【課題】ガスバリア性フィルム基材端部の曲折を防ぎ、生産性を向上させたガスバリア性フィルムの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】グラビアロールの彫刻の版深を、中央部近傍から両端部近傍に向けて左右対称、かつ段階的に浅くなるように設け、無機酸化物の蒸着膜上に塗布するガスバリア性組成物の端部の塗布量を減少させる。加えて、彫刻の版深は、グラビアロールの中央部近傍から両端部近傍に向けて左右対称、かつ三段階に順次浅く設ける。 （もっと読む）

【課題】反射率が小さく、透過率が高い優れた反射防止膜を有するだけでなく、プラスチック基材上における、耐衝撃性、密着性、耐熱性、耐摩耗性及び耐アルカリ性に優れ、生産性も良好な光学部材を提供すること。
【解決手段】プラスチック基材と、真空蒸着で形成された多層反射防止膜とを有する光学部材であって、反射防止膜中の少なくとも１層が、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム及び酸化ニオブから選ばれる少なくとも１種の無機物質と、常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として、形成されるハイブリッド層である光学部材である。 （もっと読む）

【課題】ポリアミドフィルムを基材とし、酸化アルミニウムの蒸着層を有するガスバリア性の蒸着バリア包材であって、特にドレッシングなどの酸性度の高い内容物を高温多湿の環境で長期保存してもデラミネーション等が起こらず、高いガスバリア性を継続して有することができる、ガスバリア性のポリアミドフィルム積層体の提供を目的とする。
【解決手段】ポリアミドフィルムからなる基材の片面もしくは両面に、少なくとも、アンカーコート層と、アルミニウムと酸素の存在比がＡｌ：Ｏ＝１：１．８〜１：２．０である酸化アルミニウムの蒸着層と、水溶性高分子と１種以上の金属アルコキシド及びその加水分解物を混合してなる混合溶液の薄膜の加熱乾燥被膜であるガスバリア性被膜層とが順次積層されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 諸物性に優れ、特に、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性に優れていると共に静電防止性に優れ、更に、透明性等を有し、例えば、鰹節、ふりかけ、その他等の乾燥食品を充填包装するに有用である乾燥食品用包材を提供することである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の面に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けて、ガスバリア性積層フィルムを構成し、更に、該ガスバリア性積層フィルムの基材フィルムの面に、帯電防止層を設け、また、上記のガスバリア性積層フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、ヒ−トシ−ル性樹脂フィルムを介在させて、ヒ−トシ−ル性樹脂層を設けたことを特徴とする乾燥食品用包材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】初期反射率がAl並の８８％以上であり、かつ、耐凝集性及び耐硫化性に優れたAg合金薄膜およびこのAg合金薄膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】[1] AuまたはAu、Bi、Snの２種以上を含有するAg合金薄膜であって、式(1) ：5.28[Bi]＋0.15[Au]＋1.14[Sn]≦8.7 、式(2) ：1.0 ≦10[Bi]＋[Au]、式(3) ：2.0 ≦[Sn]＋２[Au]⁴ を満足すると共に、130 〜200 ℃の不活性ガス雰囲気中で熱処理されていることを特徴とするAg合金薄膜、[2] このAg合金薄膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットであって、AuまたはAu、Bi、Snの２種以上を含有すると共に、式(4) ：2.64[Bi]＋0.15[Au]＋1.14[Sn]≦8.7 、式(5) ：1.0 ≦５[Bi]＋[Au]、式(6) ：2.0 ≦[Sn]＋２[Au]⁴ を満足することを特徴とするAg合金スパッタリングターゲット。但し、上記式において、[Bi]、[Au]、[Sn]はBi、Au、Snの含有量（原子％）を示すものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れた金属酸化物積層基板を提供することにある。
【解決手段】基材にアクリル系樹脂およびポリ乳酸系樹脂の樹脂組成物を用い、さらにハードコート層を被覆する事で表面硬度を高めて金属酸化物膜を形成することにより、光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れた金属酸化物積層基板が出来る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明樹脂基板、その中でも特に外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さいアクリル系透明樹脂基板に、ハードコート層を設け、その上に金属酸化物膜を形成することにより、プラズマディスプレイ用光学フィルターに最適な光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れた金属酸化物積層体、および透明電極に最適な光学特性、透明導電膜との密着性およびシート抵抗値の安定性の良好な金属酸化物積層体を提供することにある。
【解決手段】基材にアクリル系樹脂およびスチレン系樹脂の樹脂組成物を用いる事により、この透明基板上に金属酸化物膜を直接形成することができ、光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れた金属酸化物膜積層体を得る事が出来る。またハードコート層の形成を容易にしてさらにハードコート層を被覆する事で表面硬度を高めて金属酸化物膜を形成することにより、光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れる他、シート抵抗値の安定性も改良出来る。 （もっと読む）

