【課題】帯電防止性、反射防止性および耐薬品性に優れる透明な光学物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】眼鏡レンズ１００は、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止膜１３０とを備えて構成されている。反射防止膜１３０は、可視光領域の屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層１３１，１３３，１３５，１３８と、屈折率が１．８〜２．６０である高屈折率層１３２，１３４，１３６と、アモルファスシリコン層１３７とから構成される。 （もっと読む）

【課題】ペロブスカイト型の酸素イオン伝導体から構成されて酸素イオン伝導性がより一層向上し得るセラミック膜材を提供すること。
【解決手段】本発明により提供される酸素イオン伝導性セラミック膜材の製造方法は、所定の結晶面に配向した基板を用意する工程と、一般式：Ａ_１−ｘＡｅ_ｘＢＯ_３−δ（ただし、Ａは、Ｌｎ（ランタノイド）から選択される少なくとも１種の元素であり、Ａｅは、Ｓｒ、ＢａおよびＣａからなる群から選択される１種または２種以上の元素であり、Ｂは、ペロブスカイト型構造を構成し得る１種または２種以上の金属元素であり、０≦ｘ≦１であり、δは電荷中性条件を満たすように定まる値である。）で表わされるペロブスカイト型のセラミック膜を構成するための原料を用意する工程と、蒸着法により上記基板の結晶面上にセラミック膜を結晶配向させた状態で形成する工程とを包含する。 （もっと読む）

本発明は材料組成物、それらの材料の製造方法、およびｐ型透明導電膜の物理気相堆積技術におけるターゲットとして使用するためのセラミック体の製造方法に関する。ペレット化された酸化物材料Ｍ_xＳｒ_1-xＣｕ_2+aＯ_2+b［式中、−０．２≦ａ≦０．２、−０．２≦ｂ≦０．２、且つ、Ｍは、Ｂａ、Ｒａ、Ｍｇ、Ｂｅ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒからなる二価の元素の群の１つまたはそれより多くであり、０≦ｘ≦０．２］の製造方法であって、以下の工程 ・ 特定の粒径分布を有し、且つ化学量論組成量Ｃｕ₂Ｏ、Ｓｒ（ＯＨ）₂・８Ｈ₂Ｏを含み、の０＜ｘ≦０．２の場合、Ｍ−水酸化物を含む前駆体混合物を提供する工程、 ・ 前記の前駆体混合物を密接に混合して均質な混合物を得る工程、および ・ 前記の均質な混合物を８５０℃より高い温度で焼結する工程、を含む方法が開示される。酸化物材料ＳｒＣｕ_2+aＯ_2+bは、４００ｐｐｍ未満の残留炭素含有率を有し、且つ、それを用いて、少なくとも５．３０ｇ／ｍｌの密度を有するターゲットを製造できる。 （もっと読む）

【課題】ＺｎＯ原料粉末に添加される、希土類元素を１種含む希土類元素酸化物粉末の偏析を抑制し、組成均一性に優れたＺｎＯ蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なＺｎＯ膜が得られるＺｎＯ蒸着材を製造する。
【解決手段】ＺｎＯ原料粉末１２と希土類元素を１種含む希土類元素酸化物粉末１３との原料混合粉末１４を用い、ドクターブレード法により得られたグリーンシートから、グリーン単層体１９或いはグリーン積層体２０又は２９を作製し、これを焼成後に粉砕して混成粉末２５又は３１を作製する。この混成粉末を用いて造粒粉末を作製し、成形、焼結を経て、希土類元素を含むＺｎＯ焼結体からなるＺｎＯ蒸着材３４を作製する。 （もっと読む）

【課題】ＺｎＯ原料粉末に添加される、希土類元素を２種以上１７種以下含む希土類元素酸化物粉末の偏析を抑制し、組成均一性に優れたＺｎＯ蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なＺｎＯ膜が得られるＺｎＯ蒸着材を製造する。
【解決手段】ＺｎＯ原料粉末１２と希土類元素を２種以上１７種以下含む希土類元素酸化物粉末１３との原料混合粉末１４を用い、ドクターブレード法により得られたグリーンシートから、グリーン単層体１９或いはグリーン積層体２０又は２９を作製し、これを焼成後に粉砕して混成粉末２５又は３１を作製する。この混成粉末を用いて造粒粉末を作製し、成形、焼結を経て、希土類元素を含むＺｎＯ焼結体からなるＺｎＯ蒸着材３４を作製する。 （もっと読む）

【課題】特に生鮮食品、加工食品、医療品、医療機器、電子部品等の包装用フィルムの少なくとも片面にセラミック薄膜を形成するために使用される真空蒸着材料に関するものであり、例えば電子ビーム方式による真空蒸着において、蒸着材料の加熱開始から蒸発するまでに、より少ないエネルギー、すなわち短時間、低パワーの加熱で蒸発が可能となる蒸着材料を提供する。
【解決手段】酸化ケイ素粉末およびカーボン粉末を用いて形成された蒸着材料であって、前記カーボン粉末の割合が、前記酸化ケイ素粉末に対し３〜１０重量％であることを特徴とする蒸着材料。 （もっと読む）

