【課題】膜質の良い有機薄膜を形成する。
【解決手段】供給装置４０と加熱部材２５の間には遮蔽板６１が配置されているため、加熱部材２５からの輻射熱や加熱部材２５上で発生した蒸着材料３９の蒸気が供給装置４０へ到達しない。供給装置４０は高温に加熱されないから、供給装置４０内の蒸着材料３９が溶融、蒸発しない。供給装置４０から落下した蒸着材料３９は遮蔽板６１に落下すると、移動装置６５により移動して、落下口６３から加熱部材２５上に乗せられる。 （もっと読む）

【課題】正確な量の蒸着材料を供給する。
【解決手段】振動手段４６が、回転軸３５、接続管３３、又は収容部３２に接続されており、回転軸３５を回転させる時に、回転軸３５、接続管３３、又は収容部３２を振動させれば、収容部３２の開口に集中する蒸着材料３９が振動で散らばり、回転軸３５外周に形成された凸条３６と凸条３６の間の溝が詰まらない。従って、予め求めた量の回転量回転軸３５を回転させると、必要量の蒸着材料３９が正確に供給される。 （もっと読む）

【課題】比較的大面積を有し微細な孔を含む薄い金属板が損傷してしまうことを防止することができる梱包用部材を提供することを目的とする。
【解決手段】梱包用部材３０は、孔１５が形成されている複数の有孔領域１３を含む金属板１０を梱包するための部材である。梱包用部材は、金属板と対向して金属板の両側に配置されるようになる平板状の一対の平板部３２と、一対の平板部の間に設けられ、金属板の板面に沿った外方に配置されるようになるフレーム部３６と、金属板の有孔領域以外の領域と各平板部との間に配置されるようになる中間支持部３４と、を備える。中間支持部は、金属板の梱包時に金属板の有孔領域以外の領域を押圧する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出精度が高いマスクを容易に製造できるマスクの製造方法及びマスクを提供すること。
【解決手段】単結晶シリコン基板で形成されたアライメント基板５の面方位によりエッチングレートが異なるエッチャントを用いたウェットエッチングにより、アライメント基板５の一面を粗面化する工程と、アライメント基板５に、被成膜基板との位置合わせに用いるマスクマークを形成してアライメントチップ３を製造する工程と、被成膜基板に形成される薄膜パターンの少なくとも一部の形状に対応する開口部が形成されたマスクチップを製造する工程と、アライメントチップ及びマスクチップを、支持基板上に固定する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料を高い利用効率で成膜することができる蒸着マスクを提供する。
【解決手段】蒸着マスク２０は、第１面３４ａおよび第１面とは反対側の第２面３４ｂを有し、第１面と第２面との間を延びる貫通孔２５が形成された金属製シート３４を備える。金属製シートの第１面側に、線状に延びる溝２６が形成されている。金属製シートの第２面側に、穴２７が形成されている。溝と穴とは通じており、これにより、溝と穴とによって金属製シートを貫通する貫通孔が形成されている。 （もっと読む）

【課題】２つのチャンバ間で被処理基板を往復させる必要がある場合でも、スループットの低下を抑えることができ、装置の小型化が可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１１は、真空雰囲気の第１チャンバ１５と窒素雰囲気の第２チャンバ１６とを有する。第１チャンバ１５及び第２チャンバ１６は、正八角形の平面形状を有しているので、互いの一つの辺部１５ａ，１６ａが対向するように配置させると、第１チャンバ１５と第２チャンバ１６との間に、９０°に開口する２つの領域Ａ，Ｂが存在する。そして、この領域Ａ，Ｂに、第１チャンバ１５及び第２チャンバ１６と連通可能であると共に、複数枚の被処理基板１２を収納可能な第１連結室４１と第２連結室４２とを配置する。 （もっと読む）

【課題】設計目標通りの位置精度および寸法精度で薄膜に開口パターンが設けられた蒸着マスクを得ることが可能な蒸着マスクの作製方法を提供する
【解決手段】設計値に基づいて薄膜１０に開口パターン１０ａが設けられたマスク薄膜１を形成する。開口パターン１０ａの寸法および位置を検知する。検知した値と設計値とのずれ量だけ、レーザ光ｈｒ照射によって開口パターン１０ａ周縁の薄膜１０部分を除去する。 （もっと読む）