【課題】周期表第２Ａ族に属する元素の酸化物からなるＰＤＰ用蒸着材の耐湿性を改善し、電子ビーム蒸着法を使用して基板上に保護膜を成膜するためのターゲット材として使用する焼結体であって、得られた保護膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性、例えば、ＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させることが可能な焼結体及びその製造方法、並びにこの焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】周期表第２Ａ族に属する元素の酸化物からなる相対密度が９０％以上の焼結体で、平均粒子径が１００μｍ以上であるＰＤＰ保護膜用蒸着材であり、また、それらの酸化物単体および、それらの２つ以上の組合せによる混合物あるいは固溶体からなるＰＤＰ保護膜用蒸着材で、更に、有機シリケートで表面処理したことを特徴とするＰＤＰ保護膜用蒸着材である。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法を用いて透明高分子フィルム基材の上に酸化珪素膜を蒸着したフィルムで、着色せず透明であり、かつ、ガスバリア性能を有する、両面の利点を兼ね備えた透明ガスバリア性フィルムを得る。
【解決手段】減圧下で酸化珪素材料をビーム加熱蒸着法により蒸発させることで酸化珪素粒子を得、かつ、前記酸化珪素材料の近傍に水蒸気および二酸化炭素の反応性ガスを導入し、前記酸化珪素粒子を透明高分子フィルム基材の片面もしくは両面に蒸着することで前記透明高分子フィルム基材上に酸化珪素膜を形成することで透明ガスバリア性フィルムを製造する。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性積層体として、高分子フィルム基材１の上に金属または無機化合物からなるガスバリア層２を真空成膜法で形成し、さらにその上にヒートシール材の層４を積層した構造体の製法として、ガスバリア層２とヒートシール材の層４の接着力を、実用上十分な強度とする方法を提供する。さらに、該ガスバリア層の表面に微粒子などのガスバリア性を損なうおそれのあるものの付着を防止する方法を提供する。
【解決手段】 ガスバリア層２の上にポリオレフィン系ポリマー層５を真空成膜法で形成することによって、その上に低温の溶融押し出しラミネート法でポリオレフィン系のヒートシール材層４を積層することができる。ガスバリア層２とその上のポリオレフィン系ポリマー層５をインラインで成膜することによって、微粒子などの付着を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】下地塗装を行うことなく耐食性を有する光輝性金属皮膜を含む樹脂製品を提供する。
【解決手段】樹脂基材１１と、樹脂基材１１上にインジウムからなる光輝性でかつ不連続構造の金属皮膜１２とを含む樹脂製品であって、金属皮膜１２の下にのみ、物理的蒸着法により形成された、酸窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウム又は酸化クロムからなる金属皮膜１２の耐食性を向上させる下耐食保護膜１３を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】包装材料としての通常の加工を施してもガスバリア性が劣化しない、特に高いガスバリア性が必要とされる場合に好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムを得る。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層の上に、重合可能なアクリル系の樹脂から成る第１のフラッシュ蒸着アンカーコート層と、官能基を有するタイプのアクリル系の樹脂から成る第２のフラッシュ蒸着アンカーコート層を順次積層し硬化させた厚さ０．２μｍ以上２０μｍ以下の複合アンカーコート層を有し、前記複合アンカーコート層の上に厚さ５μｍ以上１００ｎｍ以下のガスバリア層と、アクリル系の樹脂から成るガスバリア性被膜層が順次積層されてなり、前記複合アンカーコート層の表面の算術平均粗さが１０ｎｍ以下のガスバリア性積層フィルムを製造する。 （もっと読む）

【課題】高分子フィルム基材の少なくとも一方の面に、バリア性を付与する金属または無機化合物からなる蒸着層と有機化合物層を積層してなるガスバリア性積層体において、金属または無機化合物からなる層と、有機化合物層の接着性を改善したガスバリア性積層体を提供する。
【解決手段】高分子フィルム基材１の少なくとも一方の面に、金属または無機化合物からなる層２、及び有機化合物からなる層３を真空蒸着により順次積層してなるガスバリア性積層体であって、これらの層に、一般式Ｒ¹_nＳｉ（ＯＲ²）_4-nで表されるオルガノシランを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高度なガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム１の一方の面に、第１の無機酸化物の蒸着膜２を設け、更に、該第１の無機酸化物の蒸着膜の上に、一般式Ｒ¹ _n Ｍ（ＯＲ² ）_m （ただし、式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｍ、ｎ、ｍ、ｎ＋ｍの意味は略す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、鱗片形状二酸化ケイ素粒子と、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物による第１のガスバリア性塗布膜を設け、更にまた、上記と同様にして、該第１のガスバリア性塗布膜３の上に、第２の無機酸化物の蒸着膜４と第２ガスバリア性塗布膜５とを順次に設けたことを特徴とするガスバリア性積層フィルムＡ。 （もっと読む）

