【課題】従来に比してヒステリシスの偏り、非対称性が小さく、圧電定数がプラス方向で大きく良好な特性を持ち、正電圧印加（正電界印加状態）でも大きな変位が得られ、正常に駆動させることができ、汎用の駆動ＩＣを用いることができる鉛含有圧電膜、その作製方法、これを用いる圧電素子およびこれを用いる液体吐出装置を提供する。
【解決手段】鉛を含有する圧電膜であり、その膜厚が、３μｍ以上であり、ｄ３１（＋）／ｄ３１（−）＞０．５であり、ｄ３１（＋）＞１００ｐｍ／Ｖであり、好ましくは、圧電膜中の鉛量が１．０３以下である。なお、ｄ３１（＋）およびｄ３１（−）は、それぞれ圧電膜に上部および下部電極を形成して上部電極に正電圧および負電圧を印加した時に測定される圧電膜の圧電定数である。 （もっと読む）

【課題】良好な耐摩耗性および耐焼き付き性を有するとともに、基材への密着性および耐久性に優れた高硬度の硬質皮膜で被覆された硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材１上に略同一の厚さの応力緩和層３としてのクロム皮膜と略同一の厚さの硬質層４としての窒素含有クロム皮膜が交互に配置されるように複数のクロム皮膜と複数の窒素含有クロム皮膜が形成され、複数の窒素含有クロム皮膜の各々の厚さが２００ｎｍ以下であり且つ複数のクロム皮膜の各々の厚さの１．２〜５倍である。応力緩和層３と硬質層４は、クロムターゲットを使用してスパッタリングする装置の処理室内で連続的に形成され、応力緩和層３を形成する際には、処理室内をアルゴンガス雰囲気にし、硬質層４を形成する際には、処理室内をアルゴンガスと窒素ガスを含む雰囲気にする。 （もっと読む）

【課題】良好な耐摩耗性および耐焼き付き性を有するとともに、基材への密着性および耐久性に優れた高硬度の硬質皮膜で被覆された硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材１上に下地層２としてクロム皮膜が形成され、この下地層２上に４０ｎｍ以上の略同一の厚さの応力緩和層３としてのクロム皮膜と２５０ｎｍ以下の略同一の厚さの硬質層４としての窒素含有クロム皮膜が交互に配置されるように複数のクロム皮膜と複数の窒素含有クロム皮膜が形成されている。下地層２と応力緩和層３と硬質層４は、クロムターゲットを使用してスパッタリングする装置の処理室内で連続的に形成され、下地層２および応力緩和層３を形成する際には、処理室内をアルゴンガス雰囲気にし、硬質層４を形成する際には、処理室内をアルゴンガスと窒素ガスを含む雰囲気にする。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法によりウエブ状の合成樹脂フィルム表面に薄膜を形成する真空成膜装置において、合成樹脂フィルム内部及び表面の残留ガス量を合成樹脂フィルムの幅方向で均一にすることができる真空成膜装置を提供することにある。
【解決手段】乾燥手段が、合成樹脂フィルム加熱用の赤外線ランプヒーターと非接触式温度計と真空中の残留ガス量を測定する真空分圧計とを備え、赤外線ランプヒーターと非接触式温度計と真空分圧計は、合成樹脂フィルムの幅方向に２００ｍｍ〜５００ｍｍの間隔で、かつ、合成樹脂フィルム走行方向に平行に、各一個ずつ設置され、真空分圧計により測定された残留ガス量が一定となるように、赤外線ランプヒーターと非接触式温度計とを制御する制御手段を備えることで、合成樹脂フィルムの幅方向における膜質の均一化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】高速加工およびドライ加工でさらなる長寿命化を達成することができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明は、基材と、基材上に形成された被覆膜とを備え、被覆膜は、Ｔｉ_1-xＮｂ_xＮ（ただし、０＜ｘ＜０．３）からなるＡ層と、Ｔｉ_1-yＡｌ_yＮ（ただし、０．３＜ｙ＜０．７）からなるＢ層とがそれぞれ交互に積層されて構成されており、Ａ層の厚みλａおよびＢ層の厚みλｂはそれぞれ２ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、互いに接しているＡ層およびＢ層の厚みの比であるλａ／λｂの値は、基材に最も近い位置においては０．４＜λａ／λｂ＜０．７であって、基材側から被覆膜の最表面側に進むにしたがって連続的および／または段階的に増加していき、被覆膜の最表面に最も近い位置においては１．５＜λａ／λｂ＜３となる表面被覆切削工具である。 （もっと読む）

