ガラス状基材に減圧下で適用される薄層のスタックによって形成される、層（Ｂ）と基材との間に配置された少なくとも１つの層（Ａ）の少なくとも一方の表面部分の処理方法は、少なくとも１つの薄層（Ａ）を前記基材の表面部分に減圧堆積プロセスによって堆積し、少なくとも１つのリニアイオン源を用いて、イオン化された種のプラズマをガス又はガス混合物から発生させ、該プラズマに前記層（Ａ）の少なくとも一方の表面部分をさらして、前記イオン化された種により該層（Ａ）の表面状態を少なくとも部分的に改質するようにし、少なくとも１つの層（Ｂ）を該層（Ａ）の表面部分に減圧堆積プロセスによって堆積することにある。 （もっと読む）

本発明は、真空蒸着法を用い、母材であるパウダーの表面上に、サイズの均一性に優れた金属、合金及びセラミックスのナノ粒子を蒸着させるパウダーの製造方法、及びその製造装置に関する。特に、本発明は、極めて均一なサイズを有する金属、合金及びセラミックスのナノ粒子が蒸着されたパウダーの製造方法及びその装置を提供するものであって、蒸着と撹拌が別々に行われる従来方法の短所を解決するために、効率的な撹拌手段を用いて蒸着と撹拌とを同時に行うものである。また、本発明は、ナノ粒子が蒸着されたパウダーの製造方法、及びその製造装置を提供するものであって、ナノ粒子の製造において、ナノ粒子の量を増大させるために蒸着時間が増大した場合であっても、ナノ粒子の凝集現象を抑制することにより、ナノ特性が維持される。 （もっと読む）

【課題】乾式下であっても、大気中において、摺動部材の摩擦係数を低減することができる組合せ摺動部材を提供する。
【解決手段】この組合せ摺動部材は、摺動面に非晶質炭素膜を形成した第一摺動部材と、該第一摺動部材の摺動面と摺動する摺動面に窒化炭素膜を形成した第二摺動部材と、を有してなる。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の耐欠損性、潤滑性の特性を犠牲にすることが無く、特に皮膜の低応力化により優れた密着性を有する硬質皮膜を提供することとその被覆方法を提供する。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｓを含みＣ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＳ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、Ｘ線回折による（２００）面のピーク強度をＩｂ、（１１１）面のピーク強度をＩａとしたときに、そのピーク強度比Ｉｂ／Ｉａは、Ｉｂ／Ｉａ＞１．０であることを特徴とする硬質皮膜とその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 電解研磨または化学研磨によって金属基材の表面粗さを改善し、優れた超電導特性を有する酸化物超電導導体の提供。
【解決手段】 Ｍｏを含まないＮｉ−Ｃｒ合金からなり、その表面が電解研磨または化学研磨された金属基材上にイオンビームアシスト法によって多結晶中間薄膜が設けられ、該多結晶中間薄膜上に酸化物超電導体薄膜が設けられてなることを特徴とする酸化物超電導導体。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の有する耐高温酸化性、密着性と潤滑特性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の靭性の改善を目的とした。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜はｆｃｃ構造の柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、Ｉβ／Ｉα＜１．０であり、Ｘ線回折による（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の耐欠損性、潤滑性の特性を犠牲にすることが無く、特に優れた靭性を有する硬質皮膜を提供する。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｓを含みＣ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＳ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の密着性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の高硬度化による耐摩耗性を改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であり、該硬質皮膜中に存在するＳｉはα型Ｓｉ_３Ｎ_４とβ型Ｓｉ_３Ｎ_４の結晶質相として存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたとき、１．０≦Ｉβ／Ｉα≦２０．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の有する密着性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の潤滑特性と耐欠損性を改善する。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｃを含みＮ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＣ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．５〜２μｍの平均層厚を有し、かつ特定の組成式：（Ｔｉ_1-ＺＡｌ_Ｚ）Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層からなる基体密着層、（ｂ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつ特定の組成式：（Ｔｉ_{1-（X＋Ｙ）}Ａｌ_XＳｉ_Ｙ）Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｃ）０．１〜１．５μｍの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、（ｄ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつＶＯ_Ｍ（酸化バナジウム）の素地に、前記ＶＯ_Ｍとの合量に占める割合で、０．５〜７原子％の金属Ｖが分散分布した組織を有するＶ分散ＶＯ_Ｍ層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｄ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】
スパッタ粒子または蒸発粒子を反応させることによる成膜対象物表面の成膜の成膜速度が速い成膜装置および成膜方法の提供。
【解決手段】
ＥＣＲによってアルゴンガスがイオン化されて生成したプラズマ中のアルゴンイオンがターゲット電圧による電界によってスパッタカソード方向に加速され、スパッタカソード５に入射すると、アルミから成るスパッタ粒子がスパッタカソード５から基板６方向へと放出される。一方、中性粒子ビーム生成室８では、プラズマから多量の負イオンが発生する。発生した負イオンは、グリッド電極１０へ向かって加速され、グリッド電極１０の細穴を通過すると負イオンの電荷が取り除かれ、中性粒子ビームとして基板６方向へ照射される。基板６方向へ放出されたアルミのスパッタ粒子は、基板６表面で窒素の中性粒子ビームと化学反応し、その反応生成物による窒化アルミ薄膜が基板６の表面に形成される。 （もっと読む）

