【課題】 プラズマが不安定に成らない様にする。
【解決手段】 絶縁性物質で形成された円筒部材２と、プラズマガスを円筒部材２内に供給するためのガスリング３と、粉末材料とキャリアガスを円筒部材２内に供給するためのパイプＱ´が挿入されており、ガスリング３の中心軸に沿って設けられたプローブ１１´と、円筒部材２の外側に巻かれた誘導コイル４を備えており、誘導コイル４に高周波電力を供給することによって円筒部材２内に高周波誘導熱プラズマを発生させる様に成っている。パイプＱ´の少なくとも先端部分とプローブ１１´の中心孔Ｈ内の少なくとも先端部分のそれぞれに係脱可能な係合部を形成している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＭｏＮの特性とＣｒＡｌＮの特性とを兼備し、特に耐摩耗性に優れた被覆膜を備えた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、ＭｏＮ_y（ただし式中ｙは０．０１≦ｙ≦０．２）で表されるＭｏとＮとの固溶体、Ｍｏ₂Ｎ、ＭｏＮまたはこれらの混合体からなるＡ層と、Ｃｒ_1-xＡｌ_xＮ（ただし式中ｘは０．３≦ｘ≦０．８）からなるＢ層とが交互に各々２層以上積層されてなり、該Ａ層の層厚λａと該Ｂ層の層厚λｂとは、それぞれ２ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、その層厚比λａ／λｂは、基材側から被覆膜の最表面側にかけて増大し、かつ基材に最も近いＡ層とＢ層の層厚比λａ／λｂは０．１以上０．７以下であり、最表面側に最も近いＡ層とＢ層の層厚比λａ／λｂは１．５以上１０以下であることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 工程を煩雑なものとすることなく、かつ産業廃棄物として取扱いが煩雑なものとなる酸洗用の薬液等を使用することなく、最表面に不動態被膜を有する金属基材の表面に、その不動態被膜の酸洗除去等を施さずとも、良好なはんだ濡れ性およびはんだ付けに対する接合強度を付与してなる、表面処理金属材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 この表面処理金属材は、最表層に不動態被膜を有する金属基材１の表面上に、当該金属基材１の表面側から順に、ニオブ（Ｎｂ）を主成分とするスパッタ膜からなり、当該膜の内部残留応力が圧縮応力または略ゼロである密着層２と、銅（Ｃｕ）、銅とニッケル（Ｃｕ−Ｎｉ）の混合状態、銅と亜鉛（Ｃｕ−Ｚｎ）の混合状態、銅とニッケルと亜鉛（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｚｎ）の混合状態のうちの少なくともいずれか一種類を主成分とするスパッタ膜からなる接着層３とを形成してなるものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＶＮの特性とＣｒＡｌＮの特性とを兼備し、特に耐摩耗性に優れた被覆膜を備えた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、ＶＮからなるＡ層と、Ｃｒ_1-xＡｌ_xＮ（ただし式中ｘは０．３≦ｘ≦０．８）からなるＢ層とが交互に各々２層以上積層されてなり、該Ａ層の層厚λａと該Ｂ層の層厚λｂとは、それぞれ２ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、その層厚比λａ／λｂは、基材側から被覆膜の最表面側にかけて増大し、かつ基材に最も近いＡ層とＢ層の層厚比λａ／λｂは０．１以上０．７以下であり、最表面側に最も近いＡ層とＢ層の層厚比λａ／λｂは１．５以上１０以下であることを特徴としている。 （もっと読む）

