例示の実施形態では、表面がコーティングされた高分子基板本体を有する、コーティングされた高分子基板が提供されている。表面のコーティングは一つよりも多い対の塗工層を含む。各対の塗工層は、第１に塗布された塗工層と第２に塗布された塗工層を含む。加えて、塗工層の上に、又は塗工層の間に塗布された指標層が、コーティングの磨耗の兆候を示す。
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【課題】通常の真空成膜法によりプラスチック基材上にＩＴＯ膜の成膜を行うと、非晶質の中に結晶質が混在した膜になってしまう問題が発生する。また、成膜時に水や水素等の還元性ガスを導入し非晶質膜を得る方法は、各々のガスを使用するための装置が別途必要となる。
【解決手段】本発明は、基材の少なくとも一方の面に有機層とＩＴＯ薄膜層とを順次積層した透明導電性積層体であって、有機層の含水率が０．５％以上であり、ＩＴＯ薄膜層が、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折測定において３０°〜３１°の範囲に酸化インジウムの結晶のピークをもたない、非晶質な膜であることを特徴とし、更に、有機層が、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースのいずれかを主成分とすることを特徴とする透明導電性積層体である。 （もっと読む）

【課題】耐久性の高いタッチパネル１を提供する。
【解決手段】基板２２上に透明電極膜１８を形成し、透明電極膜１８の表面に第一の金属薄膜３１を形成してから、第一の金属薄膜３１表面にスパッタリング法で第二の金属薄膜３２を形成して下部電極層３０とする。第二の金属薄膜３２を成膜する際には、スパッタリング雰囲気中に酸素ガス又は窒素ガスを導入し、導入量を増大しながら金属ターゲット６１をスパッタリングするので、第二の金属薄膜３２は表面側程酸素又は窒素の含有量が多くなり、下部電極層３０の表面の耐摩耗性が高くなる。 （もっと読む）

【課題】滑り感等の蒸着膜の表面性を高い信頼性をもって評価するための方法を提供すること。
【解決手段】基材上に蒸着膜を有する光学部材の該蒸着膜表面上で、原子間力顕微鏡の探針を振動させながら走査して位相変化を測定し、測定された位相変化に基づいて前記蒸着膜を評価する蒸着膜評価方法。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性および密着性に優れたガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基材上にガスバリア層が積層された構成を有し、該ガスバリア層は、該フィルム基材に高周波電力を印加して該フィルム基材の周辺でプラズマ生成ガスをプラズマ化させ、更に、該フィルム基材に負の直流高電圧のパルスを印加しつつターゲット材料をスパッタすることにより積層されていることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】
金属表面に形成された高分子薄膜の架橋膜形成を容易に行ない、均一な被膜が形成でき、離型性が高く、かつ薄膜表面の機能性を維持しつつ薄膜を長時間の使用に耐えるようにした、金属表面被膜形成方法を提供すること。
【解決手段】
金属表面に特定の化学式（化１、化２、又は化３）で示されるトリアジンチオール誘導体もしくはチオール化合物を含む溶液を用いた湿式法によって成膜し、その次に含フッ素有機化合物を乾式法によって成膜することを特徴とする金属表面被膜形成方法である。 （もっと読む）

【課題】表面平滑性、ガスバリア性および密着性に優れた高平滑ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基材上に高平滑化層、中間層及びガスバリア層がこの順に積層された構成を有し、該中間層は、該フィルム基材に高周波電力を印加して該フィルム基材の周辺でプラズマ生成ガスをプラズマ化させ、更に、該フィルム基材に負の直流高電圧のパルスを印加しつつターゲット材料をスパッタすることにより積層されていることを特徴とする高平滑ガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】常温でもＩ型結晶構造を多く含む強誘電性の積層体とその製造方法を提供する。
【解決手段】フッ化ビニリデン系ポリマーを含むポリマー層の片面に、フッ化ビニリデン系オリゴマーを含むオリゴマー層が積層されてなる積層体。 （もっと読む）

