【課題】Ｂｉ原子の拡散が抑制された状態で、Ｂｉ原子の不足を抑制して所望とする組成のＳＢＴ薄膜が形成できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、ストロンチウム（Ｓｒ）とタンタル（Ｔａ）と酸素とからなるＳｒ_pＴａ₂Ｏ_q層１０２が形成された状態とし、ついで、Ｓｒ_pＴａ₂Ｏ_q層１０２の上に、Ｓｒとビスマス（Ｂｉ）とＴａと酸素とからなるＳｒ_xＢｉ_yＴａ₂Ｏ_z層１０３が形成された状態とする。この後、大気圧程度とされた酸素雰囲気において、７００℃に加熱してこの状態を１時間保持し、Ｓｒ_xＢｉ_yＴａ₂Ｏ_z層１０３のＢｉをＳｒ_pＴａ₂Ｏ_q層１０２に拡散させ基板１０１の上に、ＳｒとＢｉとＴａと酸素とからなる結晶化されたＳｒ_rＢｉ_sＴａ₂Ｏ_t膜１０４が形成された状態とする。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜などの硬質皮膜との密着性が良好な硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材２０の表面を処理して、母材２０の最大表面粗さを３μｍ以下にした後、処理装置１０の真空処理室１２内において、ターゲット２２としてクロムターゲットを使用してスパッタリングすることにより、母材２０上にクロム皮膜を介して窒素含有クロム皮膜を形成し、その後、表面の硬質皮膜としてＤＬＣ皮膜を形成する場合には、ターゲット２２としてカーボンターゲットを使用してスパッタリングすることにより、窒素含有クロム皮膜上にＤＬＣ皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】安定した光学特性とを有し、且つ耐久性に富む光学多層膜と、その製造方法とを提供する。
【解決手段】高屈折率誘電体膜３１の一部もしくは全部がアナターゼ結晶構造を有する二酸化チタン製とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸素や水蒸気に対するバリア性の良好なガスバリアフィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基材と、上記基材の少なくとも一方の面に形成され、蒸着膜からなるガスバリア層と、上記ガスバリア層上に形成され、有機金属化合物の加水分解物またはＭ_２Ｏ・ｎＳｉＯ_２（Ｍはリチウムまたはリチウムを含む複数のアルカリ金属、ｎはモル比で１〜２０の範囲内）で表されるアルカリ金属ポリシリケート、およびポリエチレンイミンを含有する膜からなるゾルゲルコート層とを有することを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】 より低い温度で基板を加熱した場合でも金属材料を十分にホールに埋め込むことができる高温リフロースパッタリングの技術を提供する。
【解決手段】 セパレーションチャンバー１の周囲に気密に接続された複数の処理チャンバーのうちの一つはスパッタチャンバー４であり、二段階成膜が行われる。第一の行程ではターゲット４２と基板９との距離は長い第一の距離とされてホール９０の内面にベース薄膜９３が作成され、第二の工程ではターゲット４２と基板９との距離が短い第二の距離とされ、ヒータ４４１で基板９を加熱して薄膜をリフローさせてホール９０内に埋め込む。セパレーションチャンバー１は、冷凍機１３により１３０Ｋ〜５０Ｋに冷却されるパネル１２が設けられ、不純ガスがパネル１２の表面に凝縮される。 （もっと読む）

【課題】乾式下であっても、大気中において、摺動部材の摩擦係数を低減することができる組合せ摺動部材を提供する。
【解決手段】この組合せ摺動部材は、摺動面に非晶質炭素膜を形成した第一摺動部材と、該第一摺動部材の摺動面と摺動する摺動面に窒化炭素膜を形成した第二摺動部材と、を有してなる。 （もっと読む）

