【課題】 材料ガスによるプラズマガン内の汚染を防止する。
【解決手段】 プラズマガン１８内で発生されたプラズマ３４は、アパーチャ２４を介して真空槽１２内に供給される。この状態で、真空槽１２内に材料ガスとしてのＴＭＳガスおよびアセチレンガスが導入されると、これらのガスはプラズマ化され、プラズマ化されたガスは、被処理物５４，５４，…の表面において化学反応を起こす。これによって、被処理物５４，５４，…の表面に、シリコンを含有するＤＬＣ膜が形成される。
なお、ＴＭＳガスおよびアセチレンガスは、アパーチャ２４を介してプラズマガン１８内にも流入する。そして、特にアセチレンガスに含まれる炭素によって、プラズマガン１８内が汚染される。しかし、この炭素は、エッチングガスとしての酸素ガスと反応して、二酸化炭素となり、真空ポンプ１６によって真空槽１２の外部に排出される。 （もっと読む）

【課題】処理物である基板の表面に、密着性の良好な、高品質で均一な硬質膜を量産的に形成するためのアーク式イオンプレーティング装置を提供。
【解決手段】真空容器１の中に設けられた、回転式装着用治具８に保持された基材９の１側に向かって真空容器１の内側のアーク式蒸発源６に取り付けられた陰極を構成するターゲット10、真空容器１に対して基材９に負のバイアス電圧を印加する第１の直流のバイアス電源12、基材９を挟むように基材９の他側に向けて真空容器１内上部に取り付けられた圧力勾配型プラズマ電子銃２、及び真空容器１内に配置したアノード16に対して圧力勾配型プラズマ電子銃２に負のバイアス電圧を印加する直流電源15、を有する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理の際に生じるドロップレットや飛散粒子の被処理体への到達を抑えることができる表面処理装置及びそれによって表面処理される光学素子成形用型を提供すること。
【解決手段】 表面処理装置１は、真空チャンバ２と、陰極とされるターゲット３と、ターゲット３から離間して配され、ターゲット３との間に形成される空間にアーク放電を誘起するアーク電極（陽極部）５とを有し、アーク放電によって生じるターゲットイオンを含むプラズマ６をターゲット３の先端方向に放出する蒸着源７と、光学素子成形用型母材（被処理体）８を載置する支持台１０と、蒸着源７から放出されるプラズマ６の進行方向を支持台１０の中心軸線Ｃ方向に変える偏向部１１と、支持台１０表面をターゲット３に対して回転移動させる移動部１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
多元系ターゲット材の製造において、成膜時の印加圧力によって破損しない機械的強度を有するターゲット材を製造する方法を提供すること。
【解決手段】
原料粉末がバインダと金属粉末または化合物粉末の１種または２種以上とからなるターゲット材組成物により形成される多元系ターゲット材において、ターゲット本体部の周辺に成膜装置への取り付け用の鍔部が一体的にはり出し形成されかつ前記ターゲット本体部よりも鍔部にかけて密度が高くなっている多元系ターゲット材を製造する。 （もっと読む）

