【課題】 基板（７）上に金属合金被膜を蒸着するための真空蒸着設備を提供する。
【解決手段】 この設備は、閉鎖容器の形態の真空室（６）を含む蒸気発生器−混合器を備え、外部環境に対してその中に真空状態を確保するための手段を備え、かつ外部環境に対してなお本質的に封止されていながら、基板（７）の入口及び出口のための手段を備えており、前記閉鎖容器が、基板（７）の表面に向けてかつそれに垂直に音速で金属合金蒸気のジェットを作るように構成された、エジェクター（３）と称される蒸着ヘッドを含み、前記エジェクター（３）が別個の混合装置（１４）と封止連通され、混合装置（１４）が液体形態の異なる金属Ｍ１とＭ２を含む少なくとも二つのるつぼ（１１，１２）にそれぞれ上流でそれ自身連結されており、各るつぼ（１１，１２）が混合器（１４）にそれ自身のパイプ（４，４′）により連結されている。 （もっと読む）

【課題】
Ｎｉ−Ｍｏ系合金ターゲット板を用いたスパッタリングにおいて、スパッタリング時間の増加に伴うＮｉ−Ｍｏを含んだパーティクルの発生を抑制することができる技術を提供する。
【解決手段】
Ｎｉ−Ｍｏ系合金のスパッタリングターゲット板であって、前記スパッタリングターゲット板の板面の表面から厚さ方向に１０μｍの位置におけるＮｉ濃度及びＭｏ濃度をそれぞれ質量％でＮｉ（１０）及びＭｏ（１０）とし、表面から厚さ方向に１００μｍの位置におけるＮｉ濃度、Ｍｏ濃度を質量％でＮｉ（１００）及びＭｏ（１００）として、次式の関係を満たすことを特徴とするＮｉ−Ｍｏ系合金スパッタリングターゲット板。
−２．０≦ΔＮｉ≦０．２、 −０．２≦ΔＭｏ≦２．０
且つ、
−０．２≦ΔＮｉ＋ΔＭｏ≦０．２
ここで、ΔＮｉ＝Ｎｉ（１０）−Ｎｉ（１００）、ΔＭｏ＝Ｍｏ（１０）−Ｍｏ（１００）
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【課題】成膜する際に、スプラッシュの原因となる蒸着源にて発生する粒子を速やかに取
り除くことにより、スプラッシュに起因する欠陥等の不具合が生じる虞の無い薄膜を成膜
することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを収納する真空容器２と、真空容器２内の側壁かつ基板Ｗの成膜面の
下方に配設され蒸着材料を収納する有底筒状のハース４と、このハース４に収納された蒸
着材料を加熱するプラズマガン５とを備え、このハース４はプラズマガン５と対向して配
置され、このハース４の軸線Ｌ１は、基板Ｗの成膜面の垂線Ｌ２と略直交している。 （もっと読む）

耐プラズマコーティング材料、耐プラズマコーティング、及びそのようなコーティングをハードウェア部品上に形成する方法。一実施形態では、ハードウェア部品は静電チャック（ＥＳＣ）であり、耐プラズマコーティングはＥＳＣの表面上に形成される。耐プラズマコーティングは、熱溶射以外の方法によって形成され、これによって有利な材料特性を有する耐プラズマコーティングを提供する。
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【課題】シリカ膜を形成する蒸着原料材料であって、スプラッシュレスで又はスプラッシュの発生を極微小に抑制し、かつ高速成膜を実現する蒸着原料材料とその製造方法を提供する。
【解決手段】嵩密度が１．２ｇ／ｃｍ^３を超え１．６ｇ／ｃｍ^３以下、かつＳｉＯｘのｘが１を超えて１．３以下である多孔質珪素酸化物。この原料として、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によるＳｉ２Ｐスペクトルにおいて、シリコンの価数が１〜３に相当する結合エネルギーに帰属されるピーク面積が、金属シリコン及び二酸化シリコンを含む全面積の１０％以上となる珪素酸化物が好適に用いられる。そして、これを原料として粉砕し、プレス後、８００〜１１００℃で焼成することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の蒸発量の安定化を図ることにより、蒸着フィルムの収率及び生産性を向上させることができる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、真空チャンバー１１の内部において樹脂フィルム基材１２を連続的に搬送して巻き取りながら、電子銃１６による電子ビーム１９を蒸着材料１７に照射して蒸着材料１７を樹脂フィルム基材１２の下面に蒸着するものである。移動速度制御手段２３は、蒸着材料温度測定手段２２による材料温度測定値が基準値未満であるときに蒸着材料移動手段１８による蒸着材料１７の移動速度を第１の移動速度とし、かつ、蒸着材料温度測定手段２２による材料温度測定値が前記基準値以上であるときに蒸着材料移動手段１８による蒸着材料１７の移動速度を前記第１の移動速度より速い第２の移動速度とする。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯ膜を形成した基板よりも耐摩耗性を含む外的耐性を向上させる。
【解決手段】 基板８１上に透明導電膜からなる電極配線８２が積層形成され、電極配線８２上に保護膜８３が積層形成されている。基板８１上に形成される保護膜は、ＳｉＯＣ膜からなる。なお、少なくとも基板８１への保護膜８３の形成は、下記する成膜装置１であるＭＰＤ装置により行う。 （もっと読む）

