【課題】設置スペースの縮小及び装置コストの低減を図ることのできる大気圧プラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】対向配置された一対の電極（４０）と、一対の電極（４０）に接続された電源（５）と、被処理基材（Ｋ）を保持する保持手段（７，６３ａ）とを備え、一対の電極（４０）の少なくとも一方には、機能物質を含む含機能物質部材（４２）が着脱自在に設けられ、電源（５）は、一対の電極（４０）間の領域に大気圧雰囲気下でプラズマが励起し且つ含機能物質部材（４２）から機能物質がスパッタリングする電力を当該一対の電極（４０）に印加する構成とされ、保持手段（７，６３ａ）は、スパッタリングした機能物質が被処理基材（Ｋ）に到達する位置となるように被処理基材（Ｋ）を保持する構成とされたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れたガスバリア性、耐熱性および密着性等を有しており、かつアクリルポリマー層を高速成膜可能なガスバリア性積層体を提供する。
【解決手段】フィルム基材に、透明無機化合物層およびアクリルポリマー層が順次形成されたガスバリア性積層体であって、前記アクリルポリマー層が、カルボキシル基を有するアクリルポリマーを沸点が５０℃以上９０℃未満である溶剤に希釈させた希釈液から形成されたものであることを特徴とするガスバリア性積層体、このガスバリア性積層体からなるディスプレイ用フレキシブル基板。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア性フィルムを効率良く製造することが可能な透明ガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 同一の真空槽１２を用いて、透明基材フィルム１８の片面または両面にガスバリア性有機薄膜層およびガスバリア性無機薄膜層を形成する透明ガスバリア性フィルムの製造方法において、前記ガスバリア性有機薄膜層の形成は、前記ガスバリア性有機薄膜層形成材料を気化して発生した蒸気を前記透明基材フィルム１に接触させて塗膜を形成し、前記塗膜を硬化して前記透明ガスバリア性有機薄膜層を形成することで実施され、前記塗膜形成を真空槽１２内で実施し、前記塗膜形成において、前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気圧力条件下で前記蒸気を前記透明基材フィルム１８に接触させる。前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気条件下は、例えば、真空槽１２の真空引きとは別に設けた真空ポンプ１９により実現する。 （もっと読む）

【課題】基板を確実に保持でき、且つ、低い照射角で加工用ガスを照射する場合であっても基板の両面を全面に亘って均一に平坦化できる基板保持装置及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板保持装置は、円板状の基板１２の外周部１４を係止するための凹部１６が先端１８に形成され、該先端１８が基板１２の中心の方向に突出して基板１２を外周部１４における複数の位置において支持するように設置される複数の係止器２０を有してなり、係止器２０は、基板１２の厚さ方向の幅が先端１８の方向に該先端１８まで単調に小さくなるように厚さ方向の両側の側面２２が基板１２の表面に対して少なくとも先端１８の近傍において基板１２の中心を臨む方向に傾斜している。 （もっと読む）

【課題】 、光学部品の両面に反射防止膜を形成しても密着力、耐久性を損ねることなく、良好な特性の反射防止膜を形成する方法を提供するものである。
【解決手段】 本発明に関わる反射防止膜形成方法は、基板に金属フッ化物を蒸着することで反射防止膜を形成する方法において、前記基板の表面を蒸着する基板温度が、前記基板の裏面を蒸着する基板温度より25〜60℃低いものである。また、反射防止膜付き基板は、基板に形成された赤外反射防止膜において、基板を加熱して蒸着した表面反射防止膜と、表面を蒸着した温度よりも25〜60℃低い温度で蒸着した裏面反射防止膜と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】光学薄膜の内部応力のために基板が歪んだり膜剥がれが発生する等のトラブルを効果的に回避できる光学部品の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１の成膜面の反対側に、光学薄膜３を単独で基板１に形成した場合に基板１に生ずる反りとは逆の方向に反りを与える反り付与層２を、蒸着またはスパッタリングにより予め形成する工程と、反り付与層２の形成後に基板１の成膜面に蒸着またはスパッタリングにより光学薄膜３を形成する工程と、光学薄膜３の形成後に反り付与層２を除去する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】成膜の条件設定や制御が複雑でなく、また装置構成が簡単で高価とならず、清掃やメンテナンス等に手間がかからないカルーセル型スパッタリング装置を提供する。
【解決手段】所定真空状態のチャンバ２内のターゲット３の前方に回転可能に基板ホルダ４を設け、基板ホルダ４に保持した平板状基板２９の成膜面に、基板ホルダ４を回転させターゲット３の前方を横断させて、所定膜を成膜する装置で、基板ホルダ４の外周部には、基板２９を保持する複数の基板保持具２３が、該基板ホルダ４の回転軸に平行な回動軸２４ａ，２４ｂを備え、保持した基板２９を正逆方向に半回転させることが可能となっており、またチャンバ２には、基板保持具２３の回動機構３１が設けられていて、基板ホルダ４を所定位置に停止させた後、回動機構３１により基板保持具２３を半回転させ、基板２９の成膜面を一方面から他方面に切替えられるようにしている。 （もっと読む）

