【課題】冷却効率を向上させ、冷却処理を高速化できる冷却装置を提供する。他の課題は、加熱効率を向上させ、加熱処理を高速化できる加熱装置を提供する。
【解決手段】冷却装置は、チャンバ２１１と、基板１を保持するための基板キャリア２であって、チャンバの搬入口からチャンバ内部の停止位置に搬入されて、さらに前記チャンバの搬出口から搬出される基板キャリア２と、チャンバ内の停止位置に搬入された基板キャリア２の両側に配置された第１冷却板３ａ、及び第２冷却板３ｂと、第１冷却板３ａ又は第２冷却板３ｂのうち少なくとも一つに設けられ、基板にガスを放出するガス放出口４と、ガス放出口４にガスを供給するガス供給手段と、基板キャリア２に近接して第１冷却板及び第２冷却板を移動する移動手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】平面性に優れかつ生産性にも優れる両面金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムを効率よく製造できる成膜方法及びスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】この第１成膜工程に続いて、上記他方の面（第１成膜面）を第２冷却ロール３９に接触させて冷却すると共に、この接触している他方の面とは反対側の一方の面（第２成膜面）に成膜する（第２成膜工程）。この第２成膜工程に続いて、上記一方の面（第２成膜面）を第３冷却ロール４０に接触させて冷却すると共に、この接触している一方の面とは反対側の他方の面に成膜する（第３成膜工程）。これらの工程を順に繰り返しながら、耐熱性樹脂フィルム３２に複数の薄膜を重ねて成膜する。 （もっと読む）

【課題】優れた導電性及び耐食性を有する導電部材、その製造方法、並びにこれを用いた燃料電池用セパレータ及び固体高分子形燃料電池を提供する。
【解決手段】金属基材と、該金属基材上に形成された中間層と、該中間層上に形成された導電層と、を有する導電部材であって、該中間層が、該金属基材の構成成分と該導電層の構成成分と該中間層における結晶化を抑制する結晶化抑制成分とを含む。
金属基材の酸化皮膜を除去する工程（１）と、該工程（１）の後に実施され、該金属基材上に中間層を形成する工程（２）と、該工程（２）の後に実施され、該中間層上に導電層を形成する工程（３）と、を含む導電部材の製造方法であって、該工程（２）において、該金属基材の構成成分と該導電層の構成成分と当該中間層における結晶化を抑制する結晶化抑制成分とを含む中間層を形成する。 （もっと読む）

【課題】１枚の基板に１枚のメタルマスクを用いる場合のメタルマスクの膨張量を基板の膨張量に近づけて蒸着パターンの位置ズレを防止する。
【解決手段】支持体付きメタルマスク装置１００は、半導体基板１０２の複数のスクライブライン１０６を物理的に１枚のプレートで覆い、半導体基板と異なる線膨張係数を有し、複数のチップにそれぞれ対応する複数の所定のパターン１１２を複数の貫通孔として有し、複数の貫通孔を通じて半導体基板に金属を蒸着させる単一のメタルマスク１１０と、メタルマスクの線膨張係数と半導体基板の線膨張係数との間の線膨張係数、又は半導体基板と同一の線膨張係数を有し、複数のスクライブラインの少なくとも一部のスクライブラインに対応する格子部１１６を有する支持体１１４と、一部のスクライブライン内の少なくとも一部の領域において、メタルマスクと支持体とを接続する接合体とを備える。 （もっと読む）

【課題】ITO等の透明導電膜と金属電極及びプラスチックシート又はフィルム基材と透明導電膜との密着力に優れたものであり、透明なプラスチック基材、透明導電膜、金属電極がこの順で形成された透明導電性基材を提供する。
【解決手段】透明なプラスチック基材１の一方又は両方の面に、透明導電膜３が形成され、更にその上に金属電極４が形成された透明導電性基材５であって、該基材と各層の層間剥離力が0.5 Kg/cm以上である透明導電性基材を用いる。 （もっと読む）