【課題】洗浄によって基板表面に付着した異物を、薄膜形成前に除去することにより、良好な膜質を有する光学フィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】水分を含んだ溶液を用いて基板Ｓを洗浄する洗浄工程Ｐ１と、洗浄工程Ｐ１によって洗浄された基板Ｓの表面を酸素ガスのプラズマによりプラズマ処理する前処理工程Ｐ３と、前処理工程Ｐ３によってプラズマ処理された基板Ｓの表面に薄膜を形成する薄膜形成工程（Ｐ４，Ｐ５）と、を行うことで、基板表面に付着した異物を効果的に除去することができる。また、前処理工程Ｐ３では、プラズマを発生させる領域に酸素ガスのみが導入され、且つ、導入される酸素ガス流量は、薄膜形成工程で導入される酸素ガス流量よりも多くすることで、洗浄工程において基板Ｓの表面にＯＨ基結合を介して付着した異物を、薄膜形成工程（Ｐ４，Ｐ５）の前に効果的に取り除き、膜抜け部の発生を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】高速加工およびドライ加工でさらなる長寿命化を達成することができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明は、基材と、基材上に形成された被覆膜とを備え、被覆膜は、Ｔｉ_1-x-yＮｂ_xＳｉ_yＮ（ただし、０≦ｘ＜０．３、０＜ｙ＜０．３）からなるＡ層と、Ｔｉ_1-zＡｌ_zＮ（ただし、０．３＜ｚ＜０．７）からなるＢ層とがそれぞれ交互に積層されて構成されており、Ａ層の厚みλａおよびＢ層の厚みλｂはそれぞれ２ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、互いに接しているＡ層およびＢ層の厚みの比であるλａ／λｂの値は、基材に最も近い位置においては０．４＜λａ／λｂ＜０．７であって、基材側から被覆膜の最表面側に進むにしたがって連続的および／または段階的に増加していき、被覆膜の最表面に最も近い位置においては１．５＜λａ／λｂ＜３となる表面被覆切削工具である。 （もっと読む）

【課題】高速加工およびドライ加工でさらなる長寿命化を達成することができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と、当該基材上に形成された被覆膜とを備え、被覆膜は、Ｔｉ_1-x-yＣｒ_xＳｉ_yＮ（ただし、０＜ｘ＜０．３、０＜ｙ＜０．３）からなるＡ層と、Ｔｉ_1-zＡｌ_zＮ（ただし、０．３＜ｚ＜０．７）からなるＢ層とがそれぞれ交互に積層されて構成されており、Ａ層の厚みλａおよび前記Ｂ層の厚みλｂはそれぞれ２ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、互いに接しているＡ層およびＢ層の厚みの比であるλａ／λｂの値は、基材に最も近い位置においては０．４＜λａ／λｂ＜０．７であって、基材側から被覆膜の最表面側に進むにしたがって連続的および／または段階的に増加していき、被覆膜の最表面に最も近い位置においては１．５＜λａ／λｂ＜３となることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、透明導電膜及びそれを備えた透明電極に関する。より詳しくは、表面に凹凸が形成された酸化亜鉛系透明導電膜に関し、前記凹凸は、稜線部が突出部の突出方向に弧を描くか、または、突出部の先端が頂点を有する場合は、該頂点を中心に２つの稜線部のなす角が９０゜以上の鈍角である突出部を含む。本発明の透明導電膜は、湿式エッチング工程を必要とせず、スパッタリング工程のみで形成される。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れ、むくみの発生しない光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４５である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層１３６、第７層である透明導電層１３７及び第８層１３８から構成される。 （もっと読む）