【課題】 処理室内に鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石Ｓと、Ｄｙ及びＴｂの少なくとも一方を含む蒸発材料ｖとを収納して加熱し、焼結磁石の結晶粒界及び／または結晶粒界相にＤｙやＴｂを拡散させて高性能磁石を得る際に、処理温度を低くでき、処理室で使用される治具や処理箱の寿命を延ばすことができる低コストの永久磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】 蒸発材料ｖとして臭化テルビウムまたは臭化ジスプロシウムを用いる。そして、処理室７０内に鉄−ホウ素−希土類系の焼結磁石Ｓを配置して所定温度に加熱すると共に、同一または他の処理室内に配置した前記蒸発材料を蒸発させる。この蒸発した臭化テルビウムまたは臭化ジスプロシウムを焼結磁石表面への供給量を調節して付着させ、焼結磁石の結晶粒界及び／または結晶粒界相に拡散させる。 （もっと読む）

【課題】ＮＤフィルタの切断部の反射によるゴースト、フレアの発生を防止する。
【解決手段】透明樹脂フィルム３５上にＮＤ膜を形成したＮＤフィルタ２１の外周切断部のうち、撮像機器の開口内に露出する切断面２１ａの切断方向が透明樹脂フィルム３５の主延伸方向と略直交方向になるように、ＮＤフィルタ２１を切断加工する。 （もっと読む）

【課題】帯状の基材の幅方向において膜厚や特性が均一な薄膜を効率良く成膜することができ、構成粒子の収率及び生産性の向上を図ることが可能な成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜方法は、レーザ光Ｌをターゲット６の表面に照射して、このターゲット６の構成粒子６Ａを叩き出し若しくは蒸発させ、この構成粒子６Ａを帯状の基材上に堆積させることにより薄膜を形成する成膜方法であって、前記レーザ光Ｌが前記ターゲット６の表面に照射する位置を、前記基材の幅方向と同じ方向に振幅させ、前記基材を、転向部材に該基材の裏面が接しつつ長手方向に移動する状態として、前記構成粒子６Ａの堆積領域内を通過させることにより、前記基材の表面上に前記構成粒子６Ａを堆積させ、前記基材の表面上に薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】幅方向に複数のレーンを成すように配列した基材または幅広の基材に対しても、膜厚や特性が均一な薄膜を効率良く成膜することが可能であり、また、良好な生産性で厚い膜の成膜が可能な成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】レーザー光Ｌによってターゲット６から叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を帯状の基材３４の表面上に堆積させ、基材３４の表面上に薄膜を形成するにあたり、基材３４の移動方向を転向させる転向部材１１を囲んで加熱ボックス２０を設けるとともに、転向部材１１に接した状態にある基材３４の表面に対向するようにターゲット６を配し、転向部材１１に基材３４の裏面が接しつつ、基材３４を長手方向に移動させた状態で、加熱ボックス２０の中を均等加熱するヒーター２５により、基材３４を加熱し、ターゲット６にレーザー光Ｌを照射する位置を、基材３４の幅方向と同じ方向に振幅させる。 （もっと読む）

【課題】成膜する際に、スプラッシュの原因となる蒸着源にて発生する粒子を速やかに取
り除くことにより、スプラッシュに起因する欠陥等の不具合が生じる虞の無い薄膜を成膜
することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを収納する真空容器２と、真空容器２内の側壁かつ基板Ｗの成膜面の
下方に配設され蒸着材料を収納する有底筒状のハース４と、このハース４に収納された蒸
着材料を加熱するプラズマガン５とを備え、このハース４はプラズマガン５と対向して配
置され、このハース４の軸線Ｌ１は、基板Ｗの成膜面の垂線Ｌ２と略直交している。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の蒸発量の安定化を図ることにより、蒸着フィルムの収率及び生産性を向上させることができる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、真空チャンバー１１の内部において樹脂フィルム基材１２を連続的に搬送して巻き取りながら、電子銃１６による電子ビーム１９を蒸着材料１７に照射して蒸着材料１７を樹脂フィルム基材１２の下面に蒸着するものである。移動速度制御手段２３は、蒸着材料温度測定手段２２による材料温度測定値が基準値未満であるときに蒸着材料移動手段１８による蒸着材料１７の移動速度を第１の移動速度とし、かつ、蒸着材料温度測定手段２２による材料温度測定値が前記基準値以上であるときに蒸着材料移動手段１８による蒸着材料１７の移動速度を前記第１の移動速度より速い第２の移動速度とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、蒸着材料として使用した場合に、スプラッシュの発生を顕著に抑制できる、安価な、珪素酸化物系多孔質成型体ならびにその製造方法を提供することにある。
【解決手段】珪素酸化物を含有する粉末を成型してなる多孔質成型体であって、成型体をなす向かい合う二つの面の一方において、粉末の平均粒径を大きくし、他方の面方向に進むと共に粉末の平均粒径が小さくなるよう、前記二つの面に対し垂直な方向に、粉末の平均粒径が傾斜を有していることを特徴とする珪素酸化物系多孔質成型体である。 （もっと読む）

