【課題】装置の外径サイズを一定寸法以下に維持しつつ、生産効率及びコストパフォーマンスの高い真空装置を提供する。
【解決手段】真空排気可能なチャンバ３０と、第１及び第２トレイを、チャンバ３０の上部の第１及び第２の領域の直下に、交互に移動させるように回転する円盤状の回転機構３１とを備え、第１の領域の直下を第１及び第２トレイ１１，２１のいずれかが仕切ることにより、第１の領域がなす密閉領域を処理室２０として定義し、第２の領域の直下を第１及び第２トレイ１１，２１の他のいずれかが仕切ることにより、第２の領域がなす密閉領域をロードロック室１０として定義し、チャンバ３０の内部において、第１及び第２トレイ１１，２１をロードロック室１０と処理室２０との間を交互に搬送し、回転機構３１の載置面で規定される領域のサイズに応じて第１及び第２トレイ１１，２１のそれぞれが複数の被処理基板１０１，２０１を配列する。 （もっと読む）

【課題】 トレイを用いることなく基板の温度分布の均一化を図りながら当該基板を搬送することができる基板加熱搬送装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る基板加熱搬送装置１０は、加熱源２０と、この加熱源２０上に載置される均熱板４０と、を具備する。加熱源２０には、複数の貫通孔２２，２２，…が設けられており、均熱板４０にも、同様の貫通孔４２，４２，…が設けられている。さらに、加熱源２０には、均熱板４０と同素材の補完ブロック５０，５０，…が設けられている。この補完ブロック５０，５０，…と均熱板４０の各貫通孔４２，４２，…とが嵌合しているときに、加熱源２０の熱が均熱板４０を介してガラス基板１００に伝えられる。そして、均熱板４０の各貫通孔４２，４２，…が加熱源２０の各貫通孔２２，２２，…上にあるときに、ローラ３０，３０，…によってガラス基板１００が搬送される。 （もっと読む）

【課題】スループット良くＥＬ発光を利用した照明装置を製造することが可能な製造装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】真空室と、真空室を減圧あるいは高真空状態とする排気系と、真空室へ基板を搬送する搬送室と、を有する照明装置の製造装置を提供する。この製造装置において、真空室は、搬送室から搬送された基板上に第１の電極を成膜する成膜室と、第１の電極上に少なくとも発光層を有する第１の発光ユニットを成膜する成膜室と、第１の発光ユニット上に中間層を成膜する成膜室と、中間層上に少なくとも発光層を有する第２の発光ユニットを成膜する成膜室と、第２の発光ユニット上に第２の電極を成膜する成膜室と、第２の電極が設けられた基板上に封止膜を成膜する成膜室と、成膜室のそれぞれに基板を順次搬送するための基板搬送手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの巻き上げを低減し、圧力調整精度の向上及び調整時間の短縮化が図られたチャンバ圧力調整装置を提供する。
【解決手段】チャンバ２２内のガスを吸引するポンプ４２を備える構成とし、チャンバ２２とガスポンプ４２とを連通する連通管５２に圧力調整ガスを導入し、ポンプ４２による流量を一定として、圧力調整ガスの導入量を制御することで、チャンバ２２内の圧力調整を行う。チャンバ２２内にガスを供給することなく、チャンバ２２内のガスを吸引する構成であるため、チャンバ２２内における気流の発生を抑えることができ、パーティクルの巻き上げを防止することができる。また、ポンプ４２による流量を一定としているため、ポンプ４２の回転数制御を行う必要が無く、圧力調整ガスの導入量を調整することで、圧力調整精度を向上させ、圧力調整時間の短縮が図られる。 （もっと読む）

本発明は、反応空間を提供するチャンバーと、前記チャンバー内に互いに離間して設けられる第１及び第２の基板ホルダーと、前記第１及び第２の基板ホルダーの間に配設され、前記第１及び第２の基板ホルダーの方向に順次に蒸着原料を供給する蒸着源と、を備える薄膜蒸着装置と、該薄膜蒸着装置に好適に用いられる薄膜蒸着方法と、これを備えた薄膜蒸着システムを提供する。
本発明によれば、それぞれの工程チャンバー内に設けられた一つの蒸着源を通じて、それぞれの工程チャンバー内に設けられた複数の工程ラインに対して順次に薄膜工程を行うことができるので、費用節減及び生産性の向上を両立させることができる。 （もっと読む）