【課題】抵抗率が１０ｍΩｃｍ以上である金属酸化物薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】抵抗率が１０ｍΩｃｍ以下である第１の金属酸化物薄膜１０１を、金属ターゲットを用いた反応性スパッタ法により形成する工程（Ａ）と、第１の金属酸化物薄膜１０１を形成後、金属酸化物薄膜の表面を酸化させることにより、第１の金属酸化物薄膜１０１上に、第２の金属酸化物薄膜１０２を形成する工程（Ｂ）と、工程（Ａ）及び工程（Ｂ）を繰り返すことで所望の膜厚を有する、第１の金属酸化物薄膜１０１と第２の金属酸化物薄膜１０２の積層膜１０３を形成する工程（Ｃ）と、積層膜１０３を熱処理することにより、抵抗率が１０ｍΩｃｍ以上である金属酸化物薄膜１０４を形成する工程（Ｄ）とを含む金属酸化物薄膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】基板上に多層膜／コーティングを形成する改善された気相堆積方法及び装置を開示する。
【解決手段】多層コーティングを堆積するために使用されるものであって、基板と直接的に接触する酸化物層の厚さが、基板の化学組成に相関するものとして制御される。これにより、後に堆積される層は、酸化物層により良好に結合される。改善された方法は、多層コーティングを堆積するために使用されるが、この多層コーティングでは、酸化物層が基板上に直接的に堆積され、有機物層が酸化物層上に直接的に堆積される。典型的には、酸化物層及び有機物層が交互に配置される一連の層を形成する。 （もっと読む）

【課題】不活性ガスの積算流量条件の検証を省略できる方法を提供する。
【解決手段】ウエハを処理する処理室２２と、処理室２２内へＨ_２ガスを供給する水素ガス供給管２７と、処理室２２内へＮ_２ガスを供給する窒素ガス供給管２８と、処理室２２内を排気する処理室用排気管２５とを備えたアニール装置１０において、処理室用排気管２５に処理室２２内のＨ_２ガスの濃度を測定する高濃度計Ｇ１と、高濃度計Ｇ１とは検出限界の異なる低濃度計Ｇ２とを設け、コントローラ５５にそれぞれ接続する。コントローラ５５は、Ｈ_２アニール後のＮ_２ガスパージステップにおいて、処理室２２内に残留したＨ_２の濃度を高濃度計Ｇ１により測定しつつ処理室２２内にＮ_２ガスを供給し、高濃度計Ｇ１の検出限界に達すると、低濃度計Ｇ２に切り替えて、低濃度計Ｇ２によりＨ_２ガスの濃度を測定しつつ処理室２２内にＮ_２ガスを供給する。 （もっと読む）

【課題】非導電性試料の表面に、むらの無い良質な導電性のカーボン膜を短時間で形成する。
【解決手段】開閉弁９ａを開き、ロータリーポンプ１０で試料室２ａの大気を排気する。試料室２ａの真空度が１Ｐａ程度になったら、流量調整弁８ａを開いて試料室２ａにアルゴンガスを導入し、試料室２ａの真空度が２Ｐａ程度になるようにアルゴンガスの流量を調整する。電極棒７ａと７ｂ及び電極５ａと５ｂを通じてカーボン棒に５０Ａ程度の電流を流す。通電によりカーボン棒が赤熱し、カーボンが蒸発することにより蒸着が行なわれる。 （もっと読む）