【課題】 近年、成膜速度が速くなるにつれて、半導体製造装置用のウェハーを載置するホルダーやプラズマ反応を起こす電極としてのステージヒーターの損傷が激しく寿命が短いため、より耐食性、熱衝撃に対しても耐久性の優れたものが求められるようになってきた。
本発明の目的はステージヒーターの外表面に耐食処理を施すことによって、ウェハーの処理品質の向上や長寿命化を図ることにある。
【解決手段】 ステージヒーターの基材の外表面にスパッタリング法やイオンプレーティング法によって、ニッケルやクロム、チタン、ハステロイ、インコネル等の耐食性皮膜を生成させて製作することにより、熱衝撃や腐食性ガスに対する耐久性、耐食性の向上を図ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高度なガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の上に、一般式Ｒ¹ _n Ｍ（ＯＲ² ）_m （ただし、式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｍ、ｎ、ｍ、ｎ＋ｍの意味は略す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、鱗片形状二酸化ケイ素粒子と、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けたことを特徴とするガスバリア性積層フィルムに関するものである。 （もっと読む）

【課題】部品の直線的領域だけでなく、部品の非直線的領域にもコーティングを施すことができるシステムを提供する。
【解決手段】部品の非直線的コーティング用装置（１０）は、ハウジング（１４）と、蒸気源（２０）と、少なくとも１つのノズル（２４）と、真空排気システム（１６）と、を含む。蒸気源（２０）は、ハウジング（１４）内の部品（１２）に向かって蒸気雲を生成する。真空排気システム（１６）は、ハウジング（１４）内の圧力を維持する。 （もっと読む）

【課題】塩水噴霧試験において、変色や溶解を防ぐことができる、高い耐食性および耐塩水性を有する電磁波シールド膜を提供する。
【解決手段】真空蒸着法を用いて、モネル合金を蒸発させるための電流を低電流値より高電流値として第１層をＣｕ−Ｎｉ傾斜合金で形成し、その後、モネル合金をその合金組成で蒸発させて第２層をモネル合金で形成することで、第１層と第２層からなる二層構造である電磁波シールド膜を得る。 （もっと読む）

【課題】ボイル殺菌やレトルト殺菌等の加熱殺菌や加熱調理等による加熱処理がなされても密着性が低下せずに、加熱処理前に有していた当初のガスバリア性が劣化しないようにした、加熱処理耐性を有するガスバリア性積層体の提供を目的とする。
【解決手段】ポリエチレンテレフタレート製基材上に少なくとも無機酸化物からなる蒸着薄膜層が積層されているガスバリア性積層体であって、無機酸化物からなる蒸着薄膜層が積層されている基材の少なくとも一方の表面には放電処理を利用した前処理により前処理部が形成されていると共に、Ｘ線光電子分光法により測定した当該処理部のＣ−Ｃ結合ピークとＣ−Ｏ結合ピークとのピーク間距離が１．６５〜１．７６ｅＶであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】食品や非食品及び医薬品等の高度なガスバリア性が必要とされ、且つレトルト加工を必要とする包装分野に用いられるレトルト適性を付与した透明積層体に関する。
【解決手段】
透明プラスチックフィルムからなる基材のレトルト適性を付与した透明積層体であって、前記透明プラスチックフィルムからなる基材の片面もしくは両面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施し、その上面に無機酸化物からなる蒸着薄膜層、Ｓｉ（ＯＲ¹）₄およびＲ²Ｓｉ（ＯＲ³）₃（但しＲ¹、Ｒ³はＣ_nＨ_2n+1，Ｃ_mＨ_2m，Ｏ・Ｃ_eＨ_2l+1等の加水分解性基、Ｒ²は有機官能基）で表されるケイ素化合物あるいはその加水分解物と水酸基を有する水溶性高分子を混合した溶液を塗布し加熱乾燥してなるガスバリア性被膜層を順次積層した積層体からなることを特徴とするレトルト適性を付与した透明積層体。 （もっと読む）