【課題】成膜中の基板の熱変形による蒸着パターンの位置ズレやエッジのボケを防ぐ。
【解決手段】複数の蒸発源２を有する蒸着源に対して基板５を矢印で示すように相対移動させながら成膜する蒸着装置において、基板５の中央領域の成膜を行う蒸発源２ａを、端部領域の成膜を行う蒸発源２ｂより下流側に配置する。基板５の端部領域の成膜を先行させ、基板５の中央領域の成膜を最後に行うことで、成膜中の基板端部における熱変形を低減する。 （もっと読む）

【課題】被成膜基板に高精度に成膜することができるマスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着マスク２０は、マスク基体２２と、マスク基体２２上に形成されたドライフィルム２３とを有する。マスク基体２２は、シリコン又はシリコン化合物からなる。蒸着マスク２０の製造方法は、まず、マスク基体２２をＭＥＭＳ加工により形成する。次に、開口孔２１ａを有するマスク基体２２上に、熱転写法を用いてドライフィルム２３を転写する。マスク基体２２がシリコンからなるので、熱転写によってマスク基体２２に熱が加わったとしてもマスク基体２２が伸縮（変形）することを抑えることができる。その結果、マスク基体２２にドライフィルム２３を安定した状態で転写させることが可能となり、開口孔２１ｂの形状が変形したり開口孔２１ｂの位置がずれたりすることを抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】マスクと被成膜基板との位置合わせ精度を低下しにくいマスクを提供すること。
【解決手段】板状のマスク基板２に、被成膜基板に形成される薄膜パターンに対応する開口部３と、前記被成膜基板との位置合わせに用いるマスクアライメント部４とが形成され、マスクアライメント部４は、開口端面が前記被成膜基板の成膜面を向き、底面の粗さがマスク基板２の上面粗さと異なる凹部である。 （もっと読む）

【課題】ＲＧＢの発光色ごとに有機ＥＬ素子の発光層を塗り分けるためのパターニング方法として、蒸着マスクを用いた真空蒸着法は表示装置の大型化に向かず、レーザー熱転写法は製造装置のコストが高いという欠点があった。
【解決手段】ガラス基板１２上にストライプ状に形成された第１電極パターン１３と、第１電極パターン１３と交差するようにガラス基板１２上にストライプ状に形成された第２電極パターン１４と、第１電極パターン１３と第２電極パターン１４の交差部に設けられた抵抗加熱層１５とを備える蒸発源１１を用いて、有機材料からなる蒸発材料層２５が形成されたガラス基板１２と素子形成用基板３とを重ね合わせて、第１電極パターン１３と第２電極パターン１４に所定の電圧を印加することにより、それらの交差部に設けられた抵抗加熱層１５に発生するジュール熱で有機材料を昇華させ、素子形成用基３板上に有機膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】透過孔パターンを精度良く形成しつつ、多面取りを実現することが可能な蒸着用マスクの製造方法および蒸着用マスクならびに表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着用マスク１の製造方法は、複数の金属薄膜１０を、張力Ｔを付加しつつ枠体１１に固着させたのちに、各金属薄膜１０に複数の透過孔パターン１０Ａを形成する。透過孔パターン１０Ａは、金属薄膜１０の表面側および裏面側に、フォトレジスト膜の形成、レーザダイレクト露光法によるパターンの描画、フォトレジスト膜の現像、エッチング、フォトレジスト膜の剥離、水洗乾燥の工程をこの順に経て形成する。金属薄膜単体における透過孔１０Ａ−１の寸法精度や位置精度に加え、複数の金属薄膜１０間での透過孔１０Ａ−１の相対的な位置精度が良好に確保される。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンで精度良く成膜することが可能な蒸着用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着用マスク１の製造方法は、金属薄膜に、複数の通過孔２０Ａ−１をそれぞれ有する複数のパターン領域２０Ａを設けてマスク本体２０を形成する工程と、マスク本体をスクリーンメッシュ３０の中央部に取り付けてコンビネーションマスクを形成する工程と、コンビネーションマスクのマスク本体２０の周囲に応力緩和領域４０を形成したのち、スクリーンメッシュ３０を引っ張りつつ、マスク本体２０の周縁部を、開口１０Ａを有する枠体に対して固着させる張設工程とを含むものである。スクリーンメッシュ３０を引っ張ることで、マスク本体２０に所定の張力が付加され、しわや弛みが生じにくくなる。このとき、スクリーンメッシュ３０に応力緩和領域４０が形成されていることで、パターン領域２０Ａにおける歪みの発生が抑制される。 （もっと読む）