【課題】真空成形等の三次元の立体成形においても金属光沢層に問題が発生せず、層間密着性を有する、金属光沢を表現した金属調化粧シートを提供すること。
【解決手段】少なくとも熱可塑性樹脂基材、接着剤層、金属光沢層、接着剤層、透明熱可塑性樹脂表面層をこの順に設けてなる金属調化粧シートにおいて、前記金属光沢層が、透明熱可塑性樹脂層の両面に金属蒸着層を設けたものであることを特徴とし、前記透明熱可塑性樹脂層が、厚み６〜１００μｍのポリエステル系かポリオレフィン系樹脂単体または複合あるいは混合物からなり、前記金属蒸着層が厚み５０〜１５０ｎｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着法によって、膜厚のばらつきの少ない防汚膜を光学物品に形成できる防汚性光学物品の製造装置を提供すること。
【解決手段】 円形ドーム形状の支持装置２０に対し、複数の排気口１１１が支持装置２０の回転軸に対して回転対称な配置で設けられているため、排気の流れを支持装置２０の回転軸に対して等方的にできる。排気が等方的に行われることによって、反射防止膜１２等の表面処理が施された基板１５が支持された支持装置２０の異なる位置において、蒸着物質の濃度分布を回転軸に対して等方的にでき、かつ均一にできる。したがって、各プラスチックレンズ１の表面に形成される防汚膜１３の膜厚のばらつきを少なくできる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ガスタービンエンジンで使用される部品のための、経済的で効率のよいハイブリット式断熱被膜の適用方法を提供する。
【解決手段】第１のマスカントで、部品の第１の表面の少なくとも一部をマスキングするステップと、その部品の第２の表面の少なくとも一部に第１の被覆材を適用するステップと、第１のマスカントを除去するステップと、任意に、第２のマスカントで上記部品の第２の表面の少なくとも一部をマスキングするステップと、上記部品の第１の表面の少なくとも一部に第２の被覆材を適用するステップと、上記任意の第２のマスカントを除去するステップ、とを含んでなることを特徴とするハイブリッド式断熱被膜を適用する方法。 （もっと読む）

【課題】 生産性に優れ、ガスバリア性の高い透明ガスバリア膜の製造が可能な透明ガスバリア膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 真空槽１２中でハース３に入れられた有機材料または無機材料に電子ビーム発生器２により電子ビームを照射して物理的に前記有機材料または前記無機材料を気化する。ここで、前記有機材料または前記無機材料の蒸発源である前記電子ビーム発生器２とは別の圧力勾配型プラズマガン１によって発生されるプラズマを利用して、前記気化した有機材料または無機材料を活性化させて、透明基材フィルム１３上に有機薄膜層または無機薄膜層を形成する。 （もっと読む）

【課題】平坦性が優れた透過率を有し、歩留りを高めることができるＮＤフィルターを提供する。
【解決手段】
本発明のＮＤフィルターは、互いに逆向きの第１の平面及び第２の平面を有する基板の第１の平面に第１の吸収フィルムが形成され、前記基板の第２の平面には第２の吸収フィルムが形成され、前記第１の吸収フィルムの透過率及び前記第２の吸収フィルムの透過率が互いに補償され、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域に亘り均一な透過率を有する。 （もっと読む）

本発明は、環境に有害な物質を使用せず、より単純な膜構成で、高温高湿環境下での実用的な耐久性に優れ、しかも可視領域で９８％以上の分光反射率を有する銀鏡を提供することを課題とする。 本発明は、例えば図１に示すように、基体１上に少なくとも反射膜として銀膜３が形成されてなる銀鏡において、前記銀膜３の両面に直接酸化アルミニウムを主体とする膜２、４が形成された構造を有することを特徴とする。また、前記銀膜３の両面側に形成された酸化アルミニウムを主体とする膜２、４が、いずれも膜密度がバルク比０．９５以上（好ましくはバルク比０．９７以上）の膜であることを特徴とする。
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【課題】光学部品の各被成膜面に形成される防汚膜の性能を同等にすることを目的とする。
【解決手段】支持装置８０、カバー８２及び基板４０のいずれかの部材を物体Ａと物体Ｂとした場合に、その物体Ａと物体Ｂとの隙間（距離）ＬがイオンシースＩｄの２倍以内の場合は、正イオンＩｃは、物体Ａと物体Ｂとが負に帯電している吸引力に負けて、物体Ａ又は物体Ｂに引き寄せられて、物体Ａと物体Ｂとの間を通過することができない。したがって、物体Ａと物体Ｂとの隙間（距離）ＬがイオンシースＩｄの０．１倍以上、且つ２倍以内の場合は、正イオンは物体Ａ及び物体Ｂの裏面に到達することができない。このことは、物体Ａ及び物体Ｂの裏面は、正イオンにスパッタされることなく、物体Ａ及び物体Ｂの裏面にある防汚膜或いは他の処理膜はこの処理を施す以前の状態を維持することができる。 （もっと読む）

