【課題】 大気中で繰り返し試運転を行っても寿命低下が少ない固体潤滑膜の提供。
【解決手段】本発明の固体潤滑膜2は、二硫化モリブデンのかさ密度を２．５〜３．０ｇ／ｃｍ^３とした低密度膜2aと、二硫化モリブデンのかさ密度が３．５〜４．８ｇ／ｃｍ^３で膜厚が０．０５〜０．１５μｍの高密度膜2bとを交互に少なくとも４層積層し、最表面を高密度膜としたものである。また、二硫化タングステンのかさ密度を３．８〜４．６ｇ／ｃｍ^３とした低密度膜2aと、二硫化タングステンのかさ密度が５．３〜７．４ｇ／ｃｍ^３で膜厚が０．０５〜０．１５μｍの高密度膜2bとを交互に少なくとも４層積層し、最表面を高密度膜2bとしてもよい。 （もっと読む）

【課題】 記録媒体の基板と垂直磁気記録層の間に設ける軟磁性層を、短時間で厚く皮膜形成が可能でかつ、錯体の錯化状態が変化せず安定して連続めっきが可能な合金めっき法を用いて形成させることにより、スパイクノイズや軟磁性層ノイズが低減された垂直磁気記録媒体を高生産性で安定して得る。
【解決手段】 アルミニウム板またはアルミニウム合金板に非晶質Ｎｉ−Ｐ合金めっき層を設けた基板またはガラス基板に、下から順に、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金めっき層からなる軟磁性裏打ち層、Ｎｉ−Ｆｅ合金とＣｏ−Ｆｅの２層からなる軟磁性バッファー層、反強磁性層、下地層、垂直磁気記録層を順次形成せて垂直磁気記録媒体とする。 （もっと読む）

【課題】 ＴｉＡｌＮを主体として構成される硬質積層被膜の耐溶着性を向上させる。
【解決手段】 ＴｉＡｌＮ層２２ａとＴｉＡｌＮ＋ＣｒＢＮの混合層２２ｂとが交互に積層された下地層２２により、優れた耐摩耗性および靱性が得られるとともに、最上部に設けられて表面を構成するＣｒＢＮ層２６は摩擦係数が小さいため、潤滑性すなわち耐溶着性が向上する。また、ＣｒＢＮ層２６の酸化開始温度は約７００℃と高いため、高温環境下でも優れた被膜特性が安定して維持される。したがって、このような硬質積層被膜２０で被覆されたボールエンドミル１０によれば、硬さが低くて溶着し易い鉄系或いは銅合金等の非鉄系の被加工物から５０ＨＲＣ程度の硬さを有する調質鋼等の高硬度材まで、広範囲に亘って優れた切削性能および耐久性能が得られるようになる。 （もっと読む）

【課題】 従来の焼結法に比べて格段に低温で得ることができる絶縁性ターゲット材料を提供する。
【解決手段】 絶縁性ターゲット材料は、一般式ＡＢ_１−ｘＣ_ｘＯ_３で表される絶縁性複合酸化物膜を得るための絶縁性ターゲット材料であって、Ａ元素は少なくともＰｂからなり、Ｂ元素はＺｒ、Ｔｉ、Ｖ、ＷおよびＨｆの少なくとも一つからなり、Ｃ元素は、ＮｂおよびＴａの少なくとも一つからなる。 （もっと読む）

【課題】 多層膜の成膜において、膜の密着性を高め、クラックの発生を抑制し、成膜後の波長シフトの小さい光学素子の製造を可能とする。
【解決手段】 多層膜の成膜方法であって、通常蒸着により圧縮応力を示す蒸着膜を形成するステップ、及びプラズマを用いた蒸着により引張応力を示す蒸着膜を形成するステップからなる多層膜の成膜方法において、圧縮応力を示す蒸着膜と引張応力を示す蒸着膜とを交互に積層するようにした。 （もっと読む）

【課題】 導電部材中のＣｕ以外の元素の含有量を低減させ、比抵抗を低下させることができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）半導体基板上に、凹部が設けられた絶縁膜を形成する。（ｂ）開口の内面及び絶縁膜の上面を、Ｃｕ以外に第１の金属元素を含むＣｕ合金からなる補助膜で覆う。（ｃ）凹部内に充填されるように、補助膜上に、Ｃｕを主成分とする導電部材を堆積させる。（ｄ）Ｐ化合物、Ｓｉ化合物、またはＢ化合物を含有する雰囲気下で熱処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆切削工具が、超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｃｒ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ及び上記薄層Ｂは、それぞれ特定の組成式を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｃｒ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｃｒ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】高記録密度を有する垂直磁気記録媒体の量産を安定して行うためには、軟磁性下地層の特性を劣化させることなく成膜を行う技術が必要である。
【解決手段】基板１上に密着層２を形成し、次に第一軟磁性層３１及び第二軟磁性層３２をそれぞれ２５ｎｍ形成し、非磁性層３３であるＲｕを形成し、第三軟磁性層３４及び第四軟磁性層３５をそれぞれ２５ｎｍ形成して軟磁性下地層３を作製した。第一軟磁性層３1と第二軟磁性層３２及び第三軟磁性層３４と第四軟磁性層３５はそれぞれ強磁性的に結合しており、第二軟磁性層３２と第三軟磁性層３４はＲｕ非磁性層３３を介して反強磁性的に結合している。その後、基板半径方向に磁界を印加しながら冷却を行い、次に、中間層４であるＲｕを形成し、記録層５を形成し、保護膜６を形成した。 （もっと読む）