この発明のある種の実施具体例は、熱処理されたガラス基板によって支持される透明導電性インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）膜を有する被覆品の製造技術に関する。実質的に亜酸化のＩＴＯまたは金属インジウムスズ（ＩｎＳｎ）膜をガラス基板上に室温でスパッタリング蒸着する。上に蒸着された状態の膜を有するガラス基板を昇温する。熱による焼き戻し、または熱強化は、蒸着された状態の膜を結晶透明導電性ＩＴＯ膜に変換する。有利なことに、このことは、例えば、金属モードにおけるＩＴＯ蒸着の一層高い速度のため、タッチパネル組立品のコストが減少する可能性がある。フロートガラスの使用によってタッチパネル組立品のコストが一層減少する可能性がある。
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【課題】 ＤＬＣ被膜と基材との密着性向上を図り、ＤＬＣ被膜が基材から不所望に剥離することを防止でき、耐摩耗性の向上を図り、エンジンの運転開始初期状態等での表面損傷を防止して、焼き付き防止を図れるだけでなく、その後の潤滑状態を良好にして、十分な耐久性の確保を図れるロッカアームアッシーを提供する。
【解決手段】 ＤＬＣ被膜１２を軸基材８に施し、このＤＬＣ被膜１２は、sp2-及びsp3-交雑炭素を含むアモルファス炭化水素を有する最外層の表面層と、この表面層よりも内側で且つ軸基材８に臨み、少なくともクロムを含有する下地層と、これら表面層と下地層との間に介在され、クロムと炭化タングステンとを含むクロム-炭化タングステン層とを有し、ＤＬＣ被膜１２の軸方向の形成範囲を、少なくとも、ころ長ＫＬから、このころ面取Ｋｍの軸方向寸法Ｋｍ１に「２」（両端）を乗じた値を減じて求められる値とする。 （もっと読む）

【課題】ＤＬＣ被膜と基材との密着性向上を図り、ＤＬＣ被膜が基材から不所望に剥離することを防止でき、耐摩耗性の向上を図り、エンジンの運転開始初期状態等での表面損傷を防止して、焼き付き防止を図れるだけでなく、その後の潤滑状態を良好にして、十分な耐久性の確保を図れるロッカアームアッシーを提供する。
【解決手段】ＤＬＣ被膜１２を軸基材８に施し、このＤＬＣ被膜１２は、sp2-及びsp3-交雑炭素を含むアモルファス炭化水素を有する最外層の表面層と、この表面層よりも内側で且つ軸基材８に臨み、少なくともクロムを含有する下地層と、これら表面層と下地層との間に介在され、クロムと炭化タングステンとを含むクロム-炭化タングステン層とを有し、前記クロム-炭化タングステン層の炭化タングステンの含有量が、前記下地層側から前記表面層側に向かって増加する傾斜構造を有する。 （もっと読む）

【課題】低抵抗で、かつ耐湿性・耐薬品性に優れた、酸化亜鉛系導電膜及び酸化インジウム系透明導電膜を積層してなる積層型透明導電膜を提供する。
【解決手段】基板上に、酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜層（Ａ）と酸化インジウムを主成分とする透明導電膜層（Ｂ）とをこの順に積層してなる積層型透明導電膜において、前記透明導電膜層（Ｂ）がアモルファス構造であり、このような積層型透明導電膜は透明導電膜層（Ａ）の成膜を、１×１０^−４Ｐａ〜１．０１３×１０^５Ｐａの到達真空度にてスパッタリング法にて行うことにより製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 ＤＬＣ被膜と基材との密着性向上を図り、ＤＬＣ被膜が基材から不所望に剥離することを防止でき、耐摩耗性の向上を図り、エンジンの運転開始初期状態等での表面損傷を防止して、焼き付き防止を図れるだけでなく、その後の潤滑状態を良好にして、十分な耐久性の確保を図れるロッカアームアッシーを提供する。
【解決手段】 ＤＬＣ被膜１２を軸基材８に施し、このＤＬＣ被膜１２は、sp2-及びsp3-交雑炭素を含むアモルファス炭化水素を有する最外層の表面層と、この表面層よりも内側で且つ軸基材８に臨み、少なくともクロムを含有する下地層と、これら表面層と下地層との間に介在され、クロムと炭化タングステンとを含むクロム-炭化タングステン層とを有し、前記クロム-炭化タングステン層のクロムの含有量が、前記下地層側から前記表面層側に向かって減少する傾斜構造を有する。 （もっと読む）

