【課題】水性の内容物の種類によって液切れ性を調整しながら同時に高いレベルのバリア性を出す技術を提供することを目的とする。
【解決手段】プラスチック製中空容器において本体内面が単層または多層のセラミック薄膜コートされ、その水素結合由来の表面自由エネルギーγs−ｈが３ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とするバリア性容器を提供する。
特に、セラミック薄膜がＣＶＤ法またはスパッタ、蒸着等のＰＶＤ法で形成されていることを特徴とする請求項１記載のバリア性容器や、セラミック薄膜の組成が酸化珪素、ダイヤモンドライクカーボンまたはアルミナを主成分とすることを特徴とするバリア性容器が好ましい。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性に優れるとともに、押圧抵抗を軽減して高度な成形性を実現することが可能なハニカム構造体成形用口金を提供する。
【解決手段】本発明のハニカム構造体成形用口金１は、少なくとも二つの面８，９を有し、一方の面８に成形原料を導入する裏孔３が形成されるとともに、他方の面９に裏孔３と連通するスリット４が形成された板状の口金基体２を備えたハニカム構造体成形用口金１であって、口金基体２上の、裏孔３及びスリット４を構成する部位の少なくとも一部を覆うように配設された下地層５と、下地層５の少なくとも一部を覆うように配設された、Ｗ₃Ｃを主成分とする平均粒径５μｍ以下のタングステンカーバイド粒子から構成された中間層６と、中間層６の少なくとも一部を覆うように配設されたダイヤモンド及び／又はダイヤモンド状炭素から構成された表面層７とをさらに備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 潤滑油を用いた湿式条件で使用した場合に、潤滑油に含まれる添加剤の吸着、反応に依存することなく低摩擦係数を実現できるピストンリング、ピストン、シリンダ、ピストンピンを提供する。
【解決手段】 潤滑油を用いた湿式条件で使用されるピストンリング、ピストン、シリンダ、ピストンピンを、それぞれ、Ｓｉ含有量が１ａｔ％以上２０ａｔ％以下であり、表面粗さがＲzjis０．５μｍ以下である非晶質硬質炭素膜を備えるよう構成する。 （もっと読む）

【課題】 微粒子又は粉体の表面に薄膜又は超微粒子を均一性よく被覆できるＣＶＤ装置及びＣＶＤ成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＣＶＤ装置は、微粒子１を載置する容器２と、前記容器２を収容するチャンバー３と、前記容器２に載置された微粒子１を加熱するヒーター４と、前記チャンバー３内に原料ガスを導入するガス導入機構と、を具備し、サーマルＣＶＤ法を用いることにより、前記微粒子１の表面に該微粒子より粒径の小さい超微粒子又は薄膜を被覆することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＳＨＦ放電プラズマ中の気相からダイヤモンド膜を堆積する高速方法及び該方法を実行する装置
【解決手段】本発明は、ＳＨＦ放電プラズマの補助によって、ガス状化合物を分解することによる炭素堆積に関し、例えば、多結晶ダイヤモンド膜（プレート）を製造するのに用いることができる。ＳＨＦ放電は、反応チャンバ内に配置され、かつ少なくとも水素と炭化水素を含むガス混合物内で始まる。その後、前記ガス混合物は、一般に用いられている２．４５ＧＨｚの周波数よりも何倍も高い周波数ｆ、例えば、３０ＧＨｚを有するＳＨＦ放射の補助によって、安定した非平衡プラズマを生成することによって活性化される。該プラズマを局在化するため、定常波が、キャリヤの近くに形成され、プラズマ層が、そのサイズが調節可能なように、その波腹において形成される。
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本発明は、その一実施態様において、小粒子上のダイヤモンドライクコーティングを提供する。本発明は、約１〜１０００ｎｍのサイズ範囲の小粒子（１０）と、この小粒子上のダイヤモンドライクコーティングとを有する。このダイヤモンドライクコーティングは、この小粒子の表面の約５０〜１００％にわたって分布しており、かつこのダイヤモンドライクコーティングの厚さは１ミクロン以下である。次いでこれらの小粒子を、樹脂（１２）のような材料及び絶縁テープに施与してよい。
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【課題】 人工関節用インプラントの耐久性を高める。
【解決手段】 炭化水素ガス及び有機シリコンガスの混合ガスのプラズマを使用し、炭化水素ガスのガス種とイオン注入電圧とを変化させて、イオン注入及びＣＶＤを組み合わせた複合プロセスにより、インプラント基材（１ａ）の表面にＤＬＣ膜（５）を成膜する。人工関節用インプラントのＤＬＣ膜の界面接着強度を高め、摩擦係数を低減することができ、従って、人工関節の強度、耐久性を高めることができる。 （もっと読む）

