【課題】本発明は、内部応力が小さい酸化亜鉛薄膜を提供することを課題とする。
【解決手段】透明基材上に蒸着プロセスを経て形成される酸化亜鉛薄膜であり、該薄膜はＣｕＫα線を用いたＸ線回折法により酸化亜鉛の（００２）面からの回折線が得られ、最大ピーク強度Ｉｆ（ｃｐｓ：酸化亜鉛）を膜厚（ｎｍ）と透明基材が示すハローの最大ピーク強度Ｉｓ（ｃｐｓ：透明基材）とで除した数が０．１５以下とすることとし、さらに該薄膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．９８以下とすること。 （もっと読む）

【課題】Ｉｎ含有量を減らすことができ、しかも、導電性などの膜特性がＩＴＯ膜に匹敵するレベルにまで改良された透明導電膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｚｎ、ＳｎおよびＯを主成分とする焼結体であって、ＳｎモルとＺｎモルの和に対するＳｎモルの比（Ｓｎ／（Ｓｎ＋Ｚｎ））が０．７以上０．９以下の範囲である焼結体をターゲットとして用い、物理的成膜法により支持体上に透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。Ｚｎ、ＳｎおよびＯを主成分とする透明導電膜であって、ＳｎモルとＺｎモルの和に対するＳｎモルの比（Ｓｎ／（Ｓｎ＋Ｚｎ））が０．８以上０．９以下の範囲であり、しかも非晶質膜であることを特徴とする透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】絶縁性の高い、菱面体晶構造を有するペロブスカイト酸化物からなる圧電材料を提供する。
【解決手段】菱面体晶構造を有する、Ｂｉ（Ｍｇ_１／２Ｓｉ_１／２）Ｏ_３で表されるペロブスカイト酸化物からなる圧電材料。互いに異なる結晶相を持つ二つのペロブスカイト酸化物のＢｉ（Ｍｇ_１／２Ｓｉ_１／２）Ｏ_３とＡ（２）Ｍ（２）Ｏ_３とを固溶させて得られた、下記一般式（３）で表される酸化物からなる圧電材料。


（式中、Ａ（２）およびＭ（２）は、それぞれ１種類以上の元素が混晶されている元素を表す。Ｘは０＜Ｘ＜１を表す。） （もっと読む）

本発明は、基板と、対応する電極構造物とを有する電子音響部品（１）、特に、表面音波またはバルク音波で動作する部品に誘電体層（３）を形成する製造方法に関し、多重部品システムとしてのホウケイ酸ガラスなどの蒸着ガラス材料や、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウムなどの単部品システムからなる、蒸着材料のグループから選ばれる少なくとも一つの蒸着材料が、熱蒸着により析出するので、上記誘電体層（３）が、少なくとも部分的に形成される。本発明は、さらに、電子音響部品に関する。
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【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる切削工具基体表面に、組成式（Ａｌ_１−Ｘ Ｔｉ_Ｘ ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．６０）を満足するＡｌとＴｉの複合窒化物層からなり、かつ、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１０＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角を測定した場合に、小角粒界（０＜θ≦１５゜）の割合が５０％以上であるような結晶配列を示すＡｌとＴｉの複合窒化物層で硬質被覆層を構成する。 （もっと読む）

【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる切削工具基体表面に、組成式Ｔｉ（Ｃ_１−ＸＮ_Ｘ）（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．９８）を満足するＴｉの炭窒化物層からなり、かつ、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１０＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角を測定した場合に、小角粒界（０＜θ≦１５゜）の割合が５０％以上であるような結晶配列を示す改質Ｔｉ炭窒化物層で硬質被覆層を構成する。 （もっと読む）

【課題】Ｐｔ膜の上に、高い生産性を有する製造方法により、結晶性のよいＢｉＦｅＯ₃膜を形成する。
【解決手段】例えば単結晶シリコンからなり、主表面が清浄化された基板１０１を用意する。次いで、基板１０１の表面に熱酸化法により酸化シリコン層１０２を形成し、この上に白金（Ｐｔ）層１０３を形成する。Ｐｔ層１０３は、例えば層厚２００ｎｍ程度に形成する。次に、Ｂｉ_1.1ＦｅＯ₃ターゲットを用いたＥＣＲプラズマスパッタ法により、基板温度を４２０〜４６０℃の範囲とし、酸素分圧を４×１０^-3Ｐａ以上とした条件でＢｉＦｅＯ₃を堆積することで、Ｐｔ層１０３の上に（００１）方向へ配向した結晶状態のＢｉＦｅＯ₃結晶膜１０４を形成する。 （もっと読む）

