【課題】スムーズに歩留まり良くラミネートによる製袋加工を行うことができ、ガスバリア性および耐ピンホール性が高くＳ字カールのない包装物を効率的に得ることが可能な二軸配向蒸着ポリアミド系混合樹脂フィルムロールを提供する。
【解決手段】本発明の蒸着ポリアミド系混合樹脂フィルムロールは、その巻き終わりから２ｍ以内に１番目の試料切り出し部を設け、フィルムの巻き始めから２ｍ以内に最終の切り出し部を設けるとともに、１番目の試料切り出し部から約１００ｍ毎に試料切り出し部を設けた場合、各切り出し部から切り出されたすべての試料について、エラストマーの含有率、引張弾性率、沸水収縮率や厚み方向の屈折率等の物性が、所定の範囲の変動幅になるように調整されている。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ及びＣｒを必須成分とした硬質皮膜に、潤滑性に優れた皮膜を組み合わせることで特に潤滑特性の改善を行い、耐溶着性も併せ持った硬質皮膜被覆部材を提供することである。
【解決手段】基体表面から、最下層、中間積層部、最上層とからなる硬質皮膜被覆部材において、該中間積層部は、金属成分の組成が（Ａｌ_ＷＣｒ_ＸＴｉ_ＹＳｉ_Ｚ）、但し、組成は原子％で、Ｗ＋Ｘ＋Ｙ＋Ｚ＝１００、の窒化物、ホウ化物、炭化物及び酸化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物からなるＡ層とＢ層とが、Ａ層は７０＜Ｗ＋Ｘ＜１００、Ｂ層は３０＜Ｙ＜１００で、層厚方向に交互に積層され、該最上層は、Ｃｒ又はＣｒとＳｉの窒化物、炭化物、硫化物、硼化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物であることを特徴とする硬質皮膜被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】 摺動性、特に、なじみ性に優れた摺動部材を提供する。
【解決手段】 本発明の摺動部材は、基材１と、基材１の少なくとも摺動面側に形成され二硫化モリブデンを含む摺動層２と、を有する摺動部材であって、摺動層２は、基材１上に形成され全体を１００ａｔ％としたときに金属元素および／または金属元素の化合物を１０ａｔ％以下含む第一摺動層２１と、第一摺動層２１に積層され金属元素および／または金属元素の化合物を含まない第二摺動層２２と、からなる。第一摺動層２１の金属元素および／または金属元素の化合物は、第一摺動層２１を１００ａｔ％としたときに３〜７ａｔ％含まれるのが好ましい。
さらに、基材１の表面に形成され基材１と第一摺動層２１との間に位置し、金属元素および／または金属元素の化合物からなり二硫化モリブデンを含まない中間層３を有するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 発光特性のばらつきが小さい均一な薄膜の成膜により、高品質および高輝度の発光層を備える無機ＥＬ素子を製造可能とし、さらに、加工時やスパッタリング時に、割れが生じにくい、チオアルミネートを成分とするＢａＡｌ₂Ｓ₄系のスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 硫化バリウム粉末、モル比Ｓ／Ａｌが１．４０〜１．５０である硫化アルミニウム粉末、および、硫化ユーロピウム粉末を混合した原料粉末を用いて、焼成温度を１０００〜１０５０℃として不活性雰囲気中で焼成し、得られた仮焼粉を、８００〜１０００℃の温度のホットプレス法で成形および焼成する。スパッタリングターゲット中のモル比Ｓ／（Ｂａ＋Ｅｕ）は３．６〜４．０であり、かつ、曲げ強度は６０ＭＰａ以上である。 （もっと読む）