本発明は、ダイヤモンド担持半導体デバイス（２００）、およびそれを形成するための方法を提供する。１つの局面では、ダイヤモンド層（２０４）のデバイス表面（２１０）のために意図された構成に逆に適合するように構成された界面表面（２１２）を有する型（２２０）が提供される。次いで、無力なダイヤモンド層（２０４）が、型（２２０）のダイヤモンド界面表面（２１２）の上に堆積され、基材（２０２）が無力なダイヤモンド層（２０４）の成長表面（２２２）に接合される。次いで、型（２２０）の少なくとも一部が取り除かれ、型のダイヤモンド界面表面の構成に逆に対応する形状を受けた、ダイヤモンドのデバイス表面（２１０）が露出される。型（２２０）は、最終のデバイスを製造するために薄くされる適切な半導体材料から形成され得る。必要に応じて、半導体材料が、型（２２０）の除去のあと、ダイヤモンド層（２０４）に結合され得る。
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【課題】耐腐蝕性が改良されたダイヤモンド被覆電極を提供すること。
【解決手段】本発明は、導電性ダイヤモンドで形成された被覆部を、少なくともその一方の面に有する基板（Ｆ）からなる電極で、該被覆部が、第１平均粒径を有する少なくとも１つの第１ダイヤモンド層（Ｂ、Ｄ）と、第２平均粒径を有する少なくとも１つの第２ダイヤモンド層（Ｃ、Ｅ）とからなり、該第１平均粒径が、第２平均粒径よりも大きく、第１ダイヤモンド層（Ｂ、Ｄ）が、第２ダイヤモンド層（Ｃ、Ｅ）で覆われている、電極に関する。 （もっと読む）

少なくとも滑り面の一定部分に少なくとも支持コート層と滑りコート層とからなる被覆コート層が析出被着された、滑り軸受に使用するための銅または銅含有合金からなる軸受材料であって、滑りコート層は硬質コート層であって、ダイヤモンドタイプの炭素を含有してなる軸受材料。 （もっと読む）

アモルファス炭素材料を堆積するための方法が提供される。一態様では、本発明は、処理チャンバに基板を位置決めするステップと、該処理チャンバに処理ガスを導入するステップであって、該処理ガスがキャリアガス、水素および１つ以上の前駆体化合物を含むステップと、二重周波数ＲＦ源から電力を印加することによって該処理ガスのプラズマを生成するステップと、該基板上にアモルファス炭素層を堆積するステップとを含む基板処理方法を提供する。 （もっと読む）

本発明による実施形態は、半導体被加工物（８８２）の傾斜上の材料の堆積を低減する、またはなくすために単独または組み合わせて用いることができる種々の技術に関連する。一アプローチでは、傾斜領域へのガスの流れを妨げるためにシャドーリング（８８０）が基板（８８２）のエッジを覆っている。エッジをシャドーする間にウエハー全域で厚さの均一性を維持するために、シャドーリングのエッジ（８８０ａ）での形体がガスの流れをウエハーに向けて方向付ける。別のアプローチでは、基板ヒータ／支持部がパージガスを支持されている基板のエッジに流すように構成されている。これらのパージガスは、プロセスガスが基板エッジに達して傾斜領域上に材料が堆積するのを防ぐ。 （もっと読む）