【課題】チタンまたはチタン合金からなる母材とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜などの硬質皮膜との密着性が良好な硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】チタンまたはチタン合金からなる母材２０の表面を処理して、母材２０の最大表面粗さを３μｍ以下にした後、処理装置１０の真空処理室１２内において、ターゲット２２としてクロムターゲットを使用してスパッタリングすることにより、母材２０上にクロム皮膜を介して窒素含有クロム皮膜を形成し、その後、表面の硬質皮膜としてＤＬＣ皮膜を形成する場合には、ターゲット２２としてカーボンターゲットを使用してスパッタリングすることにより、窒素含有クロム皮膜上にＤＬＣ皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】窒素ガス等の反応性ガスによるターゲット自体の反応を防止し、所望の光学的・物理的特性を有する窒化物含有薄膜を形成することを可能にする。
【解決手段】ターゲット２２ａ，２２ｂをスパッタして基板Ｓの表面にケイ素を付着させるマグネトロンスパッタ電極２１ａ，２１ｂと、このマグネトロンスパッタ電極２１ａ，２１ｂと離間した位置に形成された反応プロセス領域６０Ａに基板Ｓを搬送する回転ドラム１３と、反応プロセス領域６０Ａに窒素ガスを供給する反応性ガス供給手段７０と、反応プロセス領域６０Ａ内で窒素ガスのプラズマを発生させて基板Ｓに付着したケイ素を窒化ケイ素に変換するプラズマ発生手段６０と、を備えた。ターゲット２２ａ，２２ｂに窒素ガスが供給されないため、窒素ガス等の反応性ガスによるターゲット２２ａ，２２ｂ自体の反応が防止される。 （もっと読む）

【課題】 光触媒の活性が高くガラス等の透明度を必要とする基材においても透明度が高く、付着強度の高い光触媒リン酸カルシウム薄膜を提供する。
【解決手段】 基材表面上にスパッタリング法を用いて、基材側に二酸化チタン、その表面にアモルファス緻密リン酸カルシウム薄膜がコーティングされていることを特徴とする光触媒。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能な有機ＥＬ素子用バリア性基板および有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上に形成され、蒸着膜である第１無機絶縁層と、上記第１無機絶縁層上に形成され、超微粒子で形成された膜である第２無機絶縁層とを有することを特徴とする有機ＥＬ素子用バリア性基板を提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

電源電極を受け入れる部分の上に保護本体を設ける間に、ゲート構造を形成する工程を有する、III族窒化物電力半導体素子を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】 良好な耐摩耗性、耐焼き付き性等を有するとともに、基材への密着性及び靭性にも優れた窒素含有クロム被膜を提供する。
【解決手段】 基材４に接触する基材接触部１１ａと、該基材接触部１１ａより膜厚方向外側の第一の中間部１１ｂと、該第一の中間部１１ｂより膜厚方向外側の第二の中間部１１ｃと、該第二の中間部１１ｃより膜厚方向外側の表面部１１ｄと、を備え、前記基材接触部１１ａと前記第二の中間部１１ｃとの間においては前記第一の中間部１１ｂの含有窒素濃度が最も高く、且つ、前記表面部１１ｄの含有窒素濃度が前記第一の中間部１１ｂの含有窒素濃度以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】オレフィン系プラスチック基板と樹脂層との密着性を向上させることができる積層方法及びその積層方法を用いて作製された光学部品を提供する。
【解決手段】オレフィン系プラスチック基板１０の表面にイオンビームアシスト蒸着法によってＴｉＯ₂ 層２０とＳｉＯ₂ 層３０とをこの順序で積層する。次に、ＳｉＯ₂ 層３０の表面にシランカップリング処理を行なう。その後、ＳｉＯ₂ 層３０の表面に紫外線硬化型樹脂層５０を形成する。 （もっと読む）

【課題】蒸着対象となる基板とメタルマスクとの位置ずれを抑制することが可能な表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 表示素子を画素毎に備えた表示装置の製造装置であって、有機活性層を構成する第１機能層を蒸着する第１チャンバ２１０と、各画素に対応した開口部を有するメタルマスク２２２を備え第１機能層上における画素毎にメタルマスク２２２を介して第２機能層を蒸着する第２チャンバ２２０と、第１チャンバ２１０と第２チャンバ２２０とを接続し第１機能層を蒸着済みの処理基板ＳＵＢを第２チャンバ２２０に搬送する搬送チャンバ２３０と、搬送チャンバ２３０内の処理基板ＳＵＢを所定温度に保温する保温機構２４０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 スループットを低下させることなく、所定の温度まで基板温度を低下させた状態で成膜可能な磁気記録ディスクの製造方法およびその製造装置を提供すること。
【解決手段】 垂直磁気記録方式の磁気記録ディスクの記録層１６をスパッタ法により形成するにあたっては、真空チャンバー２３０内の成膜部１００に磁気記録ディスク用基板１０とターゲット１１０とが対向する空間１５０の周りを囲むように筒状の陰極シールド体１６０を配置しておき、陰極シールド体１６０の内側に冷却ガスを供給して磁気記録ディスク用基板１０を冷却する強制冷却工程と、１００℃以下まで冷却された磁気記録ディスク用基板１０にスパッタ成膜を行うスパッタ成膜工程とを行う。強制冷却工程を行う際、磁気記録ディスク用基板１０に向かう冷却ガスの流れを磁気記録ディスク用基板１０に垂直な方向とする整流部材１８０を磁気記録ディスク用基板１０に対向配置させておく。 （もっと読む）