本発明は、データ媒体や銀行券や証明書などの重要書証及び／又は包装及び同様なものを、偽造防止や追跡調査できるようにすることを目的とするものであって、対象物にコーティングを施して、このコーティングの発色を介して光学的に容易に識別でき、かつ、一義的に関連づけできるように特性表示するシステムに関する。本発明は、また、この特性表示システムのための、セキュリティエレメント及びセキュリティマーキングにも関するものであり、これらは、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法による蒸着によって製造することができるもので、本発明は、それらの製造方法及びそれらの使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】各種電子機器、情報機器のディスプレイなどに使用される無機エレクトロルミネッセンス素子を構成する蛍光体膜をスパッタリングにより形成するための高強度スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ａｌ：１５〜４５質量％、Ｅｕ：１〜１０質量％、Ｓ：１０〜２０質量％を含有し、残部がＢａおよび不可避不純物からなる成分組成、並びに金属Ａｌ相、ＢａＳ相およびＥｕＳ相からなる組織を有する無機エレクトロルミネッセンス素子用蛍光体膜を形成するための直流スパッタリングが可能な高強度スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】レーザー光により情報の記録、再生、記録および再生、さらに消去を行う光記録媒体の保護膜を形成するための異常放電発生の少ないスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】モル％で、酸化亜鉛：１０〜３０％、酸化ガリウム：１〜１５％、酸化インジウム：１〜１５％、二酸化珪素：１〜５％を含有し、さらに必要に応じて酸化アルミニウム：０．０５〜２％を含有し、残部：硫化亜鉛および不可避不純物からなる組成、並びに素地中に最大粒径：１５μｍ以下かつ平均粒径:０．５〜３μｍの範囲内にある二酸化珪素が分散している光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 密着性と摺動特性に優れる複合皮膜を提供する。
【解決手段】 Ｔｉ，Ｖ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂのいずれか１種以上の元素からなる窒化物および／または炭窒化物を主体とする硬質皮膜上に、金属元素と二硫化モリブデンからなる潤滑皮膜が存在してなる複合皮膜であって、該潤滑皮膜は、該硬質皮膜側から表面に向かって、金属元素の割合は減少すると同時に、二硫化モリブデンの割合は増加する組成の傾斜を有し、かつ該潤滑皮膜の酸素濃度の最大値は２５原子％以下の、複合皮膜である。この複合皮膜の形成には、硬質皮膜の形成にイオンプレーティング源を用い、潤滑皮膜の形成にスパッタ源を用いる。そして、前記イオンプレーティング源とスパッタ源は一つのチャンバ内に設置されており、チャンバ内に保持した被処理物に、硬質皮膜を３８０℃以上で形成した後には、この被処理物をチャンバ内に保持したままの状態で連続して潤滑皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 硫化アルミニウムを含有する硫化物成膜材料を保管する際に、水分による表面の酸化を防ぎ、保管後の良好な成膜が可能な保管方法を提供する。
【解決手段】 硫化アルミニウムを含有する硫化物成膜材料を、フッ素系液体中に保存する。フッ素系液体は０〜４０℃で液体であり、且つ沸点が７５℃以上１６０℃以下であることが好ましい。好ましいフッ素系液体としては、パーフルオロコンパウンド又はハイドロフルオロエーテルを用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 Ａｌ_２Ｓ_３、ＢａＳ、ＥｕＳからなり、結晶性の良い硫化物蛍光体膜をスパッタリング法で形成するための硫化物ターゲット、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 Ａｌ_２Ｓ_３、ＢａＳ、ＥｕＳの各硫化物粉末を真空若しくは不活性ガス雰囲気中で調整し、得られた混合粉末を０.１Ｐａより良い真空雰囲気中において５０〜１５０℃で３０分以上保持した後、不活性ガス雰囲気中にて９００〜１１００℃の温度で焼結する。得られる硫化物ターゲットは、含有酸素濃度が２重量％未満である。 （もっと読む）

【課題】密着性が優れ、耐酸化性、耐摩耗性、特に潤滑特性、耐欠損性に優れた硬質皮膜を提供すること、及びその被覆方法を提供することである。
【解決手段】物理蒸着法により被覆される硬質皮膜において、該硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｓを含みＣ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＳ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であることを特徴とする硬質皮膜であり、その被覆方法は、アーク放電型イオンプレーティング法とマグネトロンスパッタリング法の蒸着源を同一チャンバー内で同時に放電させることにより形成する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングによって膜を形成する際に、基板への加熱等の影響を少なくし、高速成膜ができ、また膜厚を薄く調整でき、さらにスパッタ時に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減させ、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、かつ結晶粒が微細であり高密度のスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに、特に保護膜としての使用に最適である光情報記録媒体用薄膜及びその製造方法を得る。
【解決手段】Ａ、Ｂは其々異なる３価以上の陽性元素であり、その価数を其々Ｋａ、Ｋｂとしたとき、Ａ_ＸＢ_ＹＯ_{（ＫａＸ＋ＫｂＹ）/2}(ＺｎＯ)_ｍ、０＜Ｘ＜２、Ｙ＝２−Ｘ、１≦ｍを満たす酸化亜鉛を主成分とする化合物を含有し、さらにカルコゲン化亜鉛を含む、相対密度９０％以上、バルク抵抗値０．１Ωｃｍ以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【要約書】
【課題】 ターゲットの材料である粉末の改善を図り、これによって形成したターゲットを用いてＤＣスパッタリングを可能とすることにより成膜の均一性を高め、生産効率を上げることができる光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲットを得ることを目的とする。
【解決手段】 酸化物、窒化物、炭化物、ほう化物、硫化物、けい化物から選択した少なくも１以上のセラミックス粉末に金属又は合金をコーティング又は混合した粉末を主成分とする焼結体からなることを特徴とする光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】転がり摺動部材から発生する摩耗粉を簡易にトラップする。
【解決手段】被処理体に対してアモルファス状又は多層状に固体潤滑膜を成膜する。この成膜は、スパッタリングされるためのターゲット１６ａ，１６ｂ，１６ｃ，１６ｄと、ターゲットの表面に非平衡磁場を発生させる非平衡磁場発生手段１１，１２と、ターゲットからスパッタリングされる物質が付着するように被処理体を対向配置するための配置手段１４とを有し、電磁的に閉鎖した状態で被処理体に成膜する閉鎖磁界不均衡マグネトロンスパッタ（ＵＢＭＳ）装置を用いて行われる。そして、ターゲットの少なくとも１つ（１６ｂ）は磁性体（Ｎｉ）によって構成されているので、かかる装置によって成膜される固体潤滑膜は、被処理体に成膜された状態のときには磁場の影響をほとんど受けず、外力を受けることによって粉体となったときには磁場の影響を受ける。 （もっと読む）

