【課題】α型の結晶構造のアルミナに匹敵する機械的特性、耐久性があってかつ、酸やアルカリの溶液による分解を受けない、準安定型の結晶形態をもつアルミナコーティング構造体を提供する。
【解決手段】あらかじめゾル−ゲル法により結晶構造のアルミナコーティングを形成し、その上にスパッタリング法を用いてアルミナ結晶膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 工程がシンプルであって環境負荷物質を使用せず、かつ耐久性の高い物品の加飾方法、及びその加飾方法により加飾された自動車用部品を提供する。
【解決手段】 加飾方法は、基材の成形（Ｓ１）、基材表面の処理、脱脂洗浄及び除電ブローを含むスパッタリング前処理（Ｓ２）、光沢を有する材料の基材表面へのスパッタリング（Ｓ３）、基材表面への高分子例えば芳香族ポリユリアの蒸着重合（Ｓ４）、製品の取り出し（Ｓ５）及び製品の組付け（Ｓ６）を含む。Ｓ１〜Ｓ６のいずれの工程も、濃酸や６価クロム等の環境負荷の大きい物質を使用しない。さらに、Ｓ１〜Ｓ６の工程は物流が発生しない同期化生産とすることも可能である。 （もっと読む）

【目的】エッチング残渣を抑制するためにＡｌ合金の成膜時の半導体基板温度を低くして配線間短絡不良問題を解消する場合でも、Ａｌ合金成膜の配向性が優れ、表面平滑性を高くできる、Ａｌを主成分とする合金膜からなるアルミニウム配線の形成方法の提供。
【構成】酸化膜上へのＣｕを含有するＡｌ合金のスパッタ成膜時の半導体基板温度を、好ましくは８０℃以上で１３０℃以下、より好ましくは８０℃以上で１００℃以下とし、Ａｌ合金のスパッタ直前の真空中におけるデガス処理を、成膜時の半導体基板温度以上で１３０℃以下にて行うアルミニウム配線の形成方法とする。 （もっと読む）

本発明の成膜装置及び方法は、裏面に永久磁石（１０）が配置されたカソード（５）に、ＨＦ電源（１１）から高周波電圧を与えてリアクティブモードのプラズマを発生させ、このプラズマを用いてプラズマ重合成膜を行う。また、真空チャンバ（１）内のプラズマ源ガスの圧力を調整して、リアクティブモードではなくメタリックモードのプラズマを発生させ、このプラズマを用いて、ターゲットたるカソード（５）をスパッタしてマグネトロンスパッタ成膜を行う。
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【課題】低屈折率誘電体層の成膜レートがより高められた、生産性に優れる光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層とが積層された複合型の誘電体層を備える光情報記録媒体であって、この低屈折率誘電体層に強磁性遷移金属を含有するＳｉ酸化物を用いることで、生産性に優れる光情報記録媒体を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】鮮鋭性の向上した放射線画像変換パネル、その製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】輝尽性蛍光体または輝尽性蛍光体原料を含む蒸発源３を蒸着装置１内で加熱して発生する物質を支持体１１上に蒸着させることにより輝尽性蛍光体層を形成する放射線画像変換パネルの製造方法において、蒸発源ボート容積に対する蒸発源の充填率が４０〜１００％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 適正な膜抵抗の評価を行うことができ、安定した抵抗値が得られる透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に透明導電膜を形成する透明導電膜の製造方法において、製膜室３で形成された透明導電膜の膜厚を測定するとともに、後段の評価室４で上記形成された透明導電膜の抵抗値を測定し、上記測定された膜厚と抵抗値の測定結果を製膜室３での製膜条件にフィードバックして透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】
透明で、耐熱性に優れ、かつ、酸素や水蒸気などガスバリア性が超高度に優れるガスバリア性積層体を提供する。
【解決手段】
プラスチックフィルム１１の少なくとも一方の面に、樹脂層１２と、無機化合物層１３と、好ましくはさらに保護層１４とをこの順に有するガスバリア性積層体１０において、樹脂層１２がポリオルガノシルセスキオキサン、好ましくは籠型構造であり、無機化合物層１３が真空成膜法で形成してなる酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化炭化ケイ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、二酸化ケイ素のいずれかであり、全光線透過率が８０％以上、酸素透過度が０．５ｃｃ／ｍ²・ａｔｍ・２４ｈ以下、水蒸気透過度が０．５ｇ／ｍ²・２４ｈ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着層形成工程での巻き取りジワがなく、寸法安定性の良いポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた透明蒸着フィルムを提供すること。
【解決手段】延伸された透明なプラスチックフィルム（１１）の上に無機化合物の蒸着薄膜（１２）が形成された透明蒸着フィルム（１０）において、プラスチックフィルム（１１）が、縦方向の２００°Ｃ×１０分加熱収縮率が＋１．５〜＋２．５％、横方向の２００°Ｃ×１０分加熱収縮率が−０．５〜＋０．５％の熱収縮特性を有するポリエチレンテレフタレートフィルムである。 （もっと読む）