【課題】緩衝効果を更に向上させて、柔らかい基板を用いた場合でも基板の損傷や破損を防止することが可能な基板支持装置を提供する。
【解決手段】基板に設けられたセンター孔に基板保持部を挿入し、前記基板保持部で前記基板を鉛直姿勢で支持する基板支持装置は、前記基板保持部に連結された第１の連結板と、前記第１の連結板に対向して配置され、前記基板を基板ホルダーに搬送する搬送ロボットに連結された第２の連結板と、前記第１の連結板と第２の連結板とを接続する少なくとも３つの線状の支持部材と、前記第１の連結板と第２の連結板との間に配置された弾性を有する緩衝部材と備える。 （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造装置の占有スペースの増大や基板を流動させる際のロスタイム
を発生させることなく、蒸着マスクをクリーニングすることのできる電子デバイス製造装
置および電子デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】電子デバイス製造装置１０では、有機膜蒸着室６６Ｒ、６６Ｇ、６６Ｂでの
マスク蒸着に用いた蒸着マスクについては、蒸着マスク返却路７５を介して、最下流側の
有機膜蒸着室６６Ｂから最上流側の有機膜蒸着室６６Ｒに戻す。蒸着マスク返却路７５に
はプラズマ処理装置が設けられており、蒸着マスク返却路７５において蒸着マスク４０に
プラズマを照射することにより、蒸着マスク４０に付着した有機物を除去する。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス時においても装置全体の稼働を停止する必要のないインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、少なくとも一の成膜処理室を含む複数の処理室を直列に接続してなり、成膜処理室は、基板が設置される基板設置部１４１と、設置された前記基板に対して所定の成膜処理を行う成膜手段が設置された成膜手段設置部１４２とからなり、これらの基板設置部と成膜手段設置部とは分離可能に構成されている成膜装置であって、基板設置部と成膜処理室とを隔絶し基板設置部内の真空を保持するシャッター３を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板マスク固定手段含めアライメント周りの機構を簡単化、あるいは簡素化することで保守性を向上できる、または、マスクの変形を回避し、高精度に蒸着できる成膜装置及び成膜方法、あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い成膜装置を提供する。
【解決手段】基板６を基板ホルダー９１に載置し、前記基板とシャドウマスク８１とをアライメントし、前記基板とシャドウマスクとを、前記基板ホルダーとは独立して設けられた磁石によって吸着固定させて、真空チャンバ内で蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記吸着固定を基板とシャドウマスクを立てた状態で行なう、あるいは、前記磁石は電磁石であり、前記電磁石を保持する基板マスク吸着体と、前記マスク吸着体を収納する収納ケースを有する。 （もっと読む）

【課題】装置構成の複雑化や処理負荷の増大等を招くことなく、被処理基板の表面に対する分子汚染を有効に抑制する。
【解決手段】被処理基板２１がセットされるテーブル部２０と、前記被処理基板２１の一面側を覆う板状部材３１を有するとともに当該被処理基板２１と接触せず当該被処理基板２１との間隔が当該被処理基板２１の二次元代表寸法の１／１０００以下の大きさとなる位置に前記板状部材３１を配するカバー部３０と、前記テーブル部２０および前記カバー部３０を内蔵する減圧チャンバ室１０と、を備えて基板処理装置を構成する。そして、前記被処理基板２１と前記板状部材３１との間隙と当該間隙を除く当該減圧チャンバ室１０の内部空間との間で差動排気を成立させつつ当該減圧チャンバ室１０内を減圧し、前記減圧チャンバ室１０内が所定圧まで減圧された後に、前記被処理基板２１と前記板状部材３１とを離間させるようにする。 （もっと読む）

【課題】複数の成膜バッチを連続して安定に行うことができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、ターゲットのスパッタ物質を基板に付着させる成膜プロセス領域と、成膜プロセス領域とは分離して配置され基板に反応性ガスを接触させてスパッタ物質の組成を変換させる反応プロセス領域と、成膜プロセス領域と反応プロセス領域の間で基板を繰り返し移動させる基板保持移動手段とを有する。成膜プロセス領域及び反応プロセス領域が配置される成膜室に対し、開閉可能な隔絶手段１１ｂを介して接続されたロードロック室１１Ｂを含む。ロードロック室１１Ｂには、ロードロック室１１Ｂの内部を加熱可能な加熱装置９０が設けられ、ロードロック室１１Ｂ内を排気可能な真空ポンプ１５’が接続されている。ロードロック室１１Ｂには、ロードロック室１１Ｂの内部に浮遊する不純物成分としての水分を凝結捕捉可能なガス凝結捕捉装置７０を設ける。 （もっと読む）

