【課題】良好なＤＬＣ膜を形成することができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】プラズマ発生部において発生したマクロパーティクルには、ドロップレットとよばれる液状の飛沫の他に固体状のものも含まれている。固体状のマクロパーティクルは湾曲部の内面に衝突しても、そこに付着しにくく、反射されて基板１１に向かってくる。ところが、湾曲部とチャンバ６との間に、表面に多孔質膜が設けられたフィルタ板５が設置されているので、基板１１に向かってきた固体状のマクロパーティクルは、多孔質膜の空隙に入り込み、その内部で衝突を繰り返す。この結果、固体状のマクロパーティクルの多くは運動エネルギを消失し、多孔質膜に捕獲され、基板１１まで到達することができない。 （もっと読む）

【課題】表面が滑らか若しくは平面的な状態に保たれた密な一次元構造配列又はクロスバー構造を容易に作製できる方法を提供する。
【解決手段】一次元構造配列又はナノクロスバー構造を基板上で、以下のようにして作製する。(i) 基板をセット；(ii) 前記基板上に近接して、スリットを有するシャドーマスク５をセット；(iii) 前記基板上に、第一層を堆積させるための原料を供給； (iv)前記シャドーマスクを、前記基板との平行性を保ちながら、前記基板に対して所定の距離だけ、前記スリットの長さ方向に対する直角方向に移動； (v) 前記基板上に、第二層を堆積させるための別の原料を供給；(vi) 前記シャドーマスクを、前記基板との平行性を保ちながら、前記基板に対して所定の距離だけ、前記スリットの長さ方向に対する直角方向に移動；(vii) シャドーマスク又は基板の総移動距離がスリットピッチに達するまで、上記工程(iii)-(vi)を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】 光学素子の反射防止層上に、光学素子の視認性を損なうことなく、耐久性の優れた防汚層を備えた反射防止層の成膜方法及び同成膜を行うための装置を提供する。
【解決手段】 基材上に反射防止層を成膜し、前記反射防止層上に、厚さ１０ｎｍ以下のポリテトラフルオロエチレン膜を防汚層としてＣＶＤ法により積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れ、且つ接触抵抗が低い燃料電池用金属セパレータの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の燃料電池用金属セパレータの製造方法は、表面が平面の金属基材、または、表面の少なくとも一部に凹形状のガス流路が形成される金属基材を用いて製造する燃料電池用金属セパレータの製造方法であって、前記金属基材を加熱し、且つ電圧印加して行うＰＶＤ法によってＮｂ、Ｔａから選択される１種以上の非貴金属を含んでなる耐酸性金属皮膜を当該金属基材上に成膜する成膜工程Ｓ１と、前記成膜工程Ｓ１後、前記耐酸性金属皮膜を成膜した金属基材を加熱し、且つ電圧印加して行うＰＶＤ法によってＡｕ、Ｐｔから選択される１種以上の貴金属を当該耐酸性金属皮膜上に析出させて島状の結晶粒子を形成する析出工程Ｓ２と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れるとともに、耐酸化性に優れた耐熱耐酸化性炭素膜及びその形成方並びに耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】(1) 炭素を主成分とし、シリコンを含有しており、表面層として酸化シリコン含有層を有する耐熱耐酸化性炭素膜Ｆ、(2) 該膜で被覆された耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品Ｗ、(3) シリコン含有炭素膜ｆ１を形成する工程と、該工程で形成された炭素膜ｆ１の表面を酸化処理して、酸化シリコン含有層ｆ２を形成する工程とを含む耐熱耐酸化性炭素膜Ｆの形成方法及び(4) 耐熱耐酸化性炭素膜被覆対象物品を準備し、該物品の表面の少なくとも一部に(3) の方法により耐熱耐酸化性炭素膜Ｆを形成して耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品Ｗを得る物品製造方法。 （もっと読む）

