【課題】 真空成膜装置によりコーティング膜上に無機膜を成膜する際に、無機膜の割れ／抜け等の欠陥を引き起こすコーティング膜の平滑性悪化を防止し、生産性の高い機能性フィルムの製造方法、及び製造装置を提供する。
【解決手段】
フィルムロール４０から連続的に支持体Ｂを送り出し、支持体Ｂ上にコーティング膜を成膜し、支持体Ｂをフィルムロール４２に巻き取る。次いで、フィルムロール４２を真空成膜装置２２の供給室５０にセットし、常圧から１００Ｐａまでの減圧時間が７分以上となる減圧速度で減圧し、さらに所定の真空度まで減圧する。フィルムロール４２から支持体Ｂを、供給室５０の減圧速度より速い減圧速度で所定の真空度まで減圧された真空成膜装置２２の成膜室５２に供給し、コーティング膜上に無機膜を成膜し、無機膜が成膜された支持体Ｂを、真空成膜装置２２の巻取り室５４でフィルムロール４８に巻き取る。 （もっと読む）

【課題】固体表面の改質方法及び表面改質された基材を提供する。
【解決手段】基材の表面に、環状、枝状、又は直鎖構造からなる有機分子を共有結合を介して被覆し、分子膜を形成し、それにより、液体と固体表面の相互作用を著しく抑制して、前進接触角（θ_Ａ）と後退接触角（θ_Ｒ）の差（θ_Ａ−θ_Ｒ、ヒステリシス）を小さくすることで、液滴の滑落・滑水性、耐水性、固体表面からの液滴の除去性を向上させて耐食性あるいは防食性にして、ヒステリシスが５°以下の撥水性、超撥水性を示す表面に改質する、固体表面の改質方法、及びその表面改質された基材。
【効果】固体表面を極めて小さいヒステリシスを有する表面に改質することを可能とする固体表面の改質方法、及び動的接触角の差が極めて小さいため、塩水が表面に残存しにくい、優れた耐食性を示す基材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性および耐久性の良好な反射防止層を形成できる光学物品を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材１と、この基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２の表面３３がシリサイド化されているレンズ１０を提供する。このレンズサンプルは、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜６桁（１０³〜１０⁶）程度小さくなり、光吸収損失の大幅な増加もなく、優れた耐薬品性および耐湿性を備えている。 （もっと読む）

本発明は、第一の外側面および第二の外側面を有する微小板形状のＰＶＤメタリック効果顔料に関し、その微小板形状のＰＶＤメタリック効果顔料は少なくとも１層のＰＶＤ層を有しており、その少なくとも１層のＰＶＤ層は、元素金属のクラスターを伴う元素金属および金属酸化物を含み、そのＰＶＤメタリック効果顔料の第一の外側面の中および第二の外側面の中の元素金属の量が相互に異なっていて、その差が少なくとも１０原子％である。本発明はさらに、この微小板形状のＰＶＤメタリック効果顔料を製造するための方法、およびさらにはその使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ガスバリア性に優れ、生産性に優れるガスバリア性シート、このガスバリア性シートの製造方法、及びこのガスバリア性シートを用いた製品を提供する。さらに、ハードコート性にも優れ、接着性にも優れるガスバリア性シート、このガスバリア性シートの製造方法、及びこのガスバリア性シートを用いた製品を提供する。
【解決手段】基材２と、基材２の一方の面１１の側に設けられたアンカー層９と、アンカー層９の上に設けられたガスバリア層３と、を有するガスバリア性シート１において、アンカー層９が、シロキサン化合物と、重合時にこのシロキサン化合物が有する水酸基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物Ａと、から構成されるポリシロキサン重合体を含有し、ガスバリア層３が、酸化珪素と導電性材料との混合物又は複合物を含有することによって、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】静電容量式タッチパネル等に使用される電極フィルムにおいて、透明導電性薄膜がパターニングされた際に、透明導電性薄膜の有る部分と無い部分での光学特性の差が小さいため、視認性に優れ、かつパターニングが強調されにくい透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルム１１からなる基材の少なくとも片面上に、組成傾斜薄膜層１３及び透明導電性薄膜層１４をこの順に積層した構成を有することを特徴とする透明導電性積層フィルム１０。 （もっと読む）