【課題】 高い耐欠損性と耐摩耗性を有する表面被覆部材を提供する。
【解決手段】 硬質相２を結合相３で結合したサーメット基体４と、その表面を被覆する被覆層５とからなり、硬質相２が第１硬質相２ａと第２硬質相２ｂとからなり、サーメット基体４の表面について、第１硬質相２ａの平均粒径をａ_ｓと第２硬質相２ｂの平均粒径をｂ_ｓとの比率（ｂ_ｓ／ａ_ｓ）が２〜１０、表面における硬質相２全体に対する第１硬質相２ａが占める平均面積をＡ_ｓと第２硬質相２ｂが占める平均面積をＢ_ｓとの比率（Ｂ_ｓ／Ａ_ｓ）が２〜１０であり、被覆層５は、層厚が３．５〜１０μｍで、Ｔｉ_{１−ａ−ｂ−ｃ−ｄ}Ａｌ_ａＷ_ｂＳｉ_ｃＭ_ｄ（Ｃ_ｘＮ_１−ｘ）（ただし、ＭはＮｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｙから選ばれる少なくとも１種、０．４５≦ａ≦０．５５、０．０１≦ｂ≦０．１、０．０１≦ｃ≦０．０５、０≦ｄ≦０．１、０≦ｘ≦１）からなる切削工具１等の表面被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】不揮発性半導体メモリ素子向けの絶縁膜形成において、リーク電流密度を低減でき、デバイス特性及び信頼性を向上させることができる金属酸化物絶縁膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】Ｋｒ以上の原子量を有する希ガスを導入して、導入希ガスより重い金属元素を含む金属酸化物ターゲットを用い、ＬａＨｆＯ、ＬａＡｌＯ、ＺｒＡｌＯのように導入希ガスより重いＬａまたはＨｆなどの金属元素を含む金属酸化物絶縁膜をスパッタ成膜する。 （もっと読む）

【課題】 基板を搬送しつつ、スパッタリングによって成膜を行なうに際し、基板のエッチングや、それに起因する放出ガスの発生を抑制して、基板の表面粗さの増加、放出ガスに起因する膜質低下の無い成膜を、安定して行なうことを可能にする。
【解決手段】 基板の搬送方向に複数のターゲットを配置すると共に、成膜室中の放電ガスと基板成分由来の放出ガスとを検出して、放電ガスの量に対する前記基板成分由来の放出ガスの量が１％以下となるように、最上流のターゲットに対する電力を制御することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）は、安価で腰強度が強く且つガスバリア性に優れている為、実用化が期待されているが、その表面に形成する薄膜との密着強度が弱いという問題があった。
【解決手段】延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）フィルムの表面に酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化銅のうち何れかの金属の薄膜をスパッタ法などの密着力が強い成膜方法にて２ｎｍ以下形成した後、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、その他のガスバリア性薄膜を形成することによって密着強度が弱いという問題を解決した。 （もっと読む）

【課題】反応性ガスによって金属ターゲット表面に急激な酸化物層が形成されることを抑え、反応性スパッタリングで金属酸化物組成の金属酸化物膜を再現性よく形成し、３８０〜７８０ｎｍの可視光域において高遮光性、低反射率化、低光沢化が達成された耐熱遮光フィルムを提供すること。
【解決手段】耐熱性の樹脂フィルム上に金属膜を形成し、さらに金属膜上に金属酸化物膜を順次形成する耐熱遮光フィルムの製造方法において、金属膜を形成した後、金属膜の成膜に用いた金属ターゲットのスパッタリングを停止することなく、連続的に金属酸化物膜形成のために所定の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比により所定時間、初段プレスパッタリング、中段プレスパッタリング及び後段プレスパッタリングを順次行い、後段プレスパッタリング終了時のガス流量比で本スパッタリングを行うようにした。 （もっと読む）

【課題】圧電効果の大きな組成範囲の強誘電体膜を備えた素子を効率よく製造する。
【解決手段】第３中間電極７を備えた圧力勾配型プラズマガンを用いてＨｅガスと酸素ガスの混合プラズマを発生させ、この混合プラズマ中の酸素ラジカルにより成膜材料を酸化させる強誘電体膜を形成する。放電ガスとしてＨｅを用いることにより高濃度の酸素ラジカルを発生させることができるため、圧電効果の大きな組成範囲、例えばＰｂ（Ｚｒ_ｘＴｉ_１−ｘ）Ｏ_３（ｘ＞０．４）の膜を効率よく製造することができる。 （もっと読む）

【課題】成膜コストを低く抑えることができ、薄膜化が容易で、光反射率の設定可能範囲の広い導電性アルミニウム薄膜を提供する。
【解決手段】基材１１の表面に形成される導電性アルミニウム（Ａｌ）薄膜たる酸素導入Ａｌ薄膜１２ａは、Ａｌにその固溶限界を超える酸素を導入させてなり、１００ａｔ％のアルミニウムに対する酸素導入量がＥＰＭＡによる測定値において５〜８０ａｔ％である。酸素導入Ａｌ薄膜１２ａは、純Ａｌターゲットを用い、グロー放電を利用した物理蒸着法を用い、その成膜雰囲気において希ガス流量に対して酸素流量を制御することにより成膜される。 （もっと読む）