【課題】 密着性の確保と抵抗値の上昇を抑制した下地膜あるいはカバ−膜を有する金属薄膜配線を提供する。
【解決手段】 Ａｇ膜、Ｃｕ膜、Ａｕ膜あるいはこれらを主体とする合金膜の下地膜として、Ｔｉを２〜５０原子％含有し、残部Ｍｏおよび不可避的不純物からなるＭｏ合金膜が積層されてなる金属薄膜配線である。また、Ａｇ膜、Ｃｕ膜、Ａｕ膜あるいはこれらを主体とする合金膜のカバー膜として、Ｔｉを２〜５０原子％含有し、残部Ｍｏおよび不可避的不純物からなるＭｏ合金膜が積層されてなる金属薄膜配線である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐摩耗性、および耐溶着性に優れているとともに、高い付着強度が得られる高寿命の硬質被膜を提供する。
【解決手段】ドリル１０のボディ１６に設けられた硬質被膜２４は、工具基材２２の表面にＴｉＮ等の化合物層２６が設けられるとともに、窒素含有量が３〜４０at％のＣＮ層２８がその化合物層２６の上に設けられた２層構造を成しており、そのＣＮ層２８によって外表面が構成されており、且つ、全体の平均膜厚Ｄが０．０５〜２０μｍの範囲内とされているため、ＣＮ層２８により優れた耐熱性、耐摩耗性、耐溶着性が得られる一方、工具基材２２の表面には化合物層２６が設けられているため、高い付着強度が得られて剥離等が抑制され、優れた耐久性が得られる。 （もっと読む）

本発明は、カソード３２の蒸発表面３３上でアーク放電を生成するために、リング形状の磁場源２と、カソード３２としての蒸発材料３１を備えたカソード本体３とを有する真空アーク蒸発源１に関する。カソード本体３は、軸線方向において、カソード底部３４によって第１の軸線方向に、また蒸発表面３３によって第２の軸線方向に制限されており、リング形状の磁場源２は、蒸発表面３３の面法線３００に平行又は反平行に極性を有するように、且つ蒸発表面３３の面法線３００に同心になるように配置されている。本発明によれば、磁場振幅リング４が、蒸発表面３３から遠い側で、カソード底部３４の正面に、第２の予め指定された距離Ａ２に配置される。さらに、本発明は、アーク蒸発源１を有するアーク蒸発チャンバ１０に関する。
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【課題】一酸化珪素固体をムラ無く均一に析出させ、高い生産性を有する、一酸化珪素蒸着材料の製造方法を提供する。
【解決手段】二酸化珪素粒と溶融した金属シリコンからなる混合物を準備する工程；前記混合物中の二酸化珪素粒と溶融金属シリコンを反応させて一酸化珪素の気体を発生させる工程；前記一酸化珪素気体から一酸化珪素固体を析出板に析出させる工程、を含む一酸化珪素の製造方法であって、
（Ａ）前記混合物の上部に設けられた析出板に一酸化珪素を連続して析出させながら、析出板上の析出厚みを計測する工程、ならびに
（Ｂ）前記析出板上の一酸化珪素の析出厚みが５ｍｍになるまで、一酸化珪素を、析出速度０．１〜５ｋｇ／ｍ^２・ｈｒで析出させる工程、
を含む方法で、一酸化珪素蒸着材料を製造する。 （もっと読む）

【課題】表面を均一で高精度で再現性のある微細凹凸面とし、腐食性洗浄液、腐食性ガスに対する耐食性に優れ、パーティクルの発生がなく耐久性に優れるなど、機能性、表面特性に優れた石英ガラス材料を提供する。
【解決手段】多関節アームロボット３を利用したレーザー加工装置１のレーザー光の焦点を石英ガラスプレート２の表面に合わせ、所望の表面粗さにするために予め表面粗さＲａ０．５〜５０μｍの範囲内における速度と表面粗さの関係式から求めた速度で移動させて、石英ガラスプレートの表面に微細な凹凸面を形成した。次いで、ダイヤモンド・ライク・カーボン膜（ＤＬＣ）で凹凸面が形成された面を被覆した。パーティクルの発塵がなく、フッ酸耐久性や熱酸化速度が良好であり、ハロゲン化物ガス及び／又はそのプラズマに対する耐食性が高く、半導体製造装置用部材など、表面特性に優れた石英ガラス材料として好適である。 （もっと読む）