【課題】砂付着に対して強い耐性を有し、粒子衝突時の表面仕上げ、硬度、高サイクル疲労強度の劣化が最小限又はゼロに抑えられ、且つ、エアフォイル領域及び表面形状に与える影響が最小限になる表面を有するタービンエンジン部品を提供すること。
【解決手段】耐砂付着性を有するタービンエンジン部品１０の表面１４であって、基材１２と、該基材上に堆積されてコーティング表面１６を形成する炭化物及び／又は窒化物コーティングとから成り、該コーティングの表面の粗度（Ｒａ）が１２マイクロインチ未満である、タービンエンジン部品１０の表面１４。 （もっと読む）

コーティングを堆積させるための処理、特に、腐食の影響を受けやすい流路表面を有するディスクおよび一体型ブレードを有するガス・タービン・エンジン・ブリスクの表面を保護するのに適した耐腐食コーティング。処理には、ブリスクをコーティング材料源に隣接して配置することを、材料源を蒸発させてコーティング材料蒸気を発生させるように構成された装置内で行なうことが含まれる。コーティング材料源に対するブリスクの配向を、ブリスクの回転軸が、コーティング材料源からコーティング材料蒸気がブリスクへと流れる直線経路の約４５度以内になるように、またブレードのより腐食の影響を受けやすい流路表面がコーティング材料源に面するように、行なう。次にブリスクをその回転軸の周りに回転させながら、コーティング材料源を蒸発させてコーティング材料蒸気を優先的に堆積させ、ブレードおよびディスクの腐食の影響を受けやすい流路表面上にコーティングを形成する。
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【課題】有機化合物層のブロッキングがなく、生産性が良好であり、ガスバリア性を向上させることができるガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面上に、１層以上の有機化合物薄膜からなる有機化合物層と１層以上の無機酸化物薄膜からなる無機化合物層とを順次設け、前記無機酸化物薄膜と接する前記有機化合物薄膜はスチレン重合体を含むことを特徴とするガスバリア積層フィルムを用いる。また、前記スチレン重合体を含む有機化合物薄膜の膜厚が１０ｎｍ以上１μｍ以下であることを特徴とするガスバリア積層フィルムを用いる。 （もっと読む）

【課題】良好な保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】成膜装置が備えるハース２０３への成膜材料２０２の供給がシューター２１２を通じて行われる成膜装置であって、シューター２１２の先端とハース２０３に存在している成膜材料２０２の表面とのクリアランスＨが、成膜材料の最大長Ｌの３倍以上である成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】気体と直接接触する環境下における耐ドレンエロージョン性に優れた回転機械用の部品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材１の表面１ａ上にセラミック硬質皮膜３が形成されてなり、該セラミック硬質皮膜３の表面３ａに存在するドロップレットの密度が１０００個／ｍｍ^２以内とされており、且つ、平均粒径が１μｍ以下のドロップレットの密度が５５０個／ｍｍ^２以内とされている。 （もっと読む）

【課題】成膜中に膜材料の表面に付着または析出した異物を落下し易くできる成膜方法、膜材料、および成膜装置を提供すること。
【解決手段】成膜方法は、膜材料２２を蒸発させて基板２８の表面２８ａに成膜する成膜方法であって、膜材料２２は、表面が曲面で構成された形状を有する固体からなり、複数の膜材料２２をハース２０に収容し、膜材料２２の表面を加熱することにより膜材料２２を蒸発させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 成膜方法及び成膜装置に関し、ＦＣＡ法により成膜する際に、成膜レートを維持しつつ、被成膜基板上に付着するマクロパーティクル数を低減する。
【解決手段】 成膜原料のプラズマを発生するプラズマ発生部と、成膜原料を用いて被膜が形成される被成膜基板を内部に保持する成膜室と、プラズマを、プラズマ発生部から成膜室へ誘導する誘導管と、誘導管の内側に配置され、プラズマが通過可能な開口を有するパーティクル阻止部材とを有する成膜装置を用いて、プラズマ発生部においてプラズマを発生させるとともに、プラズマ発生部とパーティクル阻止部材との間に設置された電極に電圧を印加して、プラズマを開口に集め、開口を通過したプラズマにより被成膜基板上に被膜を成膜させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、内部応力が小さい酸化亜鉛薄膜を提供することを課題とする。
【解決手段】透明基材上に蒸着プロセスを経て形成される酸化亜鉛薄膜であり、該薄膜はＣｕＫα線を用いたＸ線回折法により酸化亜鉛の（００２）面からの回折線が得られ、最大ピーク強度Ｉｆ（ｃｐｓ：酸化亜鉛）を膜厚（ｎｍ）と透明基材が示すハローの最大ピーク強度Ｉｓ（ｃｐｓ：透明基材）とで除した数が０．１５以下とすることとし、さらに該薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９８以下とすること。 （もっと読む）