【課題】高硬度、耐高温酸化性の優れる硬質皮膜においても密着性を犠牲にすること無く、特に靭性を改善することである。併せて高温状態での耐溶着性、潤滑特性も改善し、例えば切削加工などにおける乾式化、高速化、高送り化に対応可能な硬質皮膜を提供することである。
【解決手段】物理蒸着法により基体表面に形成された硬質皮膜であって、該硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 一般的な成膜装置を用いた場合でも、安価に所望の膜厚を有する多層膜を高精度で成膜できるようにする。
【解決手段】 開示される多層膜の成膜方法は、光学基板２上に、高屈折率膜４ａをその設計上の膜厚を制御膜厚として成膜する第１層成膜工程と、成膜された膜上に、低屈折率膜５ａ又は５ｂ、高屈折率膜４ａ又は４ｂを低屈折率膜５ａ又は５ｂあるいは高屈折率膜４ａ又は４ｂの設計上の膜厚の所定の割合の膜厚を制御膜厚として成膜する上層成膜工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】 密着性と摺動特性に優れる複合皮膜を提供する。
【解決手段】 Ｔｉ，Ｖ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂのいずれか１種以上の元素からなる窒化物および／または炭窒化物を主体とする硬質皮膜上に、金属元素と二硫化モリブデンからなる潤滑皮膜が存在してなる複合皮膜であって、該潤滑皮膜は、該硬質皮膜側から表面に向かって、金属元素の割合は減少すると同時に、二硫化モリブデンの割合は増加する組成の傾斜を有し、かつ該潤滑皮膜の酸素濃度の最大値は２５原子％以下の、複合皮膜である。この複合皮膜の形成には、硬質皮膜の形成にイオンプレーティング源を用い、潤滑皮膜の形成にスパッタ源を用いる。そして、前記イオンプレーティング源とスパッタ源は一つのチャンバ内に設置されており、チャンバ内に保持した被処理物に、硬質皮膜を３８０℃以上で形成した後には、この被処理物をチャンバ内に保持したままの状態で連続して潤滑皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 水分や不純物等の浸入を防止することが可能な、液晶装置６０を提供する。
【解決手段】 基板本体１０Ａの表面に突起８１が形成され、その表面に倣って形成された無機配向膜１６の表面に凸部８２が形成され、また基板本体２０Ａの表面に溝９１が形成され、その表面に倣って形成された無機配向膜２２の表面に凹部９２が形成され、そして凸部８２および凹部９２の表面にシール材１９が配設されて、液晶層５０が封止されている構成とした。 （もっと読む）

【課題】 複数のスパッタリングターゲットを備えたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るスパッタリング装置は、被成膜基板１３にスパッタリングにより薄膜を成膜するスパッタリング装置であって、真空容器１０と、前記真空容器１０内に配置された第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６と、前記第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６それぞれに高周波電流を出力する高周波電源３３〜３５と、前記真空容器内に配置され、被成膜基板を保持するサセプタ１４と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ナノ狭窄スペーサを有する磁気抵抗（ＭＲ）センサのスピンバルブ内に使用する薄膜の生成方法を提供する。
【解決手段】 スピンバルブのボトムをピン層まで蒸着し、蒸着室を用意し、スペーサ層をその上にスパッタリングする。主イオンビームが磁性チップと絶縁材を含む合成面上にイオンを生成する。同時に、支援イオンビームが基板に直接イオンを供給し、かくしてスペーサ層の柔軟度と平滑度を改善する。中和器もまた配設し、イオン反発を防止し、イオンビーム合焦を改善する。その結果、薄膜スペーサを形成することができ、低保磁力とフリー層とピン層の間の低層間結合とを有するナノ狭窄ＭＲスピンバルブが形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ターゲットの消耗量を減らすことができ、被蒸着物と蒸着膜との密着力を向上させることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明による蒸着装置は、前記被蒸着物を収容する第１真空チャンバーと；前記第１真空チャンバー内に設けられ前記被蒸着物に蒸着粒子を放出するターゲットと；前記ターゲットを支持し前記ターゲットから前記蒸着粒子を放出させるスパッタソースと；前記第１真空チャンバーと連通するように設けられる第２真空チャンバーと；前記第２真空チャンバーに結合され前記被蒸着物にイオンビームを放出するイオンビームソースと；を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低い温度でシリコン薄膜を形成しつつ、不純物の濃度を低く抑えることのできるシリコン薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン薄膜の製造方法は、基板１をチャンバ１０内に配置するステップと、イオンビーム蒸着を２５０℃以下の温度条件で行うことによって前記基板１上にシリコン薄膜を形成するステップと、を含むことを特徴とする。前記イオンビーム蒸着が行われるチャンバ１０の基本気圧を１０^−１２Ｔｏｒｒ以上１０^−７Ｔｏｒｒ以下に調節するのがよい。 （もっと読む）

【課題】 組成が均一で優れた特性の弗化マグネシウム膜を形成でき、耐熱性の低い基板にも弗化マグネシウム膜を形成でき、他の材料との混合膜模も容易に形成すること。
【解決手段】 真空槽１０内に配置された基板２上に膜を成膜する成膜方法であって、少なくともマグネシウム或いは弗化マグネシウムからなるターゲット３をスパッタすることで、該ターゲットの材料を基板２上に堆積させる堆積工程と、基板２に弗素系ガスを導入する工程、又は、基板２に対して弗素系イオンを照射する工程のうち少なくともどちらか一方を行うことで、基板２上に堆積したターゲット材料を弗化する弗化工程とを備え、堆積工程と弗化工程とを順次繰り返すことで、少なくとも弗化マグネシウム層を１層形成する成膜方法を提供する。 （もっと読む）