【課題】耐食性、密着性に優れた表面にAu-Cu系合金硬化層を有する装飾部品を提供する。
【解決手段】ステンレス、Tiなどの軟質基材からなる装飾部品の表面にAu-Cuを主成分とするAu-Cu-M₁-M₂、ただしM₁はPt,Pd,Ag,Niのうち1種類以上の金属からなり、M₂はTa,Ti,Cr,Feのうち1種類以上からなる合金硬化層を設ける。これにより衝撃、摩擦に起因する基材の露出をふせぐことが可能な高耐傷性、なおかつ腐食が発生しない高耐食性の装飾部品を作ることができる。さらに硬化層と基材の間に中間層としてTi,HfまたはZrのうちから１種類以上の金属からなる窒化物層を有することで、高耐傷性において格別な効果が得られる。 （もっと読む）

【課題】従来のＴｉＡｌＮよりも高速・高能率切削が可能な、耐熱性および耐摩耗性に優れた硬質皮膜形成用ターゲットを提供。
【解決手段】（Ｔｉ_ｘ、Ａｌ_ｙ、Ｍ_ｚ）からなる硬質皮膜形成用ターゲットであって、０．５≦ｘ≦０．８、０．２≦ｙ≦０．５、ｚ≦０．１、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、（Ｍは１種または２種以上の金属又は半金属元素であり、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれＴｉ、Ａｌ、Ｍの原子比を示す。以下同じ)の組成であり、且つ相対密度即ち製品完全固体に対する原料体積比が５０％以上７０％以下であることを特徴とする硬質皮膜形成用ターゲット。 （もっと読む）

【目的】平坦面や曲面で構成された形状だけでなく、中空状等、被加工物がどのような形状であっても、均一な膜形成を行え、プラズマ処理膜の品質向上を図ることのできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。
【構成】プラズマ処理部Ａ１内には、孔又は溝を有したワークが配置され、プラズマ導入路Ａ２２からのプラズマＰ１は、孔又は溝の深さ方向がプラズマ直進方向ＤＰに対応するように導入される。ワーク物体の中空軸がプラズマＰ１の直進方向ＤＰの中心軸に略対応してワークＷ１が設置されている。ワークＷ１への上記プラズマＰ１の直進導入構成と、５ｅＶ以上の高イオンエネルギーを持つイオンを含んだ真空アークプラズマを使用して、孔又は溝の内面に均一な膜形成を高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、長期間にわたる過酷な自然環境に耐え得る、耐熱性、耐候性、耐加水分解性、防湿性、軽量性等の諸特性に優れ、水蒸気（水分）や酸素等の侵入を防止するガスバリア性を著しく向上させ、高温・高湿環境下でのガスバリア性能および太陽電池としての電力出力特性を長期にわたり維持することが可能な耐久性を有し、かつ、安価な太陽電池モジュール用裏面保護シートおよびそれを用いた太陽電池モジュールを提供することを目的とする。
【解決手段】耐侯性・耐加水分解性を有するフィルム基材の少なくとも片面に無機化合物からなる蒸着層を有するガスバリア性フィルムと、前記ガスバリア性フィルムに配置された耐熱性を有するフィルム基材とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チタンまたはチタン合金の摩擦攪拌加工用の安価なツールおよびこのツールを用いてチタンまたはチタン合金を安価に接合あるいは改質するチタンまたはチタン合金からなる摩擦攪拌加工品の製造方法を提供する。
【解決手段】、ニッケル合金からなる摩擦攪拌加工用ツールの表面を、ふっ素イオン注入により表面処理してなるチタンまたはチタン合金用の摩擦攪拌加工用ツール。ふっ素イオン注入は、パルス周波数１〜２ｋＨｚ、室温にて、注入時間１５０〜４００分、好ましくは３００〜４００分の条件で行われる。この摩擦攪拌加工用ツールを用いてチタンまたはチタン合金を摩擦攪拌加工して摩擦攪拌加工品を製造する。 （もっと読む）