【課題】摺接部の耐摩耗性を向上し易い摺動部材を提供することを課題とし、そのような摺動部材を製造し易い製造方法を提供する。
【解決手段】被接部２１に当接して摺動する摺接部２３、２５、２６、２７を備え、摺接部２３、２５、２６、２７の表面に、複数の被覆層４１、４２・・・が界面を有して積層された被覆膜４０が形成された摺動部材２１、２２において、被覆膜４０は、界面を複数設けることにより、各被覆層４１、４２・・・を単独で被覆膜４０の膜厚に形成した場合に比べ、摩耗速度を小さくしたものである。 （もっと読む）

【課題】溶着性の高い被削材の切削加工で硬質被覆層がすぐれた自己潤滑性を発揮することにより、すぐれた耐摩耗性を示す表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、マトリックス相と分散相とから構成される硬質被覆層を少なくとも１層以上蒸着形成した表面被覆切削工具において、マトリックス相は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒのうちの１種以上の元素の窒化物および／または炭窒化物からなり、分散相は、Ｎｉ窒化物、Ｎｉ炭窒化物のうちの少なくとも１種以上のＮｉ化合物からなる。 （もっと読む）

本発明はアルカリ金属又はアルカリ土類金属で基板（２）をコーティングするためのコーティング設備（１）の真空コーティングチャンバ（３）から、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の残留物を除去するクリーニング方法に関する。この目的のために、アルカリ金属又はアルカリ土類金属と反応して対応する固体化合物を形成するＮ_２、Ｏ_２、又は空気の群からのガスをチャンバ（３）内に導入する。真空コーティングチャンバ（３）内に追加的に水を導入することができる。アルカリ金属又はアルカリ土類金属がガスと反応した後に、真空コーティングチャンバから対応する固体化合物が除去される。
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【課題】本願発明は、ＡＩＰ法による皮膜表面のドロプレット量を低減し、平滑性に優れた被覆切削工具の製造方法を提供することである。
【解決手段】ＡＩＰ法により皮膜が被覆された被覆切削工具において、該皮膜はＡｌ_ａＣｒ_ｂＯ_ｃＮ_ｄ、但し、ａ、ｂ、ｃ、ｄは原子比率を表し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００、ａ＞ｂ、（ａ＋ｂ）＜（ｃ＋ｄ）、５７≦ｃ≦６７、１６≦ａ≦２９、３≦ｂ≦１７．５、０．５≦ｄ≦７、であり、該皮膜を被覆する工程では、酸素ガスと窒素ガスとの混合ガスを用い、該酸素ガスの流量（ｓｃｃｍ）をＦＲ_Ｏ、該窒素ガスの流量（ｓｃｃｍ）をＦＲ_Ｎとしたとき、０．０２≦ＦＲ_Ｏ／ＦＲ_Ｎ≦０．２、であり、該混合ガス圧力Ｐ（Ｐａ）が、３≦Ｐ≦１５、であることを特徴とする被覆切削工具の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】厚い被覆層をＰＶＤ法で形成することにより優れた耐摩耗性を有する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】基材と、該基材上に形成される被覆層とを含む表面被覆切削工具であって、被覆層は少なくとも１層以上の物理蒸着層を有しており、表面被覆切削工具の少なくとも刃先部における被覆層の厚さが１０μｍ以上５０μｍ以下であって、物理蒸着層は、ＩＶａ族元素、Ｖａ族元素、ＶＩａ族元素、Ｂ、ＳｉおよびＡｌからなる群から選択された少なくとも１種の元素のホウ化物、窒化物、炭化物、酸化物、炭窒化物、窒酸化物または炭窒酸化物からなり、物理蒸着層の各層のＸ線回折法によるＸ線回折ピークの最大の回折強度の和Ｉ_cと、基材のＸ線回折法によるＸ線回折ピークの最大の回折強度Ｉ_subとの比Ｉ_c／Ｉ_subが１以上１００以下である表面被覆切削工具である。 （もっと読む）

【課題】高温での時定数が向上されるよう材料設計された、ウルツ鉱型の結晶構造を有する窒化アルミニウム圧電体を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電体の製造方法は、ウルツ鉱型の結晶構造を有する窒化アルミニウムからなる圧電体の製造方法において、酸素の含有量が０．００１％以上、０．５％以下であり、アルゴンおよび窒素の合計含有量が９９．５％以上、９９．９９９％以下である混合気体の存在下において、アルミニウムと混合気体中の窒素、酸素とを反応させつつ基板上に形成させ、さらに基板上に形成した窒化アルミニウムを５００℃以上、８５０℃以下の温度にて加熱する方法である。 （もっと読む）