【課題】高信頼性を備え且つより安定的に長期間使用可能な燃料電池セパレータ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】燃料電池セパレータ１は、基材３と基材３上に形成されるアモルファス合金層５とを備えたことを特徴とする。基材３は、金属又は導電性樹脂からなる。導電性樹脂は導電性プラスチックでもよい。アモルファス合金層５は積層された膜からなり、主成分は、ニッケル、鉄、クロム及びコバルトの何れかである。アモルファス合金層５の材料は、３つ以上の元素からなる金属ガラスでもよい。 （もっと読む）

【課題】搬送式両面スパッタリング装置による基板への熱ストレスを抑制し、基板品質を劣化させない搬送式両面スパッタリング装置に用いる被処理物保持装置、いわゆる基板ホルダーを提供する。
【解決手段】複数の開口を備え、対向配置される第１遮蔽板と第２遮蔽板と、前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板とに対向し、前記第１遮蔽板と前記第２遮蔽板とに挟まれ配置され、前記被処理物を保持し処理面を開放する開口部を有する保持部を備える保持部材と、を備え前記保持部材は、前記第１遮蔽板および第２遮蔽板とは相対的に移動可能に保持され、前記保持部材の前記保持部と前記第１遮蔽板の前記開口部が、平面視で重なる第１処理位置と、前記保持部材が前記第１および第２遮蔽板に対して相対的に移動し、前記保持部材の前記保持部と前記第２遮蔽板の前記開口部とが平面視で重なる第２処理位置と、を備える搬送式両面スパッタリング装置用の被処理物保持装置。 （もっと読む）

【課題】熱ストレスを抑制し、基板品質を劣化させない両面スパッタリング装置を提供する。
【解決手段】被処理物を固定し、スパッタリング装置１００内で往復移動する搬送装置と、前記被処理物を搬送する方向に交わる方向に対向配置される皮膜の基本組成物からなるスパッタ用ターゲット６０を、前記被処理物の搬送方向に複数配置した第１ターゲット群および第２ターゲット群と、前記スパッタ用ターゲットと前記被処理物との間に、開閉可能なシャッター７１と、を備え、対向配置される前記スパッタ用ターゲットに対応する前記シャッターのどちらか一方が開口し、他の一方が閉口する搬送式両面スパッタリング装置とする。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構造で、被蒸着物の装着位置による膜厚差を低減することができる蒸着治具及びこれを備えた蒸着装置等を提供すること。
【解決手段】可動ホルダ３４が、基板ホルダ３１の外周側において、装着された基板２０を周方向に所定の角度に傾斜させているため、平板では球面から距離が離れやすい外周側であっても基板ホルダ３１内の基板２０に設けられた被蒸着物ＤＳに略均一な膜厚で蒸着することができる。また、可動ホルダ３４によって基板２０を傾斜させる構造であるため、簡単な構造とすることができる。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成される薄膜の密着性を高くし、剥離を防止することのできる光学素子及び光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】光を透過させる基板１０に光学機能膜１３及び光学面１１が形成されてなり、基板１０の表面のうち光学面１１を透過する光が通過する領域をフォトリソグラフィーまたはポッティングにより形成されるマスクまたは予め形成されたマスク部材で覆い、マスクされた領域以外の領域を粗面加工し、粗面加工された領域を含む基板１０の表面に光学機能膜１３及び光学面１１を形成する。 （もっと読む）

