【課題】有機発光素子の製造装置において、長時間の蒸着においても膜厚の均一性を失うことなく高い材料利用効率を実現する。
【解決手段】電極を有する基板１上に有機化合物層を備えた有機発光素子を製造する蒸着装置において、蒸着源２０と基板１の間に配置した膜厚補正板２３を蒸着源２０とともに基板１に対してＸ方向に相対的に移動させる。膜厚補正板２３の開口２３ａが、Ｘ方向と直交するＹ方向に沿って開口幅が変化する太鼓形状を有することで、開口端部における蒸着材料の斜入射成分の蒸着時間を増大させて膜厚を均一化する。また、膜厚補正板２３の開口２３ａの周縁に傾斜面２３ｂを備えることにより、蒸発物が開口２３ａの周縁に付着することによる開口寸法の変化を抑制する。これにより安定して所定の膜厚分布を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマ−エンハンスドコーティングプロセスをサポートする装置（８）に関する。
【解決手段】該装置は、プラズマ及び／又はコートされる基板及び／又はプラズマ生成のために設けられた電極の近傍に配置可能であり、プラズマ領域の側部又は面、又は基板又は基板を運搬する運搬要素を配置できる面、又は電極の１つ又はその一部を少なくとも部分的に囲む、又は制限するフレームが設けられていて、ガス状媒体を吸引可能な１つ又はいくつかの吸引開口部１０のあるキャビティ又は吸引チャネル１３が含まれている。 （もっと読む）

【課題】 従来より低コスト、小型で、筒状治具を自転させながら蒸着原料の周りを公転させつつ移動させる装置が必要なく、また試料の一部分に成膜の不要な箇所がある場合にその箇所にマスキング等が不要な、膜厚の均一性が高い薄膜を成膜する薄膜の成膜装置を提供すること。
【解決手段】 真空の炉体２内でターゲット８（蒸着原料）をプラズマ化させ、試料４の表面に膜を形成する薄膜の成膜装置１で、試料４の表面に窒素ガス（不活性ガス）を供給するガス供給装置６を備える。 （もっと読む）

【課題】高品質の有機物／無機物薄膜を製造して商用化することができる有機物／無機物複合薄膜の蒸着方法及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る時間分割型有機物／無機物複合薄膜の蒸着方法および蒸着装置は、有機物／無機物材料が含有されているソースタンクと、これを活性化させる熱開始剤が含有されている触媒ソースタンクとを各々装着することによって、大面積の基板上に有機物／無機物複合薄膜を蒸着する時、厚さを正確に調節することができ、蒸着を均一に行うことができる。また、１つ以上の有機物／無機物複合薄膜を蒸着する場合にも、厚さ及び組成を精密に調節することができる。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布が基板の幅方向において均一となるようにしたノズル構造を有する蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置を提供すること。
【解決手段】蒸着材料を加熱により気化または昇華させることで生成された蒸気が長尺のノズル開口２より帯状に吐出される。一方、前記ノズル開口２に対峙した状態で、当該ノズル開口の長手方向に直交する方向に被蒸着基板３が矢印Ａ方向に搬送されるように構成されている。前記ノズル開口２の長手方向における単位面積あたりの蒸気の吐出流量が、ノズル開口の中央部よりも基板端部の位置と同じノズル幅方向位置の部分において最大となるように構成されると共に、ノズル開口２内には蒸気の流れに指向性を付与する複数の仕切り板４が配置されている。 （もっと読む）

【課題】 基板を回転させずに、均一な厚さの薄膜を面積が大きい基板に形成でき、かつ蒸発される物質の使用効率が高いエバポレータを提供する。
【解決手段】 本発明は、真空熱蒸着用のエバポレータに関し、特に、広範囲に均一な薄膜を形成し、かつ、蒸着される物質の使用効率を改善することができる、円錐状の多層スリットノズルを有するエバポレータに関する。エバポレータは、開放頂面を有する円筒るつぼ１１０と、るつぼ１１０の頂面に組立てられる円筒本体部分１２１を有するノズルユニット１２０とを含み、本体部分１２１は、本体部分を貫いて掘られ、本体部分１２１の上部の周囲部分に形成された円錐状の多層スリット１２２と、スリット１２２に接続され本体部分１２１の下面を貫く蒸発管１２３とを備える。円錐状の多層スリットノズルは、蒸着された薄膜の厚みの均一性を増し、かつ蒸着される物質の使用効率を改善し得る、蒸着される物質の噴出分布をもたらす。 （もっと読む）