【課題】植物などから得られるセルロース材料を有効に利用し、酸素バリア性、水蒸気バリア性に優れるだけでなく、透過性に優れ、耐湿熱性に優れ、可とう性に優れ、耐熱水性に優れ、環境負荷の少ないガスバリア性を備える積層体を提供する。
【解決手段】高分子組成物からなる基材の少なくとも一方の面に、無機化合物からなる第１層１１と、短方向の繊維幅が３８０ｎｍ以下のセルロースファイバーを含む第２層１２とを備えることを特徴とする積層体。また、前記セルロースファイバーの短方向の繊維幅が５０ｎｍ以下であることを特徴とする積層体。また、前記基材側から順に、前記第１層１１、前記第２層１２を順に備え、且つ、第１層１１上に第２層１２が直接設けられていることを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】幅方向に複数のレーンを成すように配列した基材または幅広の基材に対しても、膜厚や特性が均一な薄膜を効率良く成膜することが可能であり、また、良好な生産性で厚い膜の成膜が可能な成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】レーザー光Ｌによってターゲット６から叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を帯状の基材３４の表面上に堆積させ、基材３４の表面上に薄膜を形成するにあたり、基材３４の移動方向を転向させる転向部材１１を囲んで加熱ボックス２０を設けるとともに、転向部材１１に接した状態にある基材３４の表面に対向するようにターゲット６を配し、転向部材１１に基材３４の裏面が接しつつ、基材３４を長手方向に移動させた状態で、加熱ボックス２０の中を均等加熱するヒーター２５により、基材３４を加熱し、ターゲット６にレーザー光Ｌを照射する位置を、基材３４の幅方向と同じ方向に振幅させる。 （もっと読む）

【課題】有機電子装置の調製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、有機電子装置またはそれらの構成要素の調製における閉磁界非平衡マグネトロンスパッタイオンプレーティング法の使用と、そのような方法によって得ることができる有機電子装置またはそれらの構成要素とに関する。 （もっと読む）

【課題】光学機能および導電機能に優れた機能性フィルムを、機械強度を低下させることなく、作製し、提供する。
【解決手段】樹脂基板１１の少なくとも一方の面上に、樹脂基板１１とは屈折率の異なる光学膜を有し、光学膜は、樹脂基板１１と接する側から、屈折率ｎ１が１．５０〜２．００、膜厚ｄ１が１〜１０ｎｍの第１の薄膜層１３、屈折率ｎ２が１．９０〜２．５０、膜厚ｄ２が１０〜３５ｎｍの第２の薄膜層１４、屈折率ｎ３が１．３５〜１．５０、膜厚ｄ３が３５〜８０ｎｍの第３の薄膜層１５、屈折率ｎ４が１．９０〜２．２０、膜厚ｄ４が１０〜３０ｎｍ、表面抵抗値が１５０Ω／□〜８００Ω／□の第４の薄膜層１６を積層し、ｎ２＞ｎ４＞ｎ１＞ｎ３であり、機能性フィルムのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表したときのｂ＊の値が−１．０以上２．０以下である機能性フィルム１０。 （もっと読む）

【課題】
印刷速度が高く極めて生産性の高い積層フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
基材フィルムを送出し、真空容器内で前記フィルムの少なくとも片面に塗液を塗布したのち、同一真空容器内で該塗液の塗布面にグロー放電処理を施すことを特徴とする積層フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ビニリデンフルオライド系オリゴマー材料を用いた積層体の製造方法、その積層体、およびビニリデンフルオライド系オリゴマー膜を提供することを目的とする。
【解決手段】基板表面にビニリデンフルオライド系ポリマーを摩擦転写し、該ビニリデンフルオライド系ポリマー表面にビニリデンフルオライド系オリゴマーを蒸着することによって、ビニリデンフルオライド系オリゴマー膜を前記基板上に積層させる。ビニリデンフルオライド系ポリマーは、ビニリデンフルオライドとトリフルオロエチレンの共重合体（Ｐ（ＶｄＦ／ＴｒＦＥ）共重合体）を用いる。 （もっと読む）

【課題】より高いバリア性を有するガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層を有し、前記有機層は、環状炭素骨格を有する３官能以上の（メタ）アクリレートを含む重合性組成物を硬化させてなることを特徴とする、バリア性積層体。 （もっと読む）