【課題】シリカ膜を形成する蒸着原料材料であって、スプラッシュレスで又はスプラッシュの発生を極微小に抑制し、かつ高速成膜を実現する蒸着原料材料とその製造方法を提供する。
【解決手段】嵩密度が１．２ｇ／ｃｍ^３を超え１．６ｇ／ｃｍ^３以下、かつＳｉＯｘのｘが１を超えて１．３以下である多孔質珪素酸化物。この原料として、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によるＳｉ２Ｐスペクトルにおいて、シリコンの価数が１〜３に相当する結合エネルギーに帰属されるピーク面積が、金属シリコン及び二酸化シリコンを含む全面積の１０％以上となる珪素酸化物が好適に用いられる。そして、これを原料として粉砕し、プレス後、８００〜１１００℃で焼成することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体の組成若しくは欠陥制御をすることを目的の一とし、また、薄膜トランジスタの電界効果移動度を高め、オフ電流を抑えつつ十分なオンオフ比を得ることを他の目的の一とする。
【解決手段】ＩｎＭＯ_３（ＺｎＯ）_ｎ（Ｍ＝Ｇａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｃｏ及びＡｌから選ばれた一又は複数の元素、ｎは１以上５０未満の非整数）でありさらに水素を含む。この場合において、Ｚｎの濃度がＩｎ及びＭ（Ｍ＝Ｆｅ、Ｇａ、Ｎｉ及びＡｌから選ばれた一又は複数の元素）よりも低くする。また、当該酸化物半導体はアモルファス構造を有している。ここでｎの値は、好ましくは１以上５０未満の非整数、より好ましくは１０未満の非整数とする。 （もっと読む）

【課題】 焼成が必要な透明導電膜前駆体について、膜強度や導電性への影響が無く、簡便に焼成処理を行い得る透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 基材上に形成され焼結によって透明導電膜を形成する透明導電膜前駆体の表面に、レーザー光に対して吸収のある吸収剤を含む吸収剤含有液を塗布し乾燥させることにより吸収剤層を形成し、該吸収剤層に吸収のある波長を有するレーザー光を該吸収剤層に照射することにより、前記透明導電膜前駆体を焼結させて透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【解決課題】真空蒸着の際に、真空蒸着装置の真空度が落ち難く、且つ、スプラッシュ量が少ない酸化タンタル蒸着材およびその製造方法、並びに蒸着膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】Ｔａ_２Ｏ_５をアーク溶解し、その後、凝固物を得るＩ工程と、該凝固物を真空雰囲気下で電子ビーム溶解法によって溶解して酸化タンタル蒸着材を得るＩＩ工程と、を有する酸化タンタル蒸着材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着の際に、真空蒸着装置の真空度が落ち難く、且つ、スプラッシュ量が少ない酸化タンタル蒸着材およびその製造方法、並びに蒸着膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】Ｔａ_２Ｏ_５を１２００℃以上で焼成するＩ工程と、Ｉ工程で得られた焼結体を真空雰囲気下で電子ビーム溶解法によって溶解して酸化タンタル蒸着材を得るＩＩ工程、を有する酸化タンタル蒸着材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 切削工具基材の表面に形成する皮膜を改良し、耐酸化性や耐熱性や耐摩耗性に優れ、鋼のドライ加工や高硬度材の高速加工が長期にわたって安定して行える被覆切削工具基材を提供する。
【解決手段】 切削工具基材の表面に、結晶構造がＮａＣｌ型構造である一般式（Ａｌ_x，Ｃｒ_1-x）Ｎ（式中、ｘは、０．５５≦ｘ≦０．７５の条件を満たす。）で示されるＡｌ−Ｃｒ−Ｎ皮膜と、結晶構造がＮａＣｌ型構造である一般式（Ａｌ_y，Ｃｒ_1-y-z，Ｔｉ_z）Ｎ（式中、ｙ，ｚは、０．５５≦ｙ≦０．７５、０．２≦ｚ≦０．３、０．０５≦１−ｙ−ｚ≦０．２の条件を満たす。）で示されるＡｌ−Ｃｒ−Ｔｉ−Ｎ皮膜とを交互に積層させた。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置が形成される基板の基板面における膜厚の面内分布のばらつきを抑
制する。
【解決手段】電気光学装置の製造装置（１）は、蒸着源（１４）と、基板（１００）を保
持する基板保持手段（１２１）、開口（１２２ａ）が開けられたスリット（１２２）及び
基板をスリットに対して一の方向に沿って移動可能な第１駆動手段（１２３）を有する基
板ユニット（１２）と、蒸着源及び基板ユニットを設置するための空間（１１ａ）を規定
すると共に、空間を真空に維持可能な真空槽（１１）と、基板ユニットを一の方向に交わ
る他の方向に沿って移動可能な第２駆動手段（１３）と、基板上に蒸発物質を蒸着する際
に、基板をスリットに対して、一の方向に沿って相対的に移動させるように第１駆動手段
を制御する第１制御と、基板ユニットを他の方向に沿って移動させるように第２駆動手段
を制御する第２制御とを実施する制御手段（１５）とを備える。 （もっと読む）