本発明は、
−ケイ素イオンまたはゲルマニウムイオンのビームを使用して、基材を照射することによる核生成サイト（４）の形成と、
−形成された核生成サイト上でのナノストラクチャー（８）の成長
とを含むナノストラクチャーの形成方法に関する。
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化学気相輸送法（CVT）を用いて、低温低圧で、基板にダイヤモンドコーティングを製作する方法であって、ワイヤ巻付グラファイト組立部材と、基板とをチャンバ室内に提供するステップと、チャンバ室に水素を充填するステップと、チャンバ室の内部圧力を真空にしてから、水素を再度充填するステップと、1気圧未満の水素を含有したままチャンバ室を密閉するステップと、基板が125℃〜750℃の範囲に加熱されるまで、グラファイト棒に電流を流すステップと、を有する方法によって、優れた特性が得られる温度で、高品質ダイヤモンドが形成される。
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本発明は、ＩＶＢ族、ＶＢ族、又はＶＩＢ族の少なくとも１つの元素を含む第一中間層と、前記第一中間層の上に堆積した、ダイヤモンド様ナノコンポジット組成物を含む第二中間層と、前記第二中間層の上に堆積したダイヤモンド様炭素層とを備えた積層構造物に関する。本発明は、更に、そのような積層構造物で被覆された基材を高剪断用途及び／又は高衝撃用途に使用することに関するとともに、そのような積層構造物で基材を被覆する方法に関する。 （もっと読む）

差動装置（１０）の耐久性を改良するための方法であって、作動装置（１０）は、ピニオンシャフト（１２）と、ピニオン（１３）の内径の表面と接触するピニオン（１２ａ）とを有する。本方法は、ピニオンシャフト（１２）又はピニオン（１３）又は両方の表面の、ピニオンシャフト（１２）とピニオン（１３）との間の接触面に、ピニオン（１３）の材料と接触する際にピニオンシャフト（１２）の材料より低い摩擦係数及び高い焼き付き抵抗を有するコーティングＣを結合すること、を備える。

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本発明は、限界寸法が５０ｎｍ以下のポリシリコンラインフィーチャをパターニングするためのカーボンハードマスク層のために、二酸化シリコンのキャップ層を形成する方法を開示する。このために、低温のプラズマ支援型ＣＶＤプロセスが用いられ、このプロセスにおいては、堆積速度を低く維持して層厚の制御性と二酸化シリコン層の光学特徴とを向上させることができる。
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内燃モータ用のピストン（２０）は、少なくとも部分的に研磨され、その後８ＧＰaを越える硬度を有しかつ０．２０未満の摩擦係数を有しているコーティング（２６）を被覆された表面（２４）を有しているスカート（２２）を有する。該ピストンは、性能の向上、寿命の延長、および低減された摩擦を有する。

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【課題】 磁気記録媒体表面に塗布される潤滑層において、潤滑剤が保護層に結合するのを阻害する不純物を除くことにより、結合潤滑層を厚くする方法であって、蒸着速度を制御することができる量産にも適した磁気記録媒体の製造方法、並びに製造装置を提供することである。
【解決手段】 基板上に各種の下地層、磁気記録層、保護層および潤滑層が積層された磁気記録媒体を製造する方法において、前記保護層および前記潤滑層を、それぞれ保護層を形成する真空槽および潤滑層を形成する真空槽で連続して形成し、前記保護層を形成する真空槽と前記潤滑層を形成する真空槽とが相互に遮断されており、前記保護層および前記潤滑層を孤立した状態で形成することを特徴とする方法。 （もっと読む）

［課題］ ガスバリヤ性の優れたトレイ、カップを提供する事にある。
［解決手段］ 開放口を有するトレイ、カップなどの容器の内部を真空にして、ガスを吹き込み高周波を照射する事によりガスをプラズマ化し、容器の内面にＳｉＯｘ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｇＯなどの金属酸化物または、ＤＬＣ（ダイアモンドライクカーボン）などの蒸着皮膜を形成させた、内容物が酸化され難く、添加剤などが内容物に移行し難いハイバリヤ性トレイ、カップ。 （もっと読む）