【課題】従来の蒸着用マスクでは、橋梁部と被加工物表面が接触してしまうことにより、どうしても電極膜の一部に電極膜が形成されない切断部が形成されてしまう。このため、完全に繋がった（電極膜により完全に閉じられた電極膜が形成されていない領域を有する）電極膜による特性に比べ、被加工物がセンサ素子などでは所望の感度を得られない、又圧電材などでは振動特性に不具合が発生する可能性がある。
【解決手段】蒸着用マスクにおいて、マスクパターンの外側輪郭部を構成する第１のマスク部と、該マスクパターンの内側輪郭部を構成する第２のマスク部とが、第１のマスク部及び第２のマスク部の厚みより薄く、且つ被加工物表面にマスクを配置した際に、被加工物表面との間に隙間を形成する形態で繋ぐ少なくとも１つの橋梁部により接続されている蒸着用マスクである。 （もっと読む）

【課題】 基板が薄い場合でも反りの小さい光学素子を提供する。
【解決手段】 厚さが0.3mm〜0.5mmのガラス又は石英からなる基板１の表面に、スパッタリングにより、光学多層薄膜２を成膜する（ａ）。この成膜が完了した状態では、多層光学薄膜２の圧縮応力のために、基板１と多層光学薄膜２は、図の下側に凸となるような形状を有する。その後基板１を反転し、スパッタリングにより、基板１の、多層光学薄膜２が成膜された面と反対の面にSiＯ_２膜３を成膜する（ｂ）。すると、多層光学薄膜２とSiＯ_２膜３の圧縮応力が打ち消し合い、基板１の反りが緩和される。 （もっと読む）

【課題】 膨張黒鉛材料が備える優れた熱伝導特性を損なうことなく、黒鉛粉の落下を生じない膨張黒鉛を用いたシート材料の提供。
【解決手段】 シート状に形成された膨張黒鉛と、該膨張黒鉛のシートの少なくとも一方の面に蒸着されて形成される金属層からなることを特徴とするシート材料である。 （もっと読む）

【課題】 プラズマスパッタリングによる薄板の表面処理装置を提供する。
【解決手段】 被処理部材に対してプラズマ処理を施す表面処理装置において、被処理部材(150)が縦置きで搬送されるチャンバ(40)と、チャンバ内に搬送される被処理部材(150)の表裏面とそれぞれ対向し、該被処理部材の両側に対称となるように配置される、少なくとも該被処理部材と対向する表面にターゲット材料を有する少なくとも一組のスパッタカソード(410,410)と、各スパッタカソードの裏面側にそれぞれ配置されて被処理部材の延在方向に移動可能なマグネット(420,420)と、チャンバ内にプロセスガスを導入するガス供給手段と、スパッタカソードと被処理部材間にプラズマを発生させるプラズマ電源と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 線膨張係数が小さく、透明性、耐熱性、ガス・水蒸気バリア性に優れ、ガラスに代替可能な透明バリア性シートを提供すること。
【解決手段】吸水率が３％以下でガラス転移温度が２３０℃以上の透明樹脂（ａ）とガラスフィラー（ｂ）とから構成される透明複合シート上に、透明でガス・水蒸気バリア性を有する無機化合物から成るバリア層を形成した透明バリア性シートであり、好ましくは、透明樹脂（ａ）が脂環式エポキシ樹脂を構成成分として含む組成物をカチオン系硬化触媒（ｄ）で硬化した架橋体である透明バリア性シート。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板へのスパッタ処理の際のバイアス電圧の印加や、スパッタ法によるエッチング処理の際の給電を良好に行える表面処理装置を提供する。
【解決手段】
本発明の表面処理装置は、表面処理が施される被処理基板を基板ホルダにより一体的に保持した後に表面処理を行う表面処理装置において、上記基板ホルダに給電可能な突出部が設けられていることを特徴とする。かかる構成とすることによって、基板ホルダを介して被処理基板から外方に離間した位置で給電することが可能となる。それにより、プラズマ生成領域の外で給電出来る。また、被処理基板に給電痕を残さずに該基板の両面をプラズマ処理することが可能となる。 （もっと読む）