【課題】 高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-XＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．７５を満足する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．１〜０．５μｍの平均層厚を有するＣｒＮ層からなる密着接合層、（ｃ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＣｒ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＣｒの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】付着力が高く、優れた耐摩耗性を発揮する硬質膜を具備した表面被覆体を提供する。
【解決手段】基体２の表面に、少なくともＴｉとＡｌを含む窒化物、窒酸化物、炭窒化物、炭窒酸化物の１種以上で構成される硬質膜３を少なくとも１層被覆した表面被覆体１において、硬質膜３中に不活性ガス元素（Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒ、Rn）の1種類以上を０．０１質量％〜１質量％含むとともに、Ｘ線回折法で検出されたピークのうち、結晶の（１１１）面に起因するピークの強度を最大とする。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-(X+Z) Ａｌ_XＳｉ_Z）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＺｒ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＺｒの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足する（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＴａ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＴａの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ含有皮膜を高硬度化させ、硬質皮膜全体の高硬度化並びに耐熱性を向上させ、耐剥離性に優れ、耐摩耗性の要求される部材等に最適な硬質皮膜を提供し、この硬質皮膜を被覆した硬質皮膜被覆部材及びその被覆方法を提供する。
【解決手段】基体に硬質皮膜を積層した硬質皮膜被覆部材において、硬質皮膜は最下層と最上層と中間積層部とを有し、最下層はＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｎｂから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物主体の硬質皮膜、最上層はＳｉが１０から３０％を含有し、非金属成分としてＮ、Ｃ、Ｏ、Ｂの１種以上を含有する非晶質相を含有し、硬度が４０から８０ＧＰａの高硬度な硬質皮膜、中間積層部は金属元素としてＡｌ及びＳｉを含有し、残部Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｗから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物、酸窒化物、硼窒化物又は炭窒化物の何れかが主体の積層部、該積層部はＡ層とＢ層とが交互に積層される。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-(X+Z) Ａｌ_XＢ_Z）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 基材の劣化を伴うことなく、高温環境下での優れた耐摩耗性と耐溶着性を備えた被膜を提供する。
【解決手段】 酸化物層を少なくとも１層含む被膜であって、該酸化物層は、γ−Ａｌ₂Ｏ₃型の結晶構造を有する（Ａｌ_1-XＭ_X）₂Ｏ₃（式中、ＭはＹまたはランタノイドから選ばれる少なくとも１種の元素を示し、Ｘは０．００１≦Ｘ≦０．３５である）を含有し、該γ−Ａｌ₂Ｏ₃型の結晶構造を有する（Ａｌ_1-XＭ_X）₂Ｏ₃は、上記酸化物層の断面積において５０％以上９９％以下の面積を占めるような比率で含有されていることを特徴とする被膜に関する。 （もっと読む）

【課題】 難削材の高速切削ですぐれた耐摩耗性を発揮する立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削チップを提供する。
【解決手段】 立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削チップを、窒化チタン：３１〜３６％、炭窒化チタン：１０〜１５％、ＴｉとＡｌの金属間化合物：１〜５％、ＴｉとＡｌの複合窒化物：２〜６％、炭化タングステン：１．５〜６．５％、立方晶窒化ほう素：残り（ただし、４１〜４７％含有）、からなる配合組成（以上、％は質量％を示す）を有する圧粉体の超高圧焼結材料で構成され、かつ、走査型電子顕微鏡による組織観察で、分散相を形成する立方晶窒化ほう素相と連続相を形成する炭窒化チタン相との界面に超高圧焼結反応生成物が介在した組織を有する切削チップ本体の表面に、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ）Ｎ、（ただし、Ｘは、原子比で０．０１〜０．０５）、を満足するＴｉとＳｉの複合窒化物層からなる表面被覆層を１〜８μｍの平均層厚で蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】従来のTiN 皮膜、TiC 皮膜、TiCN皮膜、(Al,Ti)(N,C)系皮膜の中で最も耐摩耗性に優れている(Al,Ti)(N,C)系皮膜よりも耐摩耗性に優れ、高速切削の場合に対応可能な耐摩耗性を有する硬質皮膜を提供する。
【解決手段】（１）結晶質の硬質皮膜であって、AlとＸ（Ｘ：Cr、Ｖの一種）の複合窒化物、複合炭化物、複合ホウ化物、複合炭窒化物、複合ホウ窒化物、複合炭ホウ化物または複合炭窒ホウ化物よりなり、そのAlとＸの組成が、（ Al_1-yＸ_y ）〔但し、Ｘ：Cr、Ｖの一種、０＜ｙ≦０．３〕で示される組成からなることを特徴とする硬質皮膜、（２）前記硬質皮膜において膜厚が0.1 〜20μm であるもの等。 （もっと読む）