【課題】III族窒化物系化合物半導体発光素子用の光放出面に形成される透明電極として好ましいＴＮＯ（ＮｂドープＴｉＯ_２）膜の製造方法を提供する。
【解決手段】ＧａＮからなるｐ層４を常温に維持し、ＲＦマグネトロンスパッタ法によりその上にＴＮＯをスパッタすると、積層されたＴＮＯ層５はアモルファス状態である。次に、このアモルファスＴＮＯ層を、実質的に水素ガスの存在しない減圧雰囲気において熱処理して該ＴＮＯ層を結晶化するステップと、を含む。ここに、スパッタ時に、酸素ガスとともに不活性ガスを流通させ、該流通ガス中に含まれる酸素ガスの体積％を０．１０〜０．１５％とする。ただし、酸素分圧は５×１０^−３Ｐａ以下とする。熱処理温度は５００℃、１時間程度とする。 （もっと読む）

【課題】基板と強誘電体薄膜との格子ミスマッチによる歪みが効率的に緩和されるペロブスカイト構造強誘電体薄膜を提供すること。
【解決手段】本発明によるチューナブル素子は、基板上に（１１１）エピタキシャル成長したペロブスカイト構造強誘電体薄膜を含んでなる。特に、ペロブスカイト構造強誘電体薄膜は、（１１１）エピタキシャル成長した（Ｂａ_ｘＳｒ_１−ｘ）ＴｉＯ_３またはＰｂ（Ｚｒ_ｘＴｉ_１−ｘ）Ｏ_３｛０＜ｘ＜１｝からなる。 （もっと読む）

【課題】勾配型屈折率を備えた多孔質を含む単層構造をした透明導電性のナノ構造薄膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】電子ビームシステム１００を用いて、ターゲットソースが斜め堆積法により蒸着される。複数の調整可能な試料ステージ１０４上に蒸着基板１１４が配置される。プロセスチャンバー１０１内でガスの流量および温度を制御するため、熱源と複数のガス制御弁１０７および１０８が備えられる。蒸着後、薄膜構造と光電子特性を向上させるため、アニール工程が行われる。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛系ターゲットを使用し、酸素ガス、水素ガス、水蒸気の群から選択される２種または３種を含む反応性ガス中の各々のガスの比を変化させてスパッタすることにより、屈折率の異なる複数の屈折率層を積層し、所望の反射防止性能を得ることが可能な酸化亜鉛系の反射防止膜の成膜方法及び反射防止膜並びに成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の反射防止膜の成膜方法は、ガス導入手段３５を用いて、成膜室２３内を酸素ガス、水素ガス、水蒸気の群から選択される２種または３種を含む第１の反応性ガス雰囲気として第１の酸化亜鉛系薄膜を成膜し、次いで、この成膜室２３内を酸素ガス、水素ガス、水蒸気の群から選択される２種または３種を含みかつ第１の反応性ガスと異なる組成の第２の反応性ガス雰囲気として第１の酸化亜鉛系薄膜上に第２の酸化亜鉛系薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる切削工具基体表面に、組成式（Ｃｒ_１−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．７０）を満足するＣｒとＡｌの複合窒化物層からなり、かつ、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１０＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角を測定した場合に、小角粒界（０＜θ≦１５゜）の割合が５０％以上であるような結晶配列を示すＣｒとＡｌの複合窒化物層で硬質被覆層を構成する。 （もっと読む）

【課題】再現性よく安定して製造可能なグラデーション濃度分布を有する吸収型多層膜ＮＤフィルターとその製造装置、製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基板13、16に酸化物誘電体膜層と金属吸収膜層が交互に積層されて成る吸収型多層膜を具備し、この吸収型多層膜がグラデーション濃度分布を有している吸収型多層膜ＮＤフィルターであって、酸化物誘電体膜層はマグネトロンスパッタリングにより成膜され、金属吸収膜層はイオンビームスパッタリングにより成膜されると共に、各金属吸収膜層の成膜中に酸素を含む酸化用イオンビームが部分照射されて照射部位における金属吸収膜層の透過率が非照射部位の透過率より高くなっており、かつ、照射された酸化用イオンビームの周辺部から中心部に向かって金属吸収膜層の消衰係数が連続的に減少して上記照射部位がグラデーション濃度分布を有していることを特徴とする。 （もっと読む）