本発明は、基材上に蒸着されたメラムの、高湿度に対する耐性が求められる用途（レトルト処理もしくは金属堆積を含むさらなる処理等）または太陽電池やディスプレイ等の用途における使用に関する。バリア層のメラム対メラミン比（ｗ／ｗ）は、３：１〜５０：１の範囲にある。レトルト耐性を有する積層体は、２枚のプラスチックフィルムとその間に結晶性メラム層とを有し、積層体の、９０°引張試験で３０ｍｍ／分で測定されたラミネート強度は約２Ｎ／インチ以上である。 （もっと読む）

【課題】樹脂表面と反射膜用の金属薄膜の密着性を向上させることができる反射膜形成技術を提供する。
【解決手段】本発明は、成膜対象物の樹脂からなる成膜面上に真空中で緩衝用重合体膜を形成する緩衝用重合体膜形成工程（Ｐ２）と、緩衝用重合体膜上に真空中でプラズマによる処理を施すプラズマ処理工程（Ｐ４）と、当該プラズマ処理された緩衝用重合体膜上に、真空蒸着によって光反射性の金属薄膜を形成する反射膜形成工程（Ｐ６）とを有する。 （もっと読む）

【課題】放射線硬化性のモノマー又はオリゴマーが含有された塗布膜を放射線により硬化させた下層を設け、その下層上に真空成膜法により無機膜を設けた積層体の製造方法おいて、上層（無機膜）の平滑性や被覆率の低下を抑制することができる積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】硬化工程前に、基材上の塗布膜を第１の所定時間に渡り第１の圧力で処理し、硬化工程では、基材上の塗布膜を第２の所定時間に渡り第１の圧力より高い第２の圧力で処理し、真空成膜工程では、第３の所定時間に渡り第１の圧力より低い第３の圧力で処理する。 （もっと読む）

【課題】放射線硬化性のモノマー又はオリゴマーが含有された塗布膜を放射線により硬化させた下層を設け、その下層上に真空成膜法により無機膜を設けた積層体の製造方法おいて、上層の被覆率の良い積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）：基材上に放射線硬化性のモノマー又はオリゴマーが含有された塗布液を塗布して塗布膜を設け、塗布膜を加熱処理し、加熱処理後の塗布膜を放射線により硬化させて有機層を成膜する工程と、（ｂ）：工程（ａ）を繰り返すことで２層以上の有機層を含む下層を形成する工程と、（ｃ）：下層上に真空成膜法により無機膜を形成する工程と、で積層体を製造する。 （もっと読む）

【課題】透明電極がＺｎＯ膜で形成され、且つ、熱処理に対する特性の変化を低減することが可能な、表示用基板及びその製造方法並びに表示装置を提供する。
【解決手段】表示用基板１は、支持基板２と、支持基板２上に形成された有機樹脂層３と、有機樹脂層３上に形成された透明電極４と、を備え、透明電極４は有機樹脂層４に密着して形成された酸化亜鉛を含む第１層５と、第１層５上に形成された、第１層５よりも厚い層厚を有する酸化亜鉛を含む第２層６と、からなる。第１層５は、直流スパッタ又は直流マグネトロンスパッタにより形成されており、第２層６は、高周波スパッタ、高周波マグネトロンスパッタ、高周波重畳直流スパッタ、高周波重畳直流マグネトロンスパッタの何れかにより形成される。表示用基板１は、例えば、液晶表示装置の対向電極用の透明電極付基板として使用することができる。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法により従来よりもバリア性が高い無機層を成膜すること。
【解決手段】無機層を成膜する面の面積がａ（単位：ｃｍ²）である支持体を、容積が１００ａ（単位：ｃｍ³）以下である第１真空槽へ搬入して真空状態とし、真空状態を維持したまま支持体を第２真空槽へ搬送して、第２真空槽内にて支持体上に無機層を真空成膜する。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】 本発明の装飾品１の製造方法は、基材２上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程と、第１の被膜３上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜８．０ｗｔ％のＰｄ、６．０〜８．０ｗｔ％のＡｇ、３．０〜５．０ｗｔ％のＩｎ、および、３．０〜５．０ｗｔ％のＺｎを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ−Ｉｎ−Ｚｎ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程とを有する。 （もっと読む）