【課題】膜形成の条件が限定されない成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１は、シート３に膜を形成するroll to roll方式の成膜装置であり、成膜室２内にシート３を搬送する搬送路２７が設定され、この搬送路２７の側の上方に位置した成膜室２の上部２４に、４０個のフランジ孔２６が形成されている。フランジ孔２６には、搬送路２７を搬送されるシート３に膜を形成するターゲット部５が装脱可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】フィルムなどの基材に対して透明性が高く、優れた密着性を有し、且つパターン形状が目立たない透明導電性積層体を作製し、ディスプレイあるいはタッチパネル向けとして提供する。
【解決手段】透明導電性積層体が、透明プラスチック基材の一方の面又は両方の面に、金属酸化物層、酸化ケイ素層及び酸化インジウム・スズ層を前記透明プラスチック基材側から順に設けてなる透明導電性積層体であって、金属酸化物層の屈折率が１．７以上２．６以下であり、かつ光学膜厚が５ｎｍ以上２５ｎｍ以下であり、酸化ケイ素層の屈折率が１．３以上１．５以下であり、かつ光学膜厚が５０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、酸化インジウム・スズ層の光学膜厚が３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 絶縁基板との接着性及びエッチング性の両方に優れ、回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適したプリント配線板用両面処理銅箔を提供する。
【解決手段】 プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、銅箔基材における一方の表面の少なくとも一部を被覆する第１の被覆層と、他方の表面の少なくとも一部を被覆する第２の被覆層とを備える。第１の被覆層にはＣｒが１８〜１８０μｇ／ｄｍ²の被覆量で存在し、第１の被覆層のＸＰＳによる表面からの深さ方向分析から得られた深さ方向（ｘ：単位ｎｍ）の金属クロムの原子濃度（％）をf₁(x)とし、酸化物クロムの原子濃度（％）をf₂(x)とし、全クロムの原子濃度（％）をf(x)とし（f(x)= f₁(x)+ f₂(x)）、銅の原子濃度（％）をh(x)とし、酸素の原子濃度（％）をｉ(x)とし、炭素の原子濃度（％）をj(x)とし、その他の金属の原子濃度の総和をｋ(x)とすると、区間［０、１．０］において、∫ｈ(x)dx/(∫f(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx + ∫k(x)dx)が１０％以下で、∫f₂(x)dx/(∫f(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx + ∫k(x)dx)が２０％以上で、区間［１．０、２．５］において、０．１≦∫f₁(x)dx/∫f₂(x)dx≦１．０を満たす。第２の被覆層は、白金族金属、金、及び、銀からなる群から選択される１種以上を含む。 （もっと読む）

【課題】厚い部分と薄い部分を有する活物質膜を用い、それにリチウムを附与した際の組成不均一に起因する劣化を防止することが出来るリチウム二次電池用負極の製造装置を提供すること。
【解決手段】排気ポンプで減圧されている真空槽内に配置され基板を搬送する搬送系と、基板近接に配置され前記基板に材料蒸気を付与するための開口面を有する半密閉構造の材料付与源と、前記付与源を加熱する加熱源と、前記付与源の開口面近傍に配置され材料蒸気に指向性を付与するスリット構造とを有し、前記スリット構造は、成膜領域における前記基板の搬送に伴って、前記基板に向かう前記材料蒸気の入射方向が前記基板法線を挟んで逆転する構造であることを特徴とする電気化学素子の成膜装置。 （もっと読む）

【課題】大気開放することなくチャンバー内で防着シールドのクリーニングを行うことができ、メンテナンスコストの低減を図ることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、基板に対してスパッタリング成膜処理を行うときは、カソード１４に電力を印加するとともに、シリンダー部３２を伸ばしてアース電極４１を防着シールド２０に電気的に接続させ、防着シールドをクリーニングするときは、防着シールドに高周波電流を印加するとともに、シリンダー部を縮ませてアース電極と防着シールドを電気的に絶縁することができるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内を真空状態に保ったままでワークを連続的に反転させるワーク連続反転装置を提案する。
【解決手段】本発明によるワーク連続反転装置は、表裏に被成膜面４５，４６を有するガラス板３１が着脱自在に保持されたワークホルダ３２と、それを支持する支持枠３５と、ドーム１５の上面に設けられた円環状レール１７に載置されたウエイトリング２７とを備え、円環状レール１７に形成されたレール溝２０に載置された複数個のベアリングボール６５が、下面側に形成された円環状の支持溝２８に嵌合するようにウエイトリング２７が載置される。ワークホルダ３２に固定された回転軸３３，３４が支持枠３５に支持され、回転軸３３に所定の摩擦力で係合するギヤ軸７１に固定されたピニオンギヤ７０が、ウエイトリング２７に形成されたラックギヤ２９と噛合して、ウエイトリング２７の回転がワークホルダ３２に伝達される。 （もっと読む）