【課題】所望の腐食性の高い薬品に対して耐食性を示す基体を製造する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも表面層がチタン、チタン合金、チタン合金酸化物又は酸化チタンからなる基体の表面に炭化水素を主成分とするガスの燃焼炎を直接当てて該基体の表面温度を５５０〜１１００℃の範囲内で所定温度に制御して加熱処理するか、又は該基体の表面をその表面温度を５５０〜１１００℃の範囲内で所定温度に制御した状態で炭化水素を主成分とするガスの燃焼ガス雰囲気中で加熱処理して炭素ドープ酸化チタン層を形成することにより、表面の耐食性を制御して所望の薬品環境に対して耐食性を有する基体を製造する。 （もっと読む）

【課題】ルツボの有機材料への水分の混入を抑えるとともに、成膜時の成膜レートや圧力等の安定性を向上させる。
【解決手段】成膜室２の前段に設けられた材料前処理室１において、ルツボ４にて昇華精製された有機材料を前処理ヒーター６によって加熱し、水分量を低減した環境で溶融して固化させる。この材料前処理工程で、ルツボ４の有機材料から水分を除去するとともに、有機材料の材料充填率を高めて、成膜室２における成膜の安定性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐欠損性が向上する被覆層を備えた表面被覆工具を提供する。
【解決手段】 基体２の表面に、Ｔｉ_１−ａＭ_ａ（Ｃ_１−ｘＮ_ｘ）（ＭはＮｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｈｆ、Ａｌ、ＳｉおよびＹの群から選ばれる少なくとも１種、0.35≦ａ≦0.55、0≦ｘ≦1）からなる第１薄層７と、Ｔｉ_１−ｂＭ_ｂ（Ｃ_１−ｙＮ_ｙ）（0.40≦ｂ≦0.60、ただしｂ＞ａ、0≦ｙ≦1）からなる第２薄層８とが交互に一定の周期で積層された下層９と、Ｔｉ_１−ｃＭ_ｃ（Ｃ_１−ｘＮ_ｘ）からなる第３薄層１１と、Ｔｉ_１−ｄＭ_ｄ（Ｃ_１−ｙＮ_ｙ）（0.45≦ｄ≦0.65、ただしｄ＞ｃ、0≦ｙ≦1）からなる第４薄層１２とが交互に一定の周期で積層された上層１３とを被覆し、第１薄層７の平均層厚ｔ_１と第２薄層８の平均層厚ｔ_２との比が1.2≦ｔ_２／ｔ_１≦2.5で、第３薄層１１の平均層厚ｔ_３と第４薄層１２の平均層厚ｔ_４との比が2.5≦ｔ_４／ｔ_３≦18（ただし、（ｔ_２／ｔ_１）＜（ｔ_４／ｔ_３））の表面被覆工具１である。 （もっと読む）

【課題】断続重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる基体表面に、（Ｃｒ，Ａｌ）Ｎ層を硬質被覆層として蒸着形成した表面被覆切削工具において、（Ｃｒ，Ａｌ）Ｎ層を組成式（Ｃｒ_ＸＡｌ_１−Ｘ）Ｎで表した場合、Ｘ＝０．４０〜０．７０を満足する全体平均組成を有し、同時に、下部側（工具基体側）から上部側（表面側）に向うにしたがって、Ｘが０．３から１．０まで漸次増加する傾斜組成を有し、また、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１１＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角θを測定した場合に、０＜θ≦１５゜の割合が５０％以上である結晶配列を示す。 （もっと読む）

【課題】断続重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる基体表面に、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を硬質被覆層として蒸着形成した表面被覆切削工具において、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を組成式（Ｔｉ_ＸＡｌ_１−Ｘ）Ｎで表した場合、Ｘ＝０．５０〜０．７０を満足する全体平均組成を有し、同時に、下部側（工具基体側）から上部側（表面側）に向うにしたがって、Ｘが０．４から１．０まで漸次増加する傾斜組成を有し、また、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１１＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角θを測定した場合に、０＜θ≦１５゜の割合が５０％以上である結晶配列を示す。 （もっと読む）