【課題】材料の使用効率のよい蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置１０は、蒸着源２１０と輸送路１１０ｅ２１と吹き出し容器１１０と処理容器（第１の処理容器１００）とを有している。蒸着源２１０は、成膜の原料である成膜材料を気化させる。輸送路１１０ｅ２１は、連結路２２０ｅを介して蒸着源２１０に連結され、蒸着源２１０にて気化された成膜材料を輸送する。吹き出し口１１０ｅ１１は、メタルポーラスにて形成され、輸送路１１０ｅ２１を介して緩衝空間Ｓを通過した成膜材料をメタルポーラスから吹き出す。第１の処理容器１００は、吹き出された成膜材料により被処理体Ｇ上に成膜処理を施す。メタルポーラスから均一性の高い気体分子が放出されることにより、被処理体Ｇと吹き出し口１１０ｅ１との間隔を短くすることができる。 （もっと読む）

【課題】排気効率のよい蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置１０は、第１の処理容器１００と第２の処理容器２００とを有している。第１の処理容器１００に内蔵された吹き出し器１１０と第２の処理容器２００に内蔵された蒸着源２１０とは、連結管２２０を介して互いに連結される。第１の処理容器１００には、その内部を所望の真空度にまで排気する排気機構（図示せず）が接続されている。蒸着源２１０により気化された有機分子は、連結管２２０を介して吹き出し器１１０から吹き出される。吹き出された有機分子は、基板Ｇ上に吸着し、これにより基板Ｇ上に薄膜が形成される。第２の処理容器２００と第１の処理容器１００とを別体にて設けることにより、成膜材料補充時、第１の処理容器１００内を大気に開放することがないため、排気効率を上げることができる。 （もっと読む）

【課題】着脱容易であって、比較的小型の遮蔽体により、無用な蒸発粒子を遮蔽および捕捉することができる真空成膜装置を提供することを課題とする。
【解決手段】真空チャンバ２内に、ワークＷと蒸発材料源４とを上下に対向位置して配置した真空蒸着装置１において、蒸発材料源４を囲むと共に、上端開口部において蒸発材料源４からの蒸発流Ａの拡散範囲をワークＷの大きさに対応するように規制する筒状の遮蔽体５を、備えたことものである。 （もっと読む）

【課題】着脱容易であって、最小限の面積の遮蔽板により、無用な蒸発粒子を遮蔽および捕捉することができる。
【解決手段】真空チャンバ２内に、ワークＷと蒸発材料源４とを上下に対向位置して成る真空蒸着装置１において、ワークＷと蒸発材料源４との間に配設され、蒸発材料源４からの蒸発流Ａの拡散範囲をワークＷの大きさに対応するように規制する遮蔽板６１と、遮蔽板６１を着脱自在に支持する遮蔽板支持機構６２と、を備え、遮蔽板６１は、蒸発流Ａの最大拡散範囲に対応する外形を有すると共に、規制された拡散範囲に対応する開口部を有している。 （もっと読む）

【課題】１つの成膜室で短い蒸着時間で被蒸着部材に複数層の膜を形成する。
【解決手段】成膜室４に、基板Ｂに対向して配置された材料放出部１１に、材料を放出する放出口を有する第１〜第３分散容器１２Ａ〜１２Ｃを設け、材料を蒸発させる第１，第３蒸発セル３２Ａ，３２Ｃと第１，第３分散容器１２Ａ，１２Ｃとを第１，第３開閉弁３４Ａ〜３４Ｃを介して接続するとともに、材料の蒸発温度と熱分解温度の間の温度範囲が共通する材料を蒸発する複数の第２−１〜第２−３蒸発セル３２Ｂａ〜３２Ｂｃと、第２分散容器１２Ｂとをそれぞれ第２−１〜第２−３開閉弁３４Ｂａ〜３４Ｂｃを介して接続し、第１〜第３分散容器１２Ａ〜１２Ｃに、放出する材料の蒸発温度と熱分解温度の間の所定温度に加熱する容器加熱装置１７Ａ〜１７Ｃをそれぞれ設け、第１〜第３放出口を選択的に開閉するシャッター装置２０を設けた。 （もっと読む）

【課題】部品の直線的領域だけでなく、部品の非直線的領域にもコーティングを施すことができるシステムを提供する。
【解決手段】部品の非直線的コーティング用装置（１０）は、ハウジング（１４）と、蒸気源（２０）と、少なくとも１つのノズル（２４）と、真空排気システム（１６）と、を含む。蒸気源（２０）は、ハウジング（１４）内の部品（１２）に向かって蒸気雲を生成する。真空排気システム（１６）は、ハウジング（１４）内の圧力を維持する。 （もっと読む）

【課題】広がりのある被蒸着物の基板に対して斜方蒸着する場合、簡単な装置により必要な基板表面の膜厚・蒸着角特性を有する斜方蒸着膜を基板面全体にわたって形成すること、特に膜厚を均一な状態で蒸着する。
【解決手段】基板２を蒸着源１に対して、基板面の法線が基板２の中心と蒸着源１の中心を結ぶ基準線に対し規定の角度をなすように傾斜させ、基板表面に蒸着を行う斜方蒸着装置である。基準線と交差し蒸着物質の蒸気が流通可能な蒸気流通面４に流通密度制御手段を設け、蒸気流通面４の各位置を通過する蒸気流は、蒸着源１から基板２までの距離が近いほど流通密度が小さく、遠いほど流通密度が大きくなるように制御される。流通密度制御手段は、蒸気流通面４において回転する膜厚調整板５_１である。 （もっと読む）