【課題】キャリアからの基板の脱落を防止すると共に、キャリアを高速で搬送することができるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】第１の支持部材４１の熱膨張による水平方向の伸びに応じて、この第１の支持部材４１が支持台４０の取付面Ｓ１に沿った方向に変位可能に支持され、第２の支持部材４２の熱膨張による水平方向の伸びに応じて、この第２の支持部材４２が第１の支持部材４２の取付面Ｓ２に沿って、第１の支持部材４１の熱膨張による水平方向の伸びを打ち消す方向に変位可能に支持され、ホルダ３の熱膨張による鉛直方向の伸びに応じて、このホルダ３が第３の支持部材４３の取付面Ｓ３に沿って、第１及び第２の支持部材４１，４２の熱膨張による鉛直方向の伸びを打ち消す方向に変位可能に支持されている。 （もっと読む）

【課題】薄膜形成後の基板の湾曲が少ない光学物品の薄膜形成方法及び薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】薄膜形成装置は、基板Ｓを保持する基板ホルダ１３と、基板ホルダを挟んで成膜プロセス領域２０、反応プロセス領域６０のそれぞれ反対側に形成された成膜プロセス領域３０，反応プロセス領域７０と、を備え、基板の反対側の面に同時に薄膜を形成するが、この薄膜の膜厚は、基板の一方の面に形成された薄膜の種類及び膜厚に基づいて決定され、薄膜の内部応力による基板の湾曲を相殺しつつ、基板の両面に薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】大面積で結晶性の良い単結晶ダイヤモンドを成長させることができ、高品質の単結晶ダイヤモンド基板を安価に製造できる単結晶ダイヤモンド成長用基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】単結晶ＳｉＣ基板１１の単結晶ダイヤモンドを成長させる側にヘテロエピタキシャル成長させたイリジウム膜又はロジウム膜１２を有する単結晶ダイヤモンド成長用基材１０であって、イリジウム膜又はロジウム膜１２は、単結晶ダイヤモンド成長時に良好なバッファ層として機能する。単結晶ＳｉＣ基板１１とイリジウム膜又はロジウム膜１２の間に、ヘテロエピタキシャル成長させたＭｇＯ膜１３をさらに有する単結晶ダイヤモンド成長用基材１０’であってもよい。基材１０’がＭｇＯ膜１３を有することで、その上のイリジウム膜又はロジウム膜１２の結晶性をより良く形成でき、また、成長させた単結晶ダイヤモンドを分離させる場合に良好な分離層として利用できる。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルムに金属蒸着膜と蒸着重合膜とが積層形成された積層シートを低コストに且つ優れた作業性をもって有利に製造し得る技術を提供する。
【解決手段】排気パイプ２４と真空ポンプ２６によって真空状態とされる真空槽２２内に、巻出し及び巻取りローラ２８，３０と第一、第二、及び第三のローラ３２，３４，３６とを設置すると共に、第一のローラの周面上で、樹脂フィルムの一方の面上に、第一の金属薄膜を形成せしめる第一の金属蒸着手段と、第二のローラの周面上で、第一の金属薄膜上に、樹脂薄膜を形成せしめる蒸着重合手段と、第三のローラの周面上で、樹脂フィルムの他方の面上に、第二の金属薄膜を形成せしめる第二の金属蒸着手段とを更に設置して、製造装置２０を構成する。 （もっと読む）