【課題】外部応力のバリア層への伝播を緩和し、環境変化による圧縮／膨張応力によっても性能が劣化しない透明なガスバリア積層体を提供すること。
【解決手段】本発明のガスバリア積層体は、無機フィラーを５〜６０重量％含むプラスチック基材１の少なくとも一方の面に、透明プライマー層２、厚さ５〜３００ｎｍである無機蒸着層３と、複合皮膜層４．無機フィラーを５〜６０重量％含む応力緩和層５とを順次積層してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＭＢＥ法を用いてIII−Ｖ化合物半導体膜を堆積するためのＭＢＥ用エピタキシャル基板を提供する。
【解決手段】ＭＢＥ用エピタキシャル基板１１は、ＧａＡｓ、ＩｎＰといったIII−Ｖ化合物半導体単結晶ウエハ１３と、ＭＢＥ法を用いてIII−Ｖ化合物半導体膜を堆積するための表面１５ａを有するホモエピタキシャル膜１５とを含む。半導体単結晶ウエハ１３とホモエピタキシャル膜１５との界面１７における炭素濃度、酸素濃度、シリコン濃度は４×１０^１８個／ｃｍ^３未満、１×１０^１８個／ｃｍ^３未満、４×１０^１８個／ｃｍ^３未満である。III−Ｖ化合物半導体膜１７をＭＢＥ法で堆積するに先立って、半導体単結晶ウエハ１３の研磨面１３ａ上にホモエピタキシャル膜１５を形成すると、ウエハ主面のケミカルエッチング処理の有無に関するIII−Ｖ化合物半導体膜１７の光学特性の依存性が低減される。 （もっと読む）

【課題】１原子％を越える多量の窒素が添加された、ペロブスカイト薄膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ペロブスカイト薄膜１は化学式ＲＭＯ₃（ここで、ＲはＳｒ、Ｂａ、Ｃａ又はＭｇから選ばれる元素であり、ＭはＴｉ又はＺｒから選ばれる元素である。）で表わされ、薄膜の窒素含有量が１原子％を超えて添加されている。反応性スパッタ法のターゲットとしてペロブスカイトを用い、反応性スパッタに用いるガスとしては、窒素ガス、又は稀ガスと窒素ガスとの混合ガスを用い、基板２上に窒素が添加されたペロブスカイト薄膜１を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】
熱ＣＶＤ法あるいはＭＯＣＶＤ法で製造される従来の薄膜太陽電池用基板（透明電極）に比べて、安価で、且つ、電気的及び光学的性能が優れている薄膜太陽電池用基板の製造方法として、大面積の製膜が可能で、且つ、安価な有機金属材料を原料に使うことが可能な高周波プラズマＣＶＤ技術を用いた新しい方法及び装置を創出し、それに関する技術を提供すること。
【解決手段】
有機金属材料を原料とする高周波プラズマＣＶＤ装置により、透明性絶縁基板の上に、非晶質酸化チタン膜と結晶質酸化チタン膜と結晶質酸化亜鉛膜の３層構造からなる透明電極膜を積層する。その結果、安価で、且つ、光閉じ込め効果（膜の凹凸構造）を有し、高導電性で高光透過性の薄膜太陽電池用基板が得られる。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れるとともに、優れた発光特性を備えたＩＩＩ族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びＩＩＩ族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプを提供する。
【解決手段】基板１１上に、ＩＩＩ族元素としてＧａを含むＩＩＩ族窒化物化合物半導体からなる半導体層をスパッタ法によって成膜する工程を含む方法であり、前記半導体層を成膜する際、スパッタに用いるチャンバ内に、窒素及びアルゴンを供給してスパッタする。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基材から発生する水分を外部に逃がすことによって、ムクミが発生せず、耐擦傷性に優れた光学物品の製造方法とこの光学物品を提供すること。
【解決手段】メガネレンズ１は、レンズ基材１０の表面に、ハードコート層１１、反射防止層１２、防汚層１３が順に積層される。反射防止層１２は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層され、ハードコート層１１側から順に第１膜１２１、第２膜１２２、第３膜１２３、第４膜１２４、第５膜１２５からなる５層で構成されている。第１膜１２１、第３膜１２３、第５膜１２５は二酸化ケイ素からなり、第２膜１２２、第４膜１２４は、ポーラス化された窒化ケイ素からなる。 なお、反射防止層１２は、スパッタリング法により形成され、低屈折率層は、アルゴンの導入圧が２〜５Ｐａで形成され、高屈折率層は、アルゴンの導入圧が５〜１０Ｐａで形成される。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦性や結晶構造の完全性に優れ、かつ光学特性の良好なＩｎＮエピタキシャル薄膜を得るのに有用で簡便な成長方法を提供する。
【解決手段】ＩｎＮ薄膜をＧａＮバッファ層上にエピタキシャル成長するに先立ち、ＧａＮバッファ層表面上に窒素のプラズマソースの供給がない状態で約１分子層−２分子層（ＭＬ）の厚さのＩｎ金属を供給する。またＧａＮバッファ層の極性がＮ極性（（０００−１）面、−ｃ面）であってもよい。また、成長技術として窒素原子の供給手段としてＮ２ガスから発生するプラズマを用い、ＧａとＩｎの供給手段としてルツボ内でＩｎあるいはＧａ金属元素を高温加熱して生成される原子ビームを利用してもよい。（ＲＦ−ＭＢＥと呼ばれる手法）。 （もっと読む）