【課題】 本発明はレーザーアブレーション法による、部分硫化酸化チタンを用いた可視光応答型光触媒薄膜を形成する製造方法ならびにその可視光応答型光触媒薄膜を提供する
【解決手段】 本発明は、一定ガス圧力の二硫化炭素等の硫化ガス雰囲気中で、紫外領域で応答する光触媒の酸化チタン薄膜上にレーザー光をパルス状に照射し、レーザーアブレーション法による部分硫化を施すことにより、部分硫化チタン酸化物の可視光応答型光触媒薄膜ならびにその製造方法を得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、厚膜絶縁性電子発光ディスプレイ用の多成分の薄膜の燐光物質のための新規なスパッタターゲット及び蒸着方法であって、蒸着された燐光物質は、テレビ用として要求される高輝度と多色を提供する。 この方法は、反応種と非反応種とを有するガスを含む低圧スパッタリング雰囲気中で、単一の複合ターゲットをスパッタリングするステップを備えている。 この複合ターゲットは、マトリクス相と封入相、若しくは２つのマトリクス相を有しており、前記相の一方が、燐光物質の組成に寄与する一以上の金属元素を含むと共に、成分相の他方が、燐光物質の組成に寄与する残余の元素を含んでいる。 前記方法においては、複合ターゲットのマトリクス相及び封入相のスパッタリング速度を制御するためにスパッタリング雰囲気内で前記反応種の圧力を変化させることにより、蒸着すべき２つの相における元素の割合を、基板上に形成する燐光体膜として所望の割合とするステップを更に備えている。 （もっと読む）

【課題】 優れた耐焼付き性、耐亀裂性、耐溶損性を有した、高寿命の鋳造用部材を提供する。
【解決手段】 熱間ダイス鋼もしくは高速度鋼を母材とする、少なくとも作業面に被覆層を有した鋳造用部材であって、該被覆層の母材直上層には、Ｃｒを主体とする窒化物、酸窒化物、炭窒化物の１種以上からなるａ層が存在し、該ａ層の上にはＶが主体の窒化物、酸窒化物、炭窒化物の１種以上からなるｂ層があり、ｂ層直上にはＣｒおよびＴｉのいずれか１種以上を主体とする金属層であるｃ層が存在し、更に該被覆層の最表層には、Ｏが原子％で２５％以下である硫化物のｅ層があり、かつｃ層とｅ層との間には、ＣｒおよびＴｉのいずれか１種以上を原子％の総量で１０％以上含有する硫化物のｄ層が存在し、かつｄ層においては、Ｃｒおよび／またはＴｉの総量がｃ層側からｅ層側に向かい連続あるいは段階的に減少している鋳造用部材である。 （もっと読む）

この発明は、コーティングされ表面が微細構造化された工作物およびその作製方法に関する。ここにおいては、微細構造の構造深さ（ｓ）は、層厚（ｄ）よりも大きく設定、あるいはこれに対して或る定められた割合に設定される。
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本発明は、多重元素の薄膜発光体組成物の堆積中に蒸発する大気から望ましくない原子種をゲッタリングするための方法である。前記方法は、堆積チャンバ内の発光体膜組成物の堆積直前及び／又は堆積中に、１又は２以上のゲッター種を蒸発することを含む。前記方法は、高誘電率定数を持つ厚膜誘電体層を用いるフルカラー交流エレクトロルミネセントディスプレイに使用される発光体材料の輝度及び放出スペクトルを向上する。 （もっと読む）

単純な方法で二色の接触工具を作ることを許容する単一のＰＶＤコーティングプロセスで製造されるコーティング、特に切削工具のためのコーティングが、提供される。違う色の二つの金属硬質材料の間に、他の層と同様に同一のＰＶＤコーティングプロセスで設けられる分離層１１が設けられる。分離層（１１）は、非常に短い剥離期間において、サンドブラスト、ブラッシング等によって上層の剥離を可能にする。
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