【課題】 マスクとの接触によるダメージを低減するとともに、目的部分に的確に薄膜を形成し、加工形状歩留まりに優れたマスク及びそのマスクの製造方法並びに液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 液滴吐出用の吐出室１３となる流路が形成されたキャビティ基板２に薄膜を形成するために使用される単結晶シリコン５０ａからなるマスク５０であって、キャビティ基板２の薄膜形成部分（共通電極部３０）に対応した形状に形成された開口部５１を備え、少なくとも吐出室１３となる流路範囲に対向する領域を開口部５１から隔離されたザグリ５２（凹部）として形成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製切削工具を提供する。
【解決手段】高速度工具鋼基体の表面に、いずれも（Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ａ＋Ｂ）}Ａｌ_ＡＳｉ_Ｂ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層、上記薄層Ｂは特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｃ＋Ｄ）}Ａｌ_ＣＳｉ_Ｄ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層、からなり、上記下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＳｉ_Ｆ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】圧電体、圧電素子、圧電素子を用いた液体吐出ヘッド及び圧電素子の製造方法を提供する。
【解決手段】圧電体が、
Ｐｂ（Ｚｒ_xＴｉ_1-x）Ｏ₃ （１）
（式中、ｘは、Ｚｒ、Ｔｉの元素比 Ｚｒ／（Ｚｒ＋Ｔｉ）を表す。）
で表されるペロブスカイト型構造を有するジルコン酸チタン酸鉛を主成分とし、かつ該圧電体のＰｂ、Ｚｒ、Ｔｉの元素比 Ｐｂ／（Ｚｒ＋Ｔｉ） が１．０５以上であり、Ｚｒ、Ｔｉの元素比 Ｚｒ／（Ｚｒ＋Ｔｉ） が０．２以上０．８以下であり、かつ該圧電体のキュリー温度Ｔｃと該圧電体のＺｒ、Ｔｉの元素比に於けるバルク状態でのキュリー温度Ｔｃ₀が Ｔｃ＞Ｔｃ₀＋５０℃ の関係を満たすことを特徴とする圧電体。 （もっと読む）

【課題】結晶性が制御されて高い配向性を有し優れた圧電特性を有し、圧電体膜と電極との密着性が高く、膜剥がれが抑制されて耐久性が高い圧電体を提供することにある。また、作動環境の温度が変化しても圧電特性が劣化しない圧電体を得て、これを用いた圧電体、圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置を提供することにある。
【解決手段】一般式ＡＢＯ₃で表される特定のペロブスカイト型酸化物を含む積層構造を有する圧電体であって、該積層構造は、正方晶、菱面体晶、擬似立方晶、斜方晶および単斜晶のいずれかから選択された結晶相を有する層状の第１の結晶相と、これと異なる結晶相で上記結晶相のいずれかから選択された結晶相を有する層状の第２の結晶相と、第１の結晶相と前記第２の結晶相の間に、結晶相が層の厚さ方向において漸次に変化する境界相とを有し、全体として単結晶構造または一軸配向結晶構造を有する。 （もっと読む）

【課題】 使用中に傷が発生しない高硬度、高耐傷性で腐蝕が発生しない高耐蝕性の金色色調の装飾部品を提供すること。
【解決手段】 ステンレス、ＡｌおよびＡｌ合金、ＴｉおよびＴｉ合金、黄銅などの軟質基材からなる時計外装部品、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフ−ム、ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなどの装飾部品の表面に、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒのうちから少なくとも１種類以上の金属からなる窒化物層とＡｕ合金層が交互に繰り返し積層され、最表層がＡｕ合金層である多層積層構造の硬化層を形成させることにより衝撃によるキズが発生しない高硬度、高耐傷性で腐蝕が発生しない高耐蝕性で金色色調の装飾部品が達成される。 （もっと読む）