イオン液体を真空に暴露後に、真空中または保護雰囲気中でイオン液体から基板上に物質を電着または無電解沈着するための方法並びに生成される物質。本発明に従うと、イオン液体を真空に暴露後に、真空中または保護雰囲気中で、望ましくない成分を含まない緻密な層を生成することができる。 （もっと読む）

【課題】可撓性基板を用いてパターン形成する場合に、高精度にパターニングを行うことができる蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】真空槽１２と、蒸着材料を収容して蒸発させる容器３０と、基板保持手段１６，１８と、マスク保持手段２８と、基板保持手段により保持された可撓性基板３６とマスク保持手段により保持されたマスク４０のそれぞれのアライメントマーク３８，４４の位置を測定する位置測定手段３２ａ，３２ｂと、位置測定手段による測定に基づき、基板保持手段により可撓性基板を延伸させてマスクとの位置合わせを行う位置制御手段３４と、を有することを特徴とする蒸着装置１０。可撓性基板を所定の方向に所定の量で延伸させてマスクとの位置合わせを行った後、マスクを介して蒸着材料を所定のパターンに蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性が必要とされる場合に好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層１両面上に、ガスバリア層２と被膜層３を順次積層してなり、前記ガスバリア層２は酸化珪素からなり、かつ、各々の膜厚（厚さＸａおよびＸｂ）が０．００５μｍ以上０．２μｍ以下であり、前記被膜層３は、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させてなり、かつ、各々の膜厚（厚さＹａおよびＹｂ）が０．１μｍ以上２０μｍ以下であり、下記３つの式を満たすことを特徴とするガスバリア性積層フィルム。０．００２≦ＸａＹａ、０．００２≦ＸｂＹｂ、（Ｘａ＋Ｘｂ）（Ｙａ＋Ｙｂ）≦０．５。 （もっと読む）

【課題】高品質の薄膜を形成することができる蒸着装置及び蒸着方法並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置２は、基板１２の蒸着面１２ａに、開口パターンを有したマスク１４を配置し、基板１２の蒸着面１２ａに所定のパターンの成膜を行う蒸着装置であって、チャンバ１８と、チャンバ１８内に設けられ、マスク１４の基板１２と接触する第１の面を、基板１２の蒸着面１２ａと対向する位置に、変位させるマスク保持部３６と、マスク保持部３６の作動を制御する機能を有する制御部３８と、を含む。 （もっと読む）

【課題】材料の表面平坦化並びに内部構造の均一化により、物理的あるいは化学的に高品質の材料を形成できる処理法の確立を課題とする。
【解決手段】ビーカー５内にトルエン４を入れ、カバー６で封じる。このカバー６の裏面には、材料としてＳｉ基体２上に形成したポリシラン薄膜１が設置されている。そして、このポリシラン薄膜１は、ビーカー５内において溶解雰囲気であるトルエン蒸気３に暴露されることで、ポリシラン薄膜１の表面平坦化並びに内部構造均一化が化学的に誘起される。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ層の成膜ズレを解析した結果を反映させることで色度ムラや輝度ムラを抑制する。
【解決手段】表示パネル４は、下方の短辺に駆動回路チップ６が実装され、その端縁に外部装置（ホスト）と接続するための端子部７が設けられている。表示領域５内の任意の点における副画素の成膜ズレベクトル（矢印）は第１象限内で９０度以内にある。 （もっと読む）

【課題】連続的に生産しても蒸着ずれが小さく、画素内の膜厚分布が良好かつ材料の無駄の少ない真空蒸着方法及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ１内に蒸着源ユニット１００を固定し、蒸着源の蒸気３を横切るように基板４を移動させる間に、該基板４の所定個所に蒸着源の蒸気３を蒸着する。基板４の蒸着源ユニット１００側に蒸着マスク５を設置し、真空チャンバ１内には複数のローラ１３によるマスクフレーム７の移動手段を有し、マスクフレーム７の蒸着源ユニット１００側の面に対して非接触かつ近接して設けた冷却手段を持つ冷却板１１を該マスクフレーム７が移動する軌道上に設ける。冷却板１１には蒸着源ユニット１００の近傍に部分的に開口部６０を設け、蒸着源ユニット１００の冷却プレート１４の開口部７０を通して蒸着源２で発生した蒸気３を蒸着マスク５及び基板４に吹き付ける。 （もっと読む）