【課題】
従来の反射体に比べて、製造時において従来であれば異物混入や貼り合わせにより発生していた損失を生じることのない、そして製造も容易な、全反射率や正反射率の高い反射体を提供する。
【解決手段】
表面を高平滑処理してなる基材フィルムの表面に、少なくとも、金属又は金属酸化物による金属蒸着層を積層してなる反射体であって、前記高平滑化処理をすることにより、前記基材フィルムの全反射率が８０％以上、かつ正反射率が８０％以上となること、を特徴とする構成を有した反射体とした。
なし （もっと読む）

【課題】
金属蒸着層に対してさらに光学的な効果を付与したり、金属蒸着層を酸化から守るための層をその表面にさらに設けた金属蒸着層を積層したフィルムの製造方法及び該方法による金属蒸着フィルムを提供する。
【解決手段】
高分子樹脂よりなる基材フィルムの表面に、水溶性塗料による水溶性塗料層を所望の箇所にのみ部分的に積層する、水溶性塗料層積層工程と、前記水溶性塗料層積層工程を終えた前記基材フィルムの前記水溶性塗料層を積層した部分及び積層していない部分の両方の表面に対して一律に、金属または金属酸化物による金属蒸着層を積層してなる金属蒸着層積層工程と、前記金属蒸着層積層工程を終えた前記金属蒸着層の表面に、透明無機蒸着層を積層してなる透明無機蒸着層積層工程と、前記透明無機蒸着層積層工程により得られた積層体を水洗してなる水洗工程と、前記水洗工程後これを乾燥してなる乾燥工程と、よりなる製造方法とした。
なし （もっと読む）

【課題】 透明性に優れ、かつ、高いガスバリア性を有すると共にボイルやレトルト等の高温熱水殺菌処理適性に優れ、バリア性の劣化、層間剥離（デラミ）等の発生がないボイル耐性、レトルト耐性を有する実用性の高いバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤とを含む樹脂組成物によるアンカ−コ−ト剤層を設け、更に、該アンカ−コ−ト剤層の上に、無機酸化物からなる蒸着層を設け、更にまた、該無機酸化物からなる蒸着層の上に、ガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けることを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】
フレキシブル性、透明性、耐熱性、耐溶剤性及び層間密着性に優れ、軽く、割れず、曲げられ、かつ水蒸気や酸素などに対して超高度にガスバリア性を有するガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】
プラスチックフィルム基材１１の少なくとも一方の面に、ゾルゲル層１３、オーバーコート層１５、及び無機化合物層１７がこの順に積層し、好ましくは、上記ゾルゲル層が珪素、アルミニウム、若しくはチタンを主金属成分とした金属アルコキシドの加水分解生成物であり、上記オーバーコート層がアクリレート樹脂が主成分であり、上記無機化合物層が酸化珪素、窒化珪素、炭化珪素、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、或いはそれらの２以上の混合物であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】堆積膜の形成面の全域に亘って高品質な堆積膜を得ることができる反応性スパッタリング方法及び反応性スパッタリング装置を提供すること。
【解決手段】処理容器内にターゲットと基体を配置し、スパッタリング粒子と、処理容器内に供給した反応ガスとの反応物を基体上に堆積させる反応性スパッタリング方法として、前記ターゲットから前記基体上に前記スパッタリング粒子が飛来する空間に、前記基体の堆積膜の形成面に接触することなく、前記基体の堆積膜の形成面を実質的に複数の領域に区切るように仕切り板を配置し、前記仕切り板によって囲まれたそれぞれの空間内に前記仕切り板によって区切られた領域のそれぞれに向けて配置した反応ガス供給ノズルから、前記スパッタリング粒子の堆積速度に応じた流量の反応ガスを、前記仕切り板によって区切られた領域のそれぞれに設置した前記基体の堆積膜の形成面に供給する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高分子樹脂からなるフレキシブル基材上に酸化ケイ素膜や窒化ケイ素膜などの無機化合物層を設け、その無機化合物層の表面に密着力の優れた活性エネルギー線又はプラズマ照射により硬化する有機化合物からなる有機保護膜を真空中で形成する積層体の製造方法を提供するものである。
【解決手段】基材上に、無機化合物層、有機化合物層を設けてなる積層体の製造方法であって、前記有機化合物層が２種以上の（メタ）アクリル化合物を真空中で逐次凝集させた後、活性エネルギー線又はプラズマを照射し、硬化させることにより設けることを特徴とする積層体の製造方法である。 （もっと読む）