【課題】ＭｇＯ保護膜の耐久性を損うことなく、しかもこのＭｇＯ保護膜を用いたＦＰＤの放電応答特性及び発光効率を向上する。
【解決手段】ＦＰＤ用のＭｇＯ保護膜１３の表面に窪み１３ａを形成するとともに粒子１３ｂを付着させる表面処理用蒸着材１１は、ＭｇＯを主成分とし平均粒径が０．５μｍ〜１ｍｍである。この表面処理用蒸着材１１をＭｇＯ保護膜１３の表面にスプラッシュさせることにより、平均穴径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの窪み１３ａが形成され、かつ平均粒径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの粒子１３ｂが付着される。 （もっと読む）

【課題】ターゲットと基板との間に配置される部材への成膜材料の堆積を起因とする膜品質の低下を防止するとともに、装置稼働率の向上を図ることが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、ターゲット１１から放出された粒子の飛行領域を横切るように、ターゲット１１に対して相対的に基板１５を移動させる基板搬送系５０と、粒子の飛行領域に配置され、基板１５に対する粒子の入射方向及び／又は入射領域を規制する整流治具１００と、粒子の飛行領域に対して整流治具１００を搬出入する治具搬送系６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の生産性を向上させることのできる真空蒸着装置を実現する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス材料１を蒸発させるための蒸着源１０に接続パイプ２１を接続し、２つの分岐パイプ２２ａ、２２ｂを基板３１ａ、３１ｂとマスク３２ａ、３２ｂからなる２つの被成膜物に向けてそれぞれ有機蒸着膜形成を行う。異なる平面上の複数の被成膜物に蒸着源１０からの蒸気を同時に放出し、成膜することで、成膜時間の短縮および装置の小型化を促進する。 （もっと読む）

【課題】蒸発源の材料の減少に伴って蒸発流の密度分布の勾配が大きくなっても、均一な膜厚を形成できる。
【解決手段】真空蒸着室１１内で、蒸発源１の材料を加熱して気化し、蒸発源１の上方に配置された基板３の被蒸着面３ａに蒸着する時に、蒸発源１から放出された蒸発流の密度分布を複数の水晶振動子１５Ａ〜１５Ｃを介して膜厚センサ１５で検出し、膜厚制御装置２１により、前記密度分布の勾配が大きくなった時に、前記密度分布の勾配に応じて、鉛直距離調整装置１４により蒸発源１と被蒸着面３ａとの距離を増大させ、蒸発流の密度分布の均一性が低下することを抑制する。 （もっと読む）

【課題】 高価な有機ＥＬ原料を無駄なく利用すると共に、有機ＥＬ膜を長時間に亘って均一に成膜できる成膜装置及びそのための治具を提供することである。
【解決手段】 単一の原料容器部に対して、複数の吹き出し容器を備え、原料容器部の有機ＥＬ原料を気化してキャリアガスと共に各吹き出し容器に供給する配管系を他の吹き出し容器の配管系へ切り替える切替器を備えている。このように、複数の吹き出し容器に対して、単一の原料容器部から有機ＥＬ原料を切り替え供給することにより、有機ＥＬ原料の利用効率を改善できる。 （もっと読む）

【課題】 ターゲットを継続して使用しても、成膜速度が低下することがないスパッタリング装置、このスパッタリング装置を利用したＰＤＰの製造装置、スパッタリング方法及びＰＤＰの製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング装置１１に真空チャンバー１２及び金属板収納室１３を設ける。真空チャンバー１２内に、ターゲット１５及び基板１７を装着し、ターゲット１５と基板１７との間に、コリメーター１８を配置する。コリメーター１８は３枚の金属板１９を着脱可能に積層して構成し、この３枚の金属板１９を貫通するように、複数の円錐台形状のホール２０を形成する。ターゲット１５がある程度消耗したら、最もターゲット１５側に配置された金属板１９をコリメーター１８から取り外して、金属板収納室１３に移動させる。そして、残りの２枚の金属板１９を使用して、スパッタリングを続行する。 （もっと読む）

【課題】 中性粒子ビームのビーム径を広げ、基板上のより広い面積に粒子の堆積を行う
。
【解決手段】 中性粒子生成源として不活性ガスを満たしたクラスター生成容器５内で、
間欠的なレーザビームを材料の固体ターゲットに照射し、発生した材料蒸気の分子又は原
子同士の結合によりクラスター群を形成せしめ、形成されたクラスター群を、該クラスタ
ー生成容器５の容器窓７から中性粒子ビームとして流出せしめ、該中性粒子ビームの途中
において該中性粒子に対してビーム中央から外周に向かう力を作用させるガイド１１ａお
よびガス噴射口１２ａを設け、中性粒子の流れを変化させる。 （もっと読む）