルム12と、を備え、透明積層フィルム12が、透明高分子フィルムよりなるフィルム基材16の少なくとも一方面に日射遮蔽性を有する積層構造部18を備えた構成であり、可視光透過率65%以上、日射遮蔽係数0.69以下、可視光反射率10%以下、ヘイズ2.0以下に設定されたシート材10を備える。 (もっと読む)


【課題】 接着性、水蒸気バリア性、特に水蒸気バリア性に優れた蒸着用積層フィルムを提供すること。
【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に樹脂組成物層が積層してなる蒸着用の積層フィルムであって、樹脂組成物層は、ウレタン結合基及びウレア結合基と酸基を有するポリウレタン樹脂とオキサゾリン基を含有する樹脂からなる樹脂組成物により形成されることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 (もっと読む)


【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を精密に制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも1種の炭化物を含むターゲット17を用い、反応性ガスとして窒素ガスを用い、前記反応性ガスがさらに酸素ガスおよび水素ガスを含み、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が1〜10体積%であり、前記窒素ガスに対する前記水素ガスの混合比率が0.1〜30体積%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】寸法安定性に優れたディスプレイ用フィルム基板の製造方法を提供する。
【解決手段】バリア層を設ける前の段階において、プラスチックフィルムに張力を加えることなくガラス転移温度より低い温度であって、前記ディスプレイ用フィルム基板上にカラーフィルタまたは駆動素子等のディスプレイ部材を形成する工程の温度以上の所定の温度で加熱処理して、歪みを解消し、その後の工程での寸法安定性を維持可能とした。そして、プラスチックフィルムの両面にバリア層を設けるようにして、さらに寸法安定性を増すとともに、ガス透過の防止をした。 (もっと読む)


【課題】
従来の無機膜成膜に比べて安価に製造ができ、かつ、煩雑な製造工程を必要とせず、容易に優れたガスバリア性と可とう性を有するガスバリア積層体、その製造方法、このガスバリア積層体からなる電子デバイス用部材、及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイスを提供する。
【解決手段】
基材上に、ガスバリア層を有するガスバリア積層体であって、前記ガスバリア層が、有機ケイ素化合物を原料として用いるCVD法により形成された有機ケイ素化合物薄膜に、イオンが注入されて得られたものであることを特徴とするガスバリア積層体、このガスバリア積層体の製造方法、前記ガスバリア積層体からなる電子デバイス用部材、及び、前記電子デバイス用部材を備える電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】 樹脂基板からの脱ガスによるガスバリア性の劣化を抑制し、高いガスバリア性を有する透明ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板上にガスバリア性を有する透明ガスバリア層が形成された透明ガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、亜酸化物無機層と無機層とを含む積層体であり、前記樹脂基板上に、前記亜酸化物無機層と前記無機層とがこの順に積層されており、前記亜酸化物無機層が、スパッタリング法により形成される層であり、前記無
機層が、蒸着法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と、酸素、窒素および炭素から選ばれる少なくとも1種とを含む層であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】クラック発生が抑制された反射防止膜付き光学素子を提供する。
【解決手段】樹脂レンズ上に、無機中間層と、反射防止膜とを形成する反射防止膜付き光学素子の製造方法であって、前記光学素子はリフロー処理が可能な光学素子であり、前記無機中間層は前記樹脂レンズと前記反射防止膜との間に形成され、前記無機中間層の被覆面積Xと、前記反射防止膜の被覆面積Yとの比が0.7≦X/Y<1であり、不連続な膜により構成されている反射防止膜付き光学素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】デジタルカメラ、デジタルビデオカメラのレンズシャッターなどに用いられるシャッター羽根または絞り羽根や、カメラ付き携帯電話や車載モニターのレンズユニット内の固定絞りや、液晶プロジェクタの光量調整モジュールの絞り羽根などの光学機器部品として用いられ、耐熱性、高遮光性、低反射性に優れた耐熱遮光フィルムを提供する。
【解決手段】200℃以上の耐熱性を有する樹脂フィルム基材(A)の片面もしくは両面に、スパッタリング法で形成された50nm以上の膜厚を有する金属遮光膜(B)と、5nm以上の低反射性の金属酸化物膜(D)が積層された耐熱遮光フィルムにおいて、金属遮光膜(B)と金属酸化物膜(D)の間に1〜50nmの膜厚を有する酸化防止膜(C)がスパッタリング法で形成されている耐熱遮光フィルムにより提供する。 (もっと読む)