【課題】本願発明の課題は、硬質炭素膜が有する高硬度の特性を維持しつつ耐熱性を改善して、非鉄材料の切削工具表面やダイキャスト金型表面等、高温に曝される工具の耐久性を向上させることである。
【解決手段】本願発明は、基材上に固体カーボンターゲットを用いたフィルタードアーク蒸着により硬質炭素膜を被覆した被覆工具であって、該硬質炭素膜はＳｉを原子％で２％以上、１０％以下含有し、Ｘ線光電子分光分析によりもとめたＳｉＣピーク強度比は０．０５以上、０．５以下であり、ナノインデンテーションによりもとめた硬度は４０ＧＰａ以上、７４ＧＰａ以下であり、該硬質炭素膜表面の凸部及び凹部の面積率をＤ（％）としたとき、Ｄ≦０．０１であることを特徴とする硬質炭素膜被覆工具である。 （もっと読む）

【課題】産業廃棄物が発生せず、コーティングの膜厚や状態の変化が小さく、コーティング能力の経時劣化や粒子同士の融着、金属の残渣など、アルミ発生源である金属に起因する作業性問題を解決することが可能なアルミコーティング方法を提供する。
【解決手段】真空中で被コーティング部材３の表面にアルミニウムをコーティングするアルミコーティング方法において、真空中で、カーボンと接触させた状態でアルミナ５を１３００℃以上に加熱してアルミナ５を分解させると共に、発生したアルミガスを被コーティング部材３の表面にコーティングする。 （もっと読む）

【課題】ＳＯＦＣの集電部材に適用可能な材料として、Ｃｒ被毒の問題がなく、高温での表面電気伝導性が良好であり、かつ耐高温酸化性に優れる通電材料を提供する。
【解決手段】液相線温度１０００℃以上の金属材料、例えば炭素鋼や合金鋼などを基材に持ち、表面に、Ｏ（酸素）、Ｃ（炭素）を除く組成において、Ｆｅ：１〜２０原子％、かつＣｕ＋Ｆｅ：８０原子％以上である平均膜厚０.１〜２０μｍの高温導電性酸化物皮膜を有する通電材料。この高温導電性酸化物皮膜は、例えば酸素含有減圧雰囲気下でＣｕおよびＦｅをスパッタコーティングする方法などにより形成させることができる。 （もっと読む）

【課題】膜質および平滑性が良好、かつ透明な膜を形成することができる成膜装置、成膜方法およびバリアフィルムを提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、スパッタガスおよび反応ガスを供給し、金属ターゲットに第１の電流値で電流を印加して、金属ターゲットの表面が化合物で覆われた状態で金属ターゲットに第１の電流値または第１の電力を印加して成膜した場合の放電電圧をａ（Ｖ）とし、金属ターゲットに第１の電流値または第１の電力を印加して、放電を検出したときの金属ターゲットの電圧を測定し、この電圧が所定の電圧になるように反応ガスの供給量を変えて各電圧で成膜し、放電電圧ａ（Ｖ）で得られた膜の可視光領域における透過率を１００％とし、これに対して８５％の透過率の膜が得られる電圧を放電電圧ｂ（Ｖ）とするとき、金属ターゲットの電圧γが（ｂ−ａ）×０．５＋ａ≦γ≦（ｂ−ａ）×０．９５＋ａを満たす条件で成膜する。 （もっと読む）

【課題】気相潤滑方法用の装置を提供すること。
【解決手段】チャンバー、配列した開口部を有するディフューザープレート、ディフューザープレートの開口部とほぼ同じパターンの開口部を有するシャッタープレート、チャンバー内で被気相コーティング目的物を保持するホルダー、及びシャッタープレートを動かしてシャッタープレートの配列した開口部をディフューザープレートの配列した開口部に合わせるか、またはシャッタープレートでディフューザープレートの配列した開口部を少なくとも部分的に塞ぐアクチュエータを含む気相潤滑用装置。 （もっと読む）