【課題】成膜処理のタクト時間を長くすることなく、加熱工程での消費電力を低減する。
【解決手段】インライン成膜処理装置において、生産停止中に成膜処理室に設けたシースヒータを用いて全カートを高温に保持することによって、生産開始に移行した際のランプヒータを用いて行う加熱工程での消費電力を低減する。消費電力が少ないシースヒータによって全カートを高温に保持することによって、消費電力が大きなランプヒータによる加熱を低減し、加熱室での加熱工程による消費電力を低減する。全カートが高温に保持されているため、加熱室における加熱工程で行う昇温幅を従来よりも小さくすることができ、これによってタクト時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバー内の加熱手段から真空ゲートバルブへの伝熱を防いで真空ゲートバルブを効果的に保護する真空ゲートバルブ保護装置を提供することを目的とする。
【解決手段】成膜チャンバー４Ｃと前段バッファチャンバー４Ｂとの間で開閉する真空ゲートバルブ７を保護する真空ゲートバルブ保護装置１０において、成膜チャンバー４Ｃ内に設けられると共に、加熱ヒータ９と成膜チャンバー４Ｃとの間における基板Ｗの経路Ｒｔ上への進出及び経路Ｒｔからの退避が可能であり、基板Ｗの経路Ｒｔ上に進出した状態で加熱ヒータ９側を向いて加熱ヒータ９からの熱線を反射する反射板２３を備える。 （もっと読む）

【課題】少ない設置面積で、ウェーハを含む基板の搬送及び処理を行う装置及び方法を提供する。
【解決手段】線形搬送チャンバ１２３２は、線形トラックと、線形トラックに乗っているロボットアーム１２４３等を含み、基板を線形的に、処理チャンバ１２０１等の側部に沿って搬送する。又ロードロック１２３５を介し、処理チャンバ１２０１等に到達させ、搬送チャンバ１２３２に沿って基板を制御された雰囲気の中に供給する。よって相応な経費で、且つ改良されたスループットで効率的に製造を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】スペースを有効利用し、品質低下を防止し、生産効率を向上させることのできる外段取り装置を提供する。
【解決手段】被成膜対象の基材５が装着されるとともに、成膜装置内に配置される基材ホルダ４を保持する保持部材２０と、この保持部材２０が取り付けられる移動可能フレーム１０と、この移動可能フレーム１０に取り付けられるとともに、基材ホルダ４の表面に清浄空気を供給する清浄空気供給手段３０とを備えたことを特徴とする外段取り装置１。 （もっと読む）

【課題】搬送チャンバを小型化できる、生産性の高い、あるいは、稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または成膜装置あるいはシャドウマスク交換装置または同交換方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバであって、基板とシャドウマスクとのアライメントを行い、真空チャンバ内で蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバと大気雰囲気部とに隣接し、前記２つの隣接部を介して前記真空蒸着チャンバに前記シャドウマスクを搬入出する手段を有するシャドウマスク交換室を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＭｇＯ保護膜の結晶配向強度分布を改善する。
【解決手段】基板１０の一辺を先頭して搬送しながらＭｇＯ膜を成膜すると、基板１０の先頭と直角な二辺（両側辺）が、両側辺の間の中央よりも（１１１）結晶配向強度が低くなる。アニール用のヒーター３８を複数本の細長ヒーター３８ａに分割し、基板１０の両側辺が中央よりも高温になるよう加熱すると、両側辺の（１１１）結晶配向強度が高くなり、（１１１）結晶配向強度の面内分布が向上する。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバ内に連続してシート基材を供給して、真空成膜を行なうことが可能であり、しかも、真空を破壊せずに連続的に作業ができる真空成膜装置を実現させる減圧ユニットの提供を目的とする。
【解決手段】排気減圧される真空室10を内部に有する金属製ブロック体11を備えると共に、平面スリット状パスライン12が真空室10を貫通して内部に形成され、さらに、多孔ローラ20及び押圧ローラ22を内部に備えている。 （もっと読む）

【課題】容器内の真空度を短時間で高められる真空成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板を配置可能な空間部１０１ｄを備えた反応容器と、空間部１０１ｄ内に設置された成膜手段と、空間部１０１ｄの内部を減圧状態とする排気手段と、反応容器の一面に設けられ、空間部１０１ｄに連通された開口部１０１ｃと、開口部１０１ｃを覆うように取り付けられ、開口部１０１ｃを開閉自在とする扉部１０７と、開口部１０１ｃまたは扉部１０７の外周に取り付けられた枠部８０３と、枠部８０３に開口部１０１ｃを囲むように形成された溝部８０３ｃと、溝部８０３ｃに嵌めこまれたＯリング８０２と、枠部８０３に取り付けられ、枠部８０３を加熱する加熱部８０４と、を有する真空成膜装置を用いることにより、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】シャドウマスクの反りの影響を低減し、高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置並びにそれらの製造方法及び成膜方法を提供することである。あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバ内で基板とシャドウマスクとのアライメントを行ない、蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記基板を保持し、立てた姿勢に保持する基板ホルダーと、前記シャドウマスクを前記立てた姿勢の前記基板に対面するように保持するシャドウマスク保持手段とを有し、シャドウマスクの反りによる蒸着時の影響を低減することを特徴とする。 （もっと読む）