【課題】絶縁層上に金属薄膜を高い強度で密着させることができる金属薄膜形成方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】本発明の金属薄膜形成方法は、〔ｉ〕架橋微粒子（例えば、ブタジエン／アクリロニトリル／ヒドロキシブチルメタクリレート／メタクリル酸／ジビニルベンゼンからなる共重合物等）及び樹脂（例えば、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールからなるクレゾールノボラック樹脂等のアルカリ可溶性樹脂）を含有する絶縁樹脂組成物により形成されている、架橋微粒子を含有する絶縁層の表面を、プラズマ処理する工程と、〔ｉｉ〕表面が粗化された絶縁層上に、金属薄膜を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

本発明は、真空室内における真空下での材料の蒸着を包含する、触媒活性材料による基材の一面的または多面的なコーティング法に関し、その際、以下の工程：（ａ）真空室に少なくとも１つの基材を装入する工程、（ｂ）真空室を密閉および排気する工程、（ｃ）真空室内にガス状還元剤を導入することによって基材を洗浄する工程、（ｄ）基材表面上への蒸気状成分の蒸着によって基材表面積を増大する工程、（ｅ）プラズマコーティング法（ＰＶＤ法）、物理的気相蒸着法、スパッタリング法などの群から選び取られたコーティング法によってコーティングし、その際、１つ以上の金属および／またはアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属またはそれらの酸化物を基材の表面上に施与する工程を行う。この方法は、例えば、塩素−アルカリ電気分解に際して使用される電極のコーティングに利用され得る。 （もっと読む）

加工物をコーティングするためのＰＶＤ皮膜システムには、少なくとも１つの複酸化物混合結晶皮膜が含まれる。当該複酸化物の組成は（Ｍｅ１_１−ｘＭｅ２_ｘ）_２Ｏ_３である。このとき、Ｍｅ１およびＭｅ２はそれぞれ、Ａｌ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｌｉ，Ｍｇ，Ｍｎ，Ｎｂ，Ｔｉ，ＳｂあるいはＶのうちの少なくとも１つの元素である。元素Ｍｅ１およびＭｅ２は、それぞれ異なる。ＰＶＤ皮膜システムにおける混合結晶皮膜の結晶格子はコランダム型構造を有している。当該コランダム型構造は、Ｘ線回折で測定された前記混合結晶皮膜のスペクトルにおいて、少なくとも３本の、コランダム型構造に特有のラインを有することを特徴としている。さらに、複酸化物の混合結晶皮膜を形成するための真空コーティング法と、当該方法でコーティングされた工具および部品が開示されている。 （もっと読む）

本体（３）と、耐磨耗性ハードコーティングシステム（ＨＬ_０）とを有し、前記システムは以下の組成を有する層を含むワークピース：（Ａｌ_{１−ａ−ｂ−ｃ}Ｃｒ_ａＢ_ｂＺ_ｃ）Ｘ、ＸはＮ、Ｃ、ＣＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＣＮＯのうちの少なくとも一つであり、ＺはＷ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｃｂ（Ｎｂ）のうちの少なくとも一つである。ａ、ｂ、及びｃは特定の範囲に含まれる。
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第１金属を含有する少なくとも部分的な金属表面を有する金属品を、所定の濡れ性を有する表面で被覆する方法であって、以下のステップ：（ａ）金属品の少なくとも一部を、第２金属の層で被覆して、金属−金属接合面を提供すること、該表面はステップ（ａ）の前に、またはステップ（ａ）のために、粗であり；および、（ｂ）ステップ（ａ）の金属−金属接合面を材料に接触させて、所定の濡れ性を有する表面を提供すること、を少なくとも含む、前記方法。第１金属は例えば、鉄、亜鉛、銅、スズ、ニッケルおよびアルミニウム、ならびにスチール、黄銅、青銅およびニチノールを含むこれらの合金からなる群の１種または２種以上であってよい。好ましくは、第２金属を、第１金属の上に、無電解ガルバニック析出を用いて被覆する。被覆金属品の性質は限定されず、これは、本発明の能力が、超疎水性および超親水性の濡れ性を含む所定の濡れ性の、調整された表面を提供することだからである。これにより、本発明は、異なる分野で用いられる広範囲の金属種類に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】密封式油圧ダンパのダイヤフラムゴム膜の放熱性を改良したガスバリヤ構造およびその作製方法を提供する。
【解決手段】密封式油圧ダンパのダイヤフラムを構成するゴム膜１０のガスバリヤ構造であって、上記ゴム膜１０の表面に形成されたアルミニウム薄膜１４と、該アルミニウム薄膜１４上に形成されたフレキシブルＤＬＣ膜１８とを備え、上記アルミニウム薄膜１４と上記フレキシブルＤＬＣ膜１８とが両者間に介在するアルミニウム・シリコン共晶層１６により相互に接合されていることを特徴とするガスバリヤ構造。 （もっと読む）