【課題】 同一の装置で同時に複数の表面処理を実施することができ、形成される薄膜にピンホールなどの欠陥の発生がなく、多機能化により小型で且つ低コストな巻取式複合真空表面処理装置を提供する。
【解決手段】 略円筒状の真空容器１０内でキャンロール１２の回転に合わせて移動するフィルム１３に表面処理を施す装置であって、２つの表面処理手段がキャンロール１２に対向する側が１８０°より大きな角度で回転軸１６に固定された複数の表面処理手段対１５ａ、１５ｂ、１５ｃを備えている。表面処理手段対１５ａ、１５ｂ、１５ｃを回動して、各処理室Ａ、Ｂ、Ｃのフィルム処理位置に対向する表面処理手段を変えることにより、同一の装置で同時に複数の表面処理を実施することができる。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の耐高温酸化性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の潤滑特性を改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であり、該硬質皮膜中に存在するＳｉはα型Ｓｉ_３Ｎ_４とβ型Ｓｉ_３Ｎ_４の結晶質相として存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、Ｉβ／Ｉα＜１．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】 レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）パーフルオロアルキル基を有する化合物と、（ｂ）界面活性剤と、（ｃ）フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも１種類の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を作製し、該撥水性溶液を蒸着原料として真空蒸着法にて薄膜を形成する薄膜の製造方法、並びに、光学基板と、該光学基板上に多層反射防止膜を形成してなる光学部材の製造方法において、該多層反射防止膜上に、前述の薄膜の製造方法により薄膜を形成する光学部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の耐高温酸化性、潤滑性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の高硬度化による耐磨耗性と密着性の改善を目的とした。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜はｆｃｃ構造の柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、１．０≦Ｉβ／Ｉα≦２０．０であり、Ｘ線回折による（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】ステンレス鋼からなる装飾品で、耐食性が高く、長期にわたって錆発生が極めて起こりにくく、その上、耐傷付き性に優れた耐食性被膜を有する装飾品を提供すること。
【解決手段】ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法で形成された耐食性被膜層と、該耐食性被膜層の表面に乾式メッキ法により形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された硬質被膜層と、該硬質被膜層の表面に乾式メッキ法により形成された貴金属被膜層とから構成されていることを特徴とする。
、耐食性が向上し、長期にわたって錆発生が極めて起こりにくくなり、その上、耐傷付き性に優れ、傷等による外観品質の劣化も起きにくい。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の耐欠損性、潤滑性の特性を犠牲にすることが無く、特に優れた靭性を有する硬質皮膜を提供する。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｓを含みＣ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＳ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】 成膜を繰り返すことによって放電が消滅し易くなるという従来のスパッタ成膜装置の問題点を解決する。
【解決手段】 同一チャンバー内に複数のターゲットを有し、且つそのうちの少なくとも一つが遷移元素ターゲットであり、且つ、該複数のターゲットのうち少なくとも一つが、低吸収なフッ化物薄膜を生成するために水素添加を必要とするような金属ターゲットである反応性スパッタ成膜装置において、該水素添加を必要とする金属ターゲットで放電を行う際に、該遷移元素ターゲット、及びその周辺の電極部を該遷移元素とは異なる材料で被覆しておくことにより、該遷移元素ターゲットの放電安定性を維持する。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の有する耐高温酸化性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の密着性と潤滑特性を改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、Ｉβ／Ｉα＜１．０であり、Ｘ線回折による（２００）面のピーク強度をＩｂ、（１１１）面のピーク強度をＩａとしたときに、Ｉｂ／Ｉａ＞１．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の有する耐高温酸化性と高硬度の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の潤滑特性と靭性の改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、Ｉβ／Ｉα＜１．０であり、Ｘ線回折による（２００）面のピーク強度をＩｂ、（１１１）面のピーク強度をＩａとしたときに、Ｉｂ／Ｉａ≦１．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の有する耐高温酸化性、密着性と潤滑特性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の靭性の改善を目的とした。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜はｆｃｃ構造の柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、Ｉβ／Ｉα＜１．０であり、Ｘ線回折による（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の有する密着性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の潤滑特性と耐欠損性を改善する。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｃを含みＮ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＣ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の密着性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の高硬度化による耐摩耗性を改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であり、該硬質皮膜中に存在するＳｉはα型Ｓｉ_３Ｎ_４とβ型Ｓｉ_３Ｎ_４の結晶質相として存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたとき、１．０≦Ｉβ／Ｉα≦２０．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）