【課題】フッ酸、硝酸等の腐食性洗浄液、ハロゲン系、塩素系等の腐食性ガスに対する耐食性に優れ、パーティクルの発生がない耐久性に優れた半導体製造装置用治具を提供する。
【解決の手段】半導体製造装置治具の石英ガラス基材を任意の表面粗さ、表面性状となるように表面加工を施した後、更にその面を硬質皮膜であるダイヤモンド・ライク・カーボン膜（ＤＬＣ）で被覆する。ＤＬＣ膜の厚さが０．５μｍ以上、フッ酸耐久性が０．００５μｍ／ｈｒ以下、６００℃における熱酸化速度が０．１μｍ／ｈｒ以下、密着力が９５／１００個以上、表面粗さが石英ガラス基材の表面粗さに倣った表面粗さとしてそのまま半導体製造装置用治具の表面性状として形成され、ハロゲン化物ガス及び／又はそのプラズマに対する耐食性が高く、パーティクルの発塵を抑制し、耐久性に優れている。 （もっと読む）

【課題】
高分子フィルムの少なくとも一方の面に、バリア性を付与する酸化アルミニウム層に有機化合物層を積層して得られるガスバリア性積層体において、酸化アルミニウム層と有機化合物層との接着性が良好であるガスバリア性積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】
酸化アルミニウム層の表面に温度が６５〜９５℃である熱水を晒し、酸化アルミニウム層表面の酸素／アルミニウム比を１．８〜２．８とすることにより、酸化アルミニウム層と有機化合物層との接着性を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】耐浸食性コーティング組成物及びコーティング方法を含むタービンエンジン構成要素を提供する。
【解決手段】被覆されたタービンエンジン１００構成要素は、タービンエンジン構成要素１０２、１０４、１０６、１０８、１１０、１１２と、電子ビーム物理蒸着又はイオンプラズマカソードアーク蒸着を用いてタービンエンジン構成要素１０２、１０４、１０６、１０８、１１０、１１２の表面の少なくとも一部分上に配置された耐浸食性コーティングとを含んでいる。耐浸食性コーティングは、セラミック、サーメット、又は以上のものを少なくとも１つ含む組合せからなることができる。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性が高く、かつ高い耐欠損性を有する表面被覆工具を提供する。
【解決手段】 基体の表面に、Ｔｉ_{１−ａ−ｂ}Ａｌ_ａＭ_ｂ（Ｃ_ｘＮ_１−ｘ）（ただし、ＭはＴｉを除く周期表４、５、６族元素、希土類元素およびＳｉから選ばれる１種以上であり、０．４≦ａ≦０．６５、０≦ｂ≦０．３、０≦ｘ≦１である。）からなる被覆層１を被覆して、被覆層１は基体１０の表面に対して垂直に伸びる柱状結晶２を主体とした組織からなるとともに、内部に粒状結晶３が分散し、上側に一端が扇状に広がった形状の扇状結晶４が成長してなる表面被覆工具であり、被覆層のクラック対する抵抗力が高くなる結果、耐チッピング性が向上する。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性が高く、かつ高い耐欠損性を有する表面被覆工具を提供する。
【解決手段】 基体の表面に、Ｔｉ_{１−ａ−ｂ}Ａｌ_ａＭ_ｂ（Ｃ_ｘＮ_１−ｘ）（ただし、ＭはＴｉを除く周期表４、５、６族元素、希土類元素およびＳｉから選ばれる１種以上であり、０．４≦ａ≦０．６５、０≦ｂ≦０．３、０≦ｘ≦１である。）からなる被覆層１を被覆してなり、被覆層１は、前記基体の表面に対して垂直な方向に成長した柱状結晶２を主体として構成されるとともに、内部に粒状結晶３が存在し、粒状結晶３の下側に成長した柱状結晶２ａの本数よりも多い本数の柱状結晶２ｂが粒状結晶３を起点にして上側に成長している表面被覆工具であり、耐摩耗性が高く、かつ高い耐欠損性が向上する。 （もっと読む）