【課題】高硬度鋼の高速切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎからなる薄層Ａと柱状晶（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎからなる薄層Ｂの交互積層構造として構成され、薄層Ａおよび薄層Ｂはそれぞれ０．０５〜２μｍの層厚を有し、さらに、前記粒状晶の結晶粒径は３０ｎｍ以下、また、前記柱状晶の結晶粒径は５０〜５００ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】カルコゲナイドガラスに対して密着性が良好であり、かつ耐候性が良好な赤外線用の反射防止膜を提供する。
【解決手段】硫黄やセレン，テルルを主成分としたいわゆるカルコゲナイドガラスからなる基材１２の表面に反射防止膜１３を設ける。反射防止膜１３は、基材１２側から順に、第１薄膜１６と第２薄膜１７を備える。第１薄膜１６は、酸化ビスマス（Ｂｉ_２Ｏ_３）からなる。第２薄膜１７は、フッ化イットリウム（ＹＦ_３）からなる。 （もっと読む）

【課題】切刃に対して高負荷が作用する乾式断続重切削加工や乾式連続高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金焼結体からなる切削工具基体表面にＣｒＡｌＮ層からなる硬質被覆層を物理蒸着で形成した表面被覆切削工具において、ＣｒＡｌＮ結晶粒の粒径幅が小さい領域Ｉと、粒径幅がこれより大きい領域ＩＩとから硬質被覆層を構成し、かつ、領域Ｉの微細粒子と領域ＩＩの粗大粒子の結晶方位のずれが１５度以下となる縦区分の面積割合を６０％以上とし、乾式断続重切削加工、乾式連続高送り切削加工において、すぐれた高温強度、耐欠損性、靭性を発揮させる。 （もっと読む）

【課題】チタン基材表面にＡｕを含む層を強固かつ均一に形成可能で、燃料電池用セパレータに要求される密着性及び耐食性を確保できる燃料電池用セパレータ材料を提供する。
【解決手段】Ｔｉ基材２の表面にＡｕとＣｒとを含む表面層６が形成され、表面層とＴｉ基材との間に、Ｔｉ，Ｏ及びＣｒを含み，Ａｕ原子２０％未満の中間層２ａが存在し、Ａｕ濃度６５原子％以上の領域の厚みが１．５ｎｍ以上存在し、かつＡｕの最大濃度が８０原子％以上であり、Ａｕの付着量が９０００ｎｇ／ｃｍ^２以上の燃料電池用セパレータ材料である。 （もっと読む）

【課題】成膜した薄膜の膜厚を従来より広い範囲で測定できる膜厚測定方法と、均一な膜厚の薄膜を成膜する真空蒸着装置及び真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】
薄膜材料６０に電子線を照射して、薄膜材料６０から蒸気を放出させ、成膜対象物８０を薄膜材料６０に対して走行移動させながら、成膜対象物８０の表面に薄膜を成膜する際に、薄膜材料６０から放出され、成膜対象物８０上のＸ線検出装置２０で薄膜と成膜対象物８０とを透過した透過Ｘ線の強度を検出し、あらかじめ記憶された透過Ｘ線の強度と薄膜の膜厚との対応関係から、成膜対象物８０に形成された薄膜の膜厚を測定する。測定結果を基準値と比較して、比較結果から、成膜対象物８０の移動速度や電子線の照射位置の移動速度を変更し、薄膜の膜厚を増減させることで、薄膜の膜厚を基準値に近づける。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯがアモルファスとなる成膜温度で、低抵抗で表面が平坦なＩＴＯ透明導電膜を、膜剥がれを起こさずに安定して形成するための形成方法、それによって形成されたＩＴＯ透明導電膜、およびそれを形成するための形成装置を提供する。
【解決手段】ＩＴＯ透明導電膜の形成装置１００は、レーザー光Ｌの照射機構を備えており、真空チャンバー１内で、スパッタリング法によりＩＴＯの薄膜を形成する成膜工程と、薄膜にレーザー光Ｌを照射するレーザー光照射工程とを繰り返えすことによりＩＴＯ透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】蒸着時のスプラッシュの発生を抑制することが可能な蒸着用線材を提供することで信頼性の高い金属化フィルムコンデンサを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明における蒸着用芯材１は、アルミニウムとマグネシウムの合金からなる芯材２と、前記芯材２の外周面を被覆し、少なくとも前記アルミニウムと前記マグネシウムの酸化物からなる酸化層３とを備え、前記酸化層３の厚さを０．３μｍ以下とした。この結果、蒸着の際に酸化層３が溶融せず芯材２のみが蒸発することで発生するスプラッシュを抑制することができる。そして、本発明における蒸着用芯材１を用いて形成した金属化フィルムコンデンサの誘電体フィルムはスプラッシュによるダメージを受けることがなく、信頼性の高いものとなる。 （もっと読む）