【課題】 難接着性の樹脂材料を基材として用いながら、密着性、耐食性に優れた電磁波シールド処理または光輝化処理が施された成型体を提供する。
【解決手段】 難接着性の樹脂材料からなる基材の表面にブラスト処理を施し、該ブラスト処理が施された基材の表面に、真空めっき法により、銅膜を０．５μｍ〜２μｍ成膜し、該銅膜の上に、ニッケル、ニッケル合金、クロム、クロム合金、錫−銅−クロム合金、および、錫−銅−ニッケル合金から選択される少なくとも１種からなる保護膜を０．１μｍ〜０．３μｍ成膜することにより、基材の表面に電磁波シールド処理が施された成型体を得る。 （もっと読む）

【課題】大きな接触応力が作用するような条件下、無潤滑下、異物侵入環境下においても好適に使用可能な転がり摺動部材及び転動装置を提供する。
【解決手段】スラスト玉軸受の内輪１，外輪２と玉３との接触面においては、内輪１，外輪２，玉３の母材に、等価弾性定数１００〜２８０ＧＰａのＤＬＣ層Ｄが被覆されている。母材のうちＤＬＣ層Ｄが被覆されている部分の表面粗さＲａは０．０３〜０．２μｍである。ＤＬＣ層Ｄは、炭素からなるカーボン層Ｃと、タングステン及び炭素からなる複合カーボン層ＦＣと、タングステンからなる第一金属層Ｍ１と、タングステン及びクロムからなる複合金属層ＦＭと、クロムからなる第二金属層Ｍ２と、で構成され、これら５層はＤＬＣ層Ｄの表面側から上記の順に配されている。複合カーボン層ＦＣが形成された後には、平均粒径３〜１５０μｍの投射材を噴射して複合カーボン層ＦＣに吹き付ける密着化処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】大きな接触応力が作用するような条件下や無潤滑下においても好適に使用可能な転がり摺動部材及び転動装置を提供する。
【解決手段】スラスト玉軸受の内輪１，外輪２と玉３との接触面においては、内輪１，外輪２，玉３の母材に、潤滑性を有し且つ等価弾性定数が１００ＧＰａ以上２４０ＧＰａ以下であるＤＬＣ層Ｄが被覆されている。母材のうちＤＬＣ層Ｄが被覆されている部分の表面粗さＲｙは、０．２μｍ以上０．８μｍ以下とされている。また、ＤＬＣ層Ｄは、Ｃｒ，Ｗ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｎｉ，及びＦｅのうちの２種以上の金属からなる金属層Ｍと、前記金属及び炭素からなる複合層Ｆと、炭素からなるカーボン層Ｃと、の３層で構成されていて、該３層はＤＬＣ層Ｄの表面側からカーボン層Ｃ，複合層Ｆ，金属層Ｍの順に配されている。この金属層Ｍの厚さは、母材のうちＤＬＣ層Ｄが被覆されている部分の表面粗さＲｙの１倍以上３倍以下である。 （もっと読む）

【課題】大きな接触応力が作用するような条件下や無潤滑下においても好適に使用可能な転がり摺動部材及び転動装置を提供する。
【解決手段】スラスト玉軸受は、内輪１と外輪２と複数の玉３とを備えている。内輪１，外輪２と玉３との接触面、すなわち転がり摺動面には、パルス幅１ｐｓ以上５ｐｓ以下の短パルスレーザーの照射による微細加工が施されている。そして、転がり摺動面のうち微細加工が施されている部分には、ダイヤモンドライクカーボン膜Ｄが被覆されている。ダイヤモンドライクカーボン膜Ｄは、Ｃｒ，Ｗ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｎｉ，及びＦｅのうちの１種以上の金属からなる金属層Ｍと、前記金属及び炭素からなる複合層Ｆと、炭素からなるカーボン層Ｃと、の３層で構成されていて、該３層はダイヤモンドライクカーボン膜Ｄの表面側からカーボン層Ｃ，複合層Ｆ，金属層Ｍの順に配されている。 （もっと読む）

【課題】大きな接触応力が作用するような条件下や無潤滑下においても好適に使用可能な転がり摺動部品及び該転がり摺動部品を備えた転動装置を提供する。
【解決手段】相手部品の表面との間で相対的に転がり摺動する転がり摺動面を有する転がり摺動部品であって、該転がり摺動面上に形成された、緻密な表面構造を有する表面処理層と、該表面処理層の表面に形成された、潤滑性を有するＤＬＣ層を備え、該表面処理層が、パルス幅１〜５ｐｓの条件で短パルスレーザを該摺動面に照射することにより形成されたものであり、該ＤＬＣ層が、Ｃｒ、Ｗ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎｉ及びＦｅからなる群から選択された２種以上の金属からなる金属層と、該金属及び炭素からなる複合層と、炭素からなるカーボン層と、から構成され、該表面処理層側から、該金属層、該複合層、該カーボン層、の順で配置された、転がり摺動部品により解決する。 （もっと読む）