【課題】樹脂基材に対する密着強度が高く、高度な屈曲性と引っ張り疲労強度と優れたガスバリア性を発揮することが可能な樹脂成形体を提供する。
【解決手段】樹脂基材と、前記樹脂基材の表面に形成されたガスバリア膜とを備える樹脂成形体であって、前記ガスバリア膜が：（Ａ）クロムの含有量ａが、１０≦ａ≦６０ｍａｓｓ％の範囲；（Ｂ）ニッケルの含有量ｂが、０≦ｂ≦８０ｍａｓｓ％の範囲；（Ｃ）鉄の含有量ｃが、０≦ｃ≦８０ｍａｓｓ％の範囲；（Ｄ）アルミニウムの含有量ｄが、０≦ｄ≦１０ｍａｓｓ％の範囲；（Ｅ）ニッケルの含有量ｂと鉄の含有量ｃとの和が、３０≦ｂ＋ｃ≦８５ｍａｓｓ％の範囲；（Ｆ）ニッケルの含有量ｂとアルミニウムの含有量ｄとの和が、１≦ｂ＋ｄ≦８０ｍａｓｓ％の範囲；で表される条件を全て満たすクロム含有合金からなるものであり、且つ、前記ガスバリア膜の厚みが５ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】本発明は、擦傷性が強く、膜硬度がＤＭＳ薄膜より低く、蒸着法より高い、輝点の少ない反射防止積層体の製造方法、光学機能性フィルタおよび光学表示装置を提供する。
【解決手段】基材上に物理膜厚が１００ｎｍ以上である、又は、基材上に、屈折率の異なる光学薄膜層を複数積層からなり物理膜厚が１００ｎｍ以上である反射防止層を形成する反射防止積層体の製造方法において、前記反射防止層が回転式ターゲットを用いたマグネトロンスパッタリング法により形成され、かつ前記回転式ターゲットを用いたマグネトロンスパッタリング法が、スパッタリングターゲットとしての反射防止層形成材料、及び電源に接続された少なくとも１対の電極を有し、前記電極にパルスパケット方式によりＤＣパルス電圧を印加し、複数回のＤＣパルス電圧印可後、対になっているそれぞれ電極の極性を反転させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 プラスチック基材として、ナイロンフィルムを使用するも、透明性、酸素、水蒸気等に対するガスバリア性等に優れ、更に、バリア性膜としての蒸着膜の剥離を防止し、かつ、その熱的クラックの発生を阻止し、その劣化を防止してバリア性膜として優れた耐性を発揮し、飲食品、医薬品その他等の種々の物品の充填包装適性等に優れた透明バリア性ナイロンフィルムの製造法を提供する。
【解決手段】 ２軸延伸ナイロンフィルム基材の一方の面に、後述の第２の薄膜の第１の薄膜への密着性を向上させ、かつ、第２の薄膜を形成するプラズマ処理による２軸延伸ナイロンフィルムの黄変と劣化を防止する耐プラズマ保護層を構成する物理蒸着法による無機酸化物の蒸着膜からなる第１の薄膜を形成し、次いで、上記の第１の薄膜の上に、プラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着膜からなる第２の薄膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア性フィルムを効率良く製造することが可能な透明ガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 同一の真空槽１２を用いて、透明基材フィルム１８の片面または両面にガスバリア性有機薄膜層およびガスバリア性無機薄膜層を形成する透明ガスバリア性フィルムの製造方法において、前記ガスバリア性有機薄膜層の形成は、前記ガスバリア性有機薄膜層形成材料を気化して発生した蒸気を前記透明基材フィルム１に接触させて塗膜を形成し、前記塗膜を硬化して前記透明ガスバリア性有機薄膜層を形成することで実施され、前記塗膜形成を真空槽１２内で実施し、前記塗膜形成において、前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気圧力条件下で前記蒸気を前記透明基材フィルム１８に接触させる。前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気条件下は、例えば、真空槽１２の真空引きとは別に設けた真空ポンプ１９により実現する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法および真空蒸着法の両方を用いてフイルム基材上に薄膜を積層した積層体に関する。詳しくは、実用上の耐久性を有した積層体に関する。
【解決手段】
プラスチック基材上の少なくとも片側に少なくともスパッタリング法および真空蒸着法のそれぞれを用いた２層以上のセラミック薄膜が形成された積層体において、スパッタリング法で形成したセラミック薄膜の相対密度（かさ密度／理論密度）が９５％以下であることを特徴とする積層体。 （もっと読む）