【課題】 成膜／搬送プロセスの間、保管／輸送プロセスの間、組立プロセスの間において、高い品質を有する機能性フィルムを提供する。
【解決手段】
機能性フィルム１０は、支持体１２と、支持体１２の一方面に交互に配置された有機膜１４と無機膜１６とを、それぞれ、少なくとも一層を含む機能層２０と、支持体１２の他方面に配置された第１ラミネートフィルム２１と、機能層２０の最上層に配置された第２ラミネートフィルム２２を有し、第２ラミネートフィルム２２と機能層２０の最上層の間の粘着力は、第１ラミネートフィルム２１と支持体１２の粘着力より小さい。 （もっと読む）

【課題】結晶球の周回経路の結晶方位に対応した膜厚の膜を正確に真空成膜する。
【解決手段】真空容器２１内で蒸着材料２２を加熱気化させる蒸着材料放射ステップ（２２，３１）と、弾性表面波４を周回させる圧電性結晶球２の周回経路５が前記気化された蒸着材料２２の放射ビームの照射方向と対面するように、圧電性結晶球２を回転可能に支持する支持ステップ（３２，３５）と、周回経路の結晶方位に従って前記回転支持ステップによる圧電性結晶球２の回転速度を変更し、周回経路上に結晶方位に依存した膜厚分布で真空成膜する成膜制御ステップ（１，５，３２，３４，３５）とを有する球状弾性表面波素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】優れたガスバリア性能を有するガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】本発明のガスバリアフィルムは、酸化珪素を主成分とするガスバリア膜が基板の少なくとも一方の面に形成されたものである。ガスバリア膜は、赤外吸収スペクトルのうち、８００〜８２０ｃｍ^−１のピーク強度をＰ１とし、８６０〜８８０ｃｍ^−１のピーク強度をＰ２とし、ピーク強度Ｐ１とピーク強度Ｐ２との比をＰ２／Ｐ１とするとき、比Ｐ２／Ｐ１が、０≦Ｐ２／Ｐ１≦１である。 （もっと読む）

【課題】溶剤ダメージによる支持体の品質劣化を防止でき、無機膜成膜中の支持体からの脱ガスの発生を抑制することができ、これにより、高品質の無機膜を成膜することができる機能性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】裏面側に耐溶剤性を有するラミネートフィルムを貼り付けた自己支持性を有する長尺の支持体１２を送り出し、支持体１２を搬送しながら、その表面側に溶剤を含む塗布液を塗布し、前記塗布液を乾燥、硬化させて有機膜を形成し、支持体１２をフィルムロール４２にして巻き取る。フィルムロール４２を真空成膜装置２４内に装填し、フィルムロール４２から連続的に耐溶剤性を有するラミネートフィルムを貼り付けた支持体１２を送り出す。支持体１２を搬送しながら、支持体１２の有機膜上に無機膜を形成し、支持体１２をフィルムロール４８に巻き取る （もっと読む）

【課題】第１硬質皮膜は残留圧縮応力の低減化により厚膜化と密着性の確保を可能とし、第２硬質皮膜は残留圧縮応力により亀裂の伝播抑制を図って、硬質皮膜被覆切削工具の長寿命化を実現する。
【解決手段】硬質皮膜被覆工具において、硬質皮膜は基体表面から第１硬質皮膜、第２硬質皮膜が被覆され、第１硬質皮膜は、（Ａｌ_ａＭｅ_{１００−ａ}）_ｅＮ_ｆで示され、但し、３５≦ａ≦６５、０．８５≦ｅ／ｆ≦１．２５、第２硬質皮膜は、（Ｔｉ_{１００−ｈ}Ｂ_ｈ）_ｍＮ_ｐで示され、但し、１≦ｈ≦３０、０．８５≦ｍ／ｐ≦１．２５、であり、該第１硬質皮膜と該第２硬質皮膜のＸ線回折における（２００）面の面間隔（ｎｍ）を夫々、ｄ１、ｄ２としたときに、１．０１≦ｄ２／ｄ１≦１．０５であり、該第２硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織の結晶粒はＢ成分に組成差を有する組成変調構造であることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。 （もっと読む）