【課題】スプラッシュ現象の発生を抑制し、高いガスバリア性を付与したガスバリア性蒸着フィルムを提供する。
【解決手段】高分子フィルム基材1上に、金属珪素と、二酸化珪素と、金属ビスマスもしくは酸化ビスマス粉末とを含有し、珪素とビスマスの合計の原子数と、酸素の原子数の比{O/(Si+Bi)}が1.0〜1.8であり、ビスマスと珪素の原子数の比(Bi/Si)が0.02〜0.10である蒸着用材料を加熱方式で蒸発させて蒸着し、蒸着膜の珪素とビスマスの合計の原子数と、酸素の原子数の比{O/(Si+Bi)}が1.6〜1.9であり、ビスマスと珪素の原子数の比(Bi/Si)が0.02〜0.10である無機酸化物膜2を形成した。 (もっと読む)


【課題】一定の組成及び膜厚を有する蒸着重合膜が膜状基材上に積層形成された積層構造体を安定的に製造することができる装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ24内に設置された回転ドラム35の外周面上に膜状基材15を供給する膜状基材供給手段46を設ける一方、真空チャンバ24内で回転ドラム35の外周面に向かって開口する吹出口66を有すると共に、成膜室を内部に備えた複数の吹出口部材64を、真空チャンバ24内の回転ドラム35の周囲に、その周方向に並べて配置し、更に、それら複数の吹出口部材64の成膜室内に、複数種類のモノマー蒸気を供給して、それら複数種類のモノマー蒸気を各吹出口部材64の吹出口66から吹き出させるモノマー蒸気供給手段84a,84bを少なくとも一つ設けて、構成した。 (もっと読む)


【課題】電極パターンを目立たないようにした透明導電膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明層の少なくとも1つの面1aには、凹凸加工により凹部1b及び凸部1cが形成されており、凹部1bに積層された第1の導電層2aと凸部1cに積層された第2の導電層2bとが、凹部1b及び凸部1cの凹凸方向において位置をずらして配置されており、第1及び第2の導電層2a,2bは、それぞれ隣り合う導電層と電気的に絶縁されている。 (もっと読む)


【課題】透明フィルム基材上に結晶質のインジウム系複合酸化物膜が形成された長尺状の透明導電性フィルムを製造する。
【解決手段】本発明の製造方法は、インジウムと4価金属とを含有するインジウム系複合酸化物の非晶質膜が、スパッタ法により前記長尺状透明フィルム基材上に形成される非晶質積層体形成工程、および前記非晶質膜が形成された長尺状透明フィルム基材が、加熱炉内に連続的に搬送され、前記非晶質膜が結晶化される結晶化工程、を有する。前記結晶化工程における加熱炉内の温度は170℃〜220℃であることが好ましい。また、前記結晶化工程におけるフィルム長さの変化率は+2.5%以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】密着層とガスバリア層とをインライン成膜で形成することで、従来よりも密着性に優れたガスバリアフィルムを高い生産効率で提供する。
【解決手段】基材であるプラスチックフィルム1上にプラズマ化学的気相成長法により形成された酸化珪素からなる密着層2とガスバリア層3とを形成する際、基材1が走行する金属ロール電極と、対向電極として、面内に、S・N極一対以上の磁石を設置した円弧状の接地電極とを備え、前記電極間に、例えばヘキサメチルジシロキサンおよび酸素を導入して、処理空間内の圧力を0.5Pa以上20Pa以下として、10kHz以上30MHz以下の高周波を印加し、基材1表面に、密着層2を形成し、さらにその上に酸化珪素ガスバリア層3を形成する。 (もっと読む)


【課題】高い光電変換効率を得るためのダブルテクスチャー構造を有する酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜を用いた太陽電池用透明導電性基板、その製造方法、およびこれに用いるターゲットを提供する。
【解決手段】本発明の太陽電池用透明導電性基板は、表面に凹凸(A)を形成した透明基板と、この透明基板の凹凸上に成膜され酸化亜鉛を主成分とした透明導電膜とを備え、この透明導電膜が表面に前記凹凸(A)より小さな凹凸(B)を有する。 (もっと読む)


【課題】Cu電極の保護膜として使用することができ、Cu電極の電解腐食や原子拡散による電気的特性の劣化を抑制することができ、ウェットエッチングにより高精度のパターニングが可能であり、透明電極との密着性が良好な保護膜を形成することができ、しかも、スパッタリングを効率よく行うことが可能なCu電極保護膜用NiCu合金ターゲット材及びこれを用いて製造される積層膜を提供すること。
【解決手段】15.0≦Cu≦55.0mass%、及び、0.5≦(Cr、Ti)≦10.0mass%を含み、残部がNi及び不可避的不純物からなるCu電極保護膜用NiCu合金ターゲット材及びこれを用いて製造される積層膜。 (もっと読む)


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