【課題】 難接着性樹脂からなる基材に、プライマーなどを塗布しないで、真空蒸着により、金属膜を直接成膜することを可能とし、電磁波シールド成型体および光輝化成型体を、低コストかつ生産性よく提供する。
【解決手段】ポリアミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、これらにガラス繊維が含有されたもの、および、液晶ポリマーなどからなる基材に、ブラスト処理を行い、その後、該ブラスト処理が施された基材表面に、電磁波シールド膜や光輝化膜を、真空蒸着により成膜する。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜などの硬質皮膜との密着性が良好な硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材２０の表面を処理して、母材２０の最大表面粗さを３μｍ以下にした後、処理装置１０の真空処理室１２内において、ターゲット２２としてクロムターゲットを使用してスパッタリングすることにより、母材２０上にクロム皮膜を介して窒素含有クロム皮膜を形成し、その後、表面の硬質皮膜としてＤＬＣ皮膜を形成する場合には、ターゲット２２としてカーボンターゲットを使用してスパッタリングすることにより、窒素含有クロム皮膜上にＤＬＣ皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 皮膜の耐久性と、有彩色性とを兼備した表面層を持つ金属ガラス部品及びその表面層の形成方法を提供する。
【解決手段】 金属ガラス部品(10)の表面に、硝酸とふっ酸の合せ水溶液(18)を反応させて酸化皮膜(12)除去を行うと共に、アンカー結合形状(14)を金属ガラス部品(10)の表面に準備する界面活性処理を行い、次いで、電気メッキまたは無電解メッキを行うことにより金属ガラス部品(10)の表面にメッキ皮膜(16)を形成する。
これにより、耐久性と有彩色とを兼備した金属ガラス表面層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】硬質イオンプレーティング皮膜の密着性が優れ、且つ、皮膜表面の粗さ低減が容易な鋼、アルミ合金又はTi合金を母材とするピストンリング及びそれに適した前処理方法を提供する。
【解決手段】イオンプレーティング皮膜の下地表面を平均粒径３〜２０μmのアランダム又はカーボランダ等の硬質セラミクス粒子を用いたサンドブラスト加工により、１０点平均粗さ（今後Rzで表示）が０．５〜２．０Rzに加工したあと、該下地表面上にＴｉ又は／及びＣｒとＣ、Ｎ、Ｏから選ばれた少なくとも一種以上で形成された硬質イオンプレーティング皮膜を形成する。
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【課題】半導体等の製品基板の成膜やプラズマ処理装置内に用いる真空装置の部品において、膜状物質の付着性が高く、しかも異常成長による粒子の脱落のない、長時間の連続使用が可能な優れた部品を提供する。
【解決手段】半導体等の成膜装置及びプラズマ処理装置に用いる真空装置用部品において、表面がセラミック及び又は金属溶射膜で被覆され、該溶射膜の表面にＪＩＳＢ０６０１：２００１及びＪＩＳＢ０６３３：２００１で規定する輪郭曲線要素の平均長さＲｓｍが２０〜７０μｍの範囲、算術平均粗さＲａが８〜１５μｍの範囲で、算術平均うねりＷａが８μｍ以下である表面粗さを有する溶射膜を具備するものは、膜状物質の付着性が高く、しかも異常粒成長による粒子の脱落がないため、長時間の連続使用が可能である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有するポリイミド層と蒸着法により金属薄膜を形成した金属層とが、高い接着力で一体に接合されて積層され、接着剤を使用することなくポリイミドからなる支持体と金属層との剥離強度の大きい、微細配線用基板として使用可能である銅積層基板に用いることができるポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】ポリイミドフィルムの減圧放電処理面に蒸着法により金属薄膜を形成するためのポリイミドフィルムであり、ポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に減圧放電処理を行ない、減圧放電処理した面のＲａ（平均粗さ）が０．０３〜０．１μｍの凹凸形状であることを特徴とする蒸着法による金属薄膜形成用のポリイミドフィルム。 （もっと読む）

本発明は、マイクロ構造体上部にナノ構造体を有する医用埋植片、およびその埋植片を作製し、使用する方法を提供する。
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【課題】所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得る。
【解決手段】 部材の表面に、蒸着法によって、単に、光触媒膜、親水性膜をこの順で積層した構造の膜を形成しても、実質的に光触媒作用が発現されそれによる効果が発現されるとは言えない部材に関し、部材の表面粗さを各種材料に適した方法によって、また所望する光触媒性能やコスト増等を勘案して、部材の表面粗さを本願所定の範囲内（算術平均表面粗さＲａで０．７８μｍ以下）で微妙に調整することによって、所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】金型や切削工具等の金型加工工具表面用保護膜によって、成型品の外観を向上させるために、ある程度の高硬度を有すると共に、潤滑性を向上させ、且つ濡れ性を低下させる。
【解決手段】 気相薄膜形成法によって金属表面に形成される、遷移金属元素の窒化物と非晶質構造の炭素との混合膜又は積層膜からなる金属加工工具表面保護膜。 （もっと読む）