【課題】第１硬質皮膜は高硬度化による耐摩耗性の改善を図り、第２硬質皮膜は圧縮応力の低減と密着性の改善を図って、硬質皮膜被覆切削工具の長寿命化を実現する。
【解決手段】硬質皮膜被覆工具において、硬質皮膜は基体表面から第１硬質皮膜、第２硬質皮膜が被覆され、第１硬質皮膜は、（Ａｌ_ａＭｅ_{１００−ａ}）_ｅＮ_ｆで示され、但し、３５≦ａ≦６５、０．９０≦ｅ／ｆ≦１．１５、第２硬質皮膜は、（Ｔｉ_{１００−ｈ}Ｂ_ｈ）_ｍＮ_ｐで示され、但し、１≦ｈ≦３０、０．９０≦ｍ／ｐ≦１．１５、であり、該第１硬質皮膜と該第２硬質皮膜のＸ線回折における（１１１）面の面間隔（ｎｍ）を夫々、ｄ１、ｄ２としたときに、１．０１≦ｄ２／ｄ１≦１．０５であり、該第２硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織の結晶粒はＢ成分に組成差を有する組成変調構造であることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた密着性と潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、下部層に（ＡｌＴｉ）Ｎ層または（ＡｌＴｉＭ）Ｎ層を形成し、上部層に立方晶構造のＮｂＮと六方晶構造のＮｂＮの混合組織からなり、かつ、該混合組織についてＸ線回折による回折ピーク強度を調査したとき、立方晶構造のＮｂＮの（２００）面からの回折ピーク強度をＩｃ、また、六方晶構造のＮｂＮの（１０３）面と（１１０）面からの回折ピーク強度をＩｈとした場合、０．０５≦Ｉｃ／Ｉｈ≦１．０を満足する回折ピーク強度比を有する層を形成した表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】良好なＸ線コントラスト、生体適合性、および耐腐食性を付与する十分な厚みの
放射線不透過性コーティングを有する医療装置を提供すること。
【解決手段】医療装置であって、層間剥離することなくこの医療装置の使用に固有の大き
な歪みに耐えることができる多孔性の放射線不透過性コーティングを備えている。ステン
トなどの医療装置の熱機械特性に悪影響を及ぼさないように、蒸着により医療装置にＴａ
コーティングを施す。このようなコーティングは、高い放射率を有するのが好ましい。こ
のようなコーティングは、概ね単斜晶系の被覆剤または低エネルギー被覆剤によって施さ
れる。 （もっと読む）

【課題】表面プラズモン共鳴センサの検出素子に用いられる薄膜材料において、散乱光が少なくＳＮ比の高い薄膜材料を成膜する技術を提供する。
【解決手段】金薄膜１２の成膜速度を０．０１ｎｍ／ｓ以上、０．６ｎｍ／ｓ以下の範囲に設定し、ヘリコンスパッタ源５２からスパッタ粒子を飛翔させる。ここで、成膜初期においては、成膜速度を第１速度に設定し、金薄膜の膜厚が一定の膜厚以上になると、成膜速度を第１速度の少なくとも倍の第２速度に設定する。 （もっと読む）

【課題】異種材料の基板上で平坦かつ剥離が容易なＧａＮ基板を低コストで製造することを可能にする製造方法を提供するとともに、そのＧａＮ基板を用いて製造するＬＥＤやレーザダイオード等の半導体デバイスの低コスト化、性能向上や長寿命化を実現することである。
【解決手段】本発明の半導体基板は、基板と、前記基板上に形成された第１の半導体層と、前記第１の半導体層上に所定のパターン形状で形成された金属性材料層と、前記第１の半導体層上及び前記金属性材料層上に形成された第２の半導体層と、前記金属性材料層より下層部分の前記第１の半導体層に形成された空洞と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 生産性の高く、高品質で、搬送中に検査が可能な機能性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
裏面側に黒色のラミネートフィルムを貼り付けた自己支持性を有する長尺の支持体１２を送り出し、支持体１２を搬送しながら、その表面側に有機膜を形成し、有機膜の表面を検査した後、支持体１２をフィルムロール４２にして巻き取る。フィルムロール４２を真空成膜装置２４内に装填し、フィルムロール４２から連続的に黒色のラミネートフィルムを貼り付けた支持体１２を送り出す。支持体１２を搬送しながら、支持体１２の有機膜上に無機膜を形成し、支持体１２をフィルムロール４８に巻き取る。 （もっと読む）

【課題】 冷間から温熱間の使用環境でも、優れた耐摩耗性、耐熱性および摺動特性を有した、塑性加工用金型や切削工具に最適な被覆工具とその製造方法を提供する。
【解決手段】 工具基材の表面に、ＡｌＣｒＳｉ系の窒化物とＶの窒化物が交互に積層された硬質皮膜を被覆した被覆工具であって、該硬質皮膜の膜厚が３μｍ以上、表面粗さがＲａ＜０．２μｍ、Ｒｚ＜２．０μｍ、Ｒｓｋ＜０である摺動特性に優れた被覆工具である。また、硬質皮膜の膜厚を８μｍ以上とすることで、工具寿命を大きく改善できるので好ましい。交互に積層されたＡｌＣｒＳｉ系の窒化物とＶの窒化物の個々の膜厚は、ＡｌＣｒＳｉ系の窒化物の膜厚よりも、Ｖの窒化物の膜厚の方が厚いことが好ましい。 （もっと読む）