【課題】平滑かつ緻密な無機膜を生産性を維持しつつ、しかも膜質を長時間安定して形成することができる成膜装置および成膜方法、ならびにバリアフィルムを提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、真空の成膜室内で、有機膜を含む長尺の基板を搬送方向に搬送しつつ、スパッタリングを行い、その表面に無機膜を形成するものであって、基板に対向して配置された第１のターゲット、第１のターゲットの周囲近傍に設けられたアノード部および第１のターゲットに一定周期で電圧を印加する第１の電源部を備える第１の成膜ユニットと、第１の成膜ユニットよりも搬送方向の下流側に設けられ、基板に対向して配置された２つ以上のターゲットおよび各ターゲットに交互に電圧を印加する第２の電源部を備える第２の成膜ユニットと、基板と第１のターゲットとの間および基板と各ターゲットとの間にスパッタガスを供給するスパッタガス供給部とを有する。 （もっと読む）

【課題】連続重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる基体表面に、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を硬質被覆層として蒸着形成した表面被覆切削工具において、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を組成式（Ｔｉ_ＸＡｌ_１−Ｘ）Ｎで表した場合、Ｘ＝０．５０〜０．７０を満足する全体平均組成を有し、同時に、下部側（工具基体側）から上部側（表面側）に向うにしたがって、Ｘが１．０から０．４まで漸次減少する傾斜組成を有し、また、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１１＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角θを測定した場合に、０＜θ≦１５゜の割合が５０％以上である結晶配列を示す。 （もっと読む）

【課題】プラズマガンと電子銃を備えたイオンプレーティング装置を用いて、異常放電を防止しながら成膜を行い、膜素子を製造する方法を提供することにある。
【解決手段】プラズマガンに第１の放電ガスを供給して放電を生じさせた後、第１の放電ガスに代えて、第１の放電ガスより放電を生じにくい第２の放電ガスを供給して放電を継続させることによりプラズマを発生させ、電子銃から電子ビームを蒸発源に照射して蒸発させ、プラズマを通過した蒸気を基板上に堆積させ、薄膜を形成する。これにより、放電しにくい第２の放電ガスで安定にプラズマを発生させ、電子銃周辺での異常放電を防止できる。 （もっと読む）

本発明は、透明導電性酸化物ディスプレイコーティング（ＴＣＯディスプレイ層）、詳細にはフラットパネルディスプレイ及び同様のものにおける透明コンタクトとして透明導電性酸化物ディスプレイコーティングを生成する方法に関する。ＴＣＯディスプレイ層は、水素含有プロセス雰囲気を用いて、亜鉛酸化物と付加的にアルミニウム、インジウム、ホウ素、窒素、リン、塩素、フッ素、又はアンチモン、又はこれらの組み合わせとを堆積することによって生成される。これらのＴＣＯ層は、ＩＴＯと比べて特に簡単でコスト効率のよい方法で実現できる。本発明のＴＣＯ層の特性は、高透過率及び低抵抗に関して、ＩＴＯとほぼ同程度に良好である。 （もっと読む）

【課題】 高速断続重切削において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐欠損性、耐剥離性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、硬質被覆層を蒸着形成してなる表面被覆切削工具において、下部層はＴｉ化合物層で構成され、また、上部層は、化学蒸着により形成された一層平均層厚０．５〜１．０μｍの酸化アルミニウム層と物理蒸着により形成された一層平均層厚０．３〜０．５μｍの酸化アルミニウム層との交互積層構造として構成され、さらに、上部層内に連続して存在するクラックの層厚方向最大長さは０．５μｍ以上１．０μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】良好な耐摩耗性および耐焼き付き性を有するとともに、基材への密着性および耐久性に優れた高硬度の硬質皮膜で被覆された硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材１上に下地層２としてクロム皮膜が形成され、この下地層２上に２００ｎｍ以下の略同一の厚さの応力緩和層３としてのクロム皮膜と硬質層４としての窒素含有クロム皮膜が交互に配置されるように複数のクロム皮膜と複数の窒素含有クロム皮膜が形成されている。下地層２と応力緩和層３と硬質層４は、クロムターゲットを使用してスパッタリングする装置の処理室内で連続的に形成され、下地層２および応力緩和層３を形成する際には、処理室内をアルゴンガス雰囲気にし、硬質層４を形成する際には、処理室内をアルゴンガスと窒素ガスを含む雰囲気にする。 （もっと読む）