一つの実施形態において、本発明は、バリア特性を有する複合フィルムに関する。より具体的には、可撓性プラスチック基板上に窒化ケイ素ベースのコーティングを備える複合フィルムに関する。この窒化ケイ素ベースのコーティングは、約２２０nm以下の厚みを有し、少なくとも７５容量％の窒素を含む大気中においてシリコン標的のスパッタリングによりプラスチック基板上に堆積される。この複合バリアフィルムは、少なくとも約７５％の可視光透過率を有する。別の実施形態において、本発明は、複合バリアフィルムを形成するためにプラスチック基板上に窒化ケイ素ベースのコーティングを堆積させるバリア方法に関する。この方法は、少なくとも約７５容量％の窒素を含む大気中において、シリコン標的のスパッタリングにより基板上の窒化ケイ素ベースのコーティングを堆積させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ミリ波対応型の金属光輝色を有するプラスチック製成形品を効率良く製造する。
【解決手段】プラスチック製成形品からなる基材１の表面側に所定のベースコート層２を設ける工程（Ａ）と、ベースコート層２の設けられた、その表面側に所定の形態からなるグリッド状のマスキング部材３を設置するとともに、このようなマスキング部材３を介して上記ベースコート層２上に金属微粒子５を蒸着させる工程（Ｂ）と、金属微粒子５の上記ベースコート層２への蒸着工程が完了した後に、上記マスキング部材３を取外して、所定の間隙を有した状態で金属微粒子５の蒸着しているベースコート層２上にクリアコート層６を設ける工程と、からなるようにした。 （もっと読む）

【課題】 高いガスバリア性を安定して維持すると共に、特に、水蒸気バリア性を向上させ、かつ、良好な透明性、および、防湿性、耐衝撃性、耐熱水性、密接着性等を備えたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜と、一般式Ｒ¹ _n Ｍ（ＯＲ² ）_m （ただし、式中、Ｒ¹ 、Ｒ² は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１以上の整数を表し、ｎ＋ｍは、Ｍの原子価を表す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜と、無機酸化物の蒸着膜とを順次に積層すること特徴とするガスバリア性積層フィルムに関するものである。 （もっと読む）

本発明は、接点面の少なくとも部分上に析出された、少なくとも支持層と接着層から成るカバー層を有する差込み式もしくは締付け式接続としての使用のための銅含有合金から成る導電性材料に関し、その際、減摩層が４０原子％以上７０原子％以下の炭素含量を有する。 （もっと読む）

本発明は、殊に形態学的に定義されたポリマー表面の耐引掻性シーリングおよび装飾用金属塗装に適した多重層の層構造体、ならびに連続層を形成させるための真空技術的方法に関する。 （もっと読む）