【課題】金型や切削工具等の金型加工工具表面用保護膜によって、成型品の外観を向上させるために、ある程度の高硬度を有すると共に、潤滑性を向上させ、且つ濡れ性を低下させる。
【解決手段】 気相薄膜形成法によって金属表面に形成される、遷移金属元素の窒化物と非晶質構造の炭素との混合膜又は積層膜からなる金属加工工具表面保護膜。 （もっと読む）

【課題】 Ｓｉ含有皮膜を高硬度化させ、硬質皮膜全体の高硬度化、耐剥離性に優れ、耐摩耗性の要求される部材等に最適な硬質皮膜を提供し、この硬質皮膜を被覆した硬質皮膜被覆部材及びその被覆方法を提供する。
【解決手段】 基体に硬質皮膜を積層した硬質皮膜被覆部材において、硬質皮膜は最下層と最上層と中間積層部とを有し、最下層はＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｎｂから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物主体の硬質皮膜、最上層はＳｉが１０から３０％を含有し、非金属成分としてＮ、Ｃ、Ｏ、Ｂの１種以上を含有する非晶質相を含有し、硬度が４０から８０ＧＰａの高硬度な硬質皮膜、中間積層部は金属元素としてＡｌ及びＳｉを含有し、残部Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｗから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物、ホウ窒化物又は炭窒化物の何れかが主体の積層部、該積層部はＡ層とＢ層とが交互に積層される。 （もっと読む）

【課題】 荷電ビーム照射に伴うレジストの帯電及び放電破壊を防止することができ、露光用マスクにおけるパターン精度の向上及び製造歩留まりの向上をはかる。
【解決手段】 露光光に対して透明な基板１１上の一主面に荷電ビームリソグラフィーを含むプロセスによりパターンを形成するための露光光に対して不透明な導電性の遮光体１２を形成したマスクブランクス基板であって、基板１１の一主面上の４隅を含む全面がく導電性材料で覆われている。 （もっと読む）

【課題】高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被削材元素の拡散を抑制し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜で被覆された工具を提供することを目的とする。
【解決手段】周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ及びＳｉから選択される１種以上の元素と、Ｃ、Ｎから選択される１種以上の元素と、ＳとＯとを含有する硬質皮膜であり、電子分光分析法によって該硬質皮膜の表面にはＳとＯとの結合状態を示すピークが検出され、該ＳとＯとの結合状態を示すピーク位置が１６７〜１７０ｅＶの範囲内にあることを特徴する硬質皮膜及びその製造方法に、少なくとも２種以上のプラズマ密度の異なる物理蒸着による蒸発源を用いて被覆することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐焼き付き性に優れる硬質皮膜とその形成方法を提供する。
【解決手段】 (1) （Ｘ_C , Ｍ_1-C ）（Ｂ_a Ｃ_b Ｎ_1-a-b ）からなる硬質皮膜であって、ＭはＷ、Ｖの１種以上、Ｘは4A、5A族、6A族の元素およびAl、Si、Fe、Co、Niの１種以上であり、式(1) 〜(4) 〔式(1):0.05≦ａ≦0.7 、式(2):０≦ｂ≦0.5 、式(3):０＜１−ａ−ｂ、式(4):０≦ｃ≦0.3 〕を満たすことを特徴とする硬質皮膜。但し、ａはＢの原子比、ｂはＣの原子比、ｃはＸの原子比である。(2) （Ｘ_C , Ｍ_1-C ）（Ｂ_a Ｃ_b Ｎ_1-a-b ）からなる皮膜とＢ_1-d-e Ｃ_d Ｎ_e からなる皮膜とを２層以上積層してなる硬質皮膜であって、ＭはＷ、Ｖ、Moの１種以上、Ｘは前記(1) の場合と同様であり、式(5) 〜(8) 及び式(9) 〜(10)〔式(5):０≦ａ≦0.7 、式(6) 〜(8):式(2) 〜(4) と同様、式(9) ：０≦ｄ≦0.25、式(10): （１−ｄ−ｅ）／ｅ≦1.5 〕を満たすことを特徴とする硬質皮膜等。 （もっと読む）