【課題】基板を容易に出し入れすることができ、また、生産効率を向上することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜材料ガスを導入可能なチャンバ１１と、チャンバ１１内に設けられた、基板１３を配置可能な基板配置電極１４と基板配置電極１４に略平行に対向配置された対向電極２１とからなる一対の放電電極と、を備えた成膜装置１０において、チャンバ１１内に、基板配置電極１４と対向電極２１とが交互に複数配置され、対向電極２１が接地電極として構成されるとともに、基板配置電極１４に対して１００ｋＨｚ以上２ＭＨｚ以下の低周波交流電圧を印加可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】導電性ダイヤモンド膜の被覆手段としてプラズマＣＶＤ法を適用した導電性ダイヤモンド被覆網状電極、その製造方法などを提供する。
【解決手段】高融点金属で形成された網状基材に導電性ダイヤモンド膜をプラズマＣＶＤ法により被覆する網状電極の製造方法である。真空容器２１内に網状基材１を載置した載置台１１を設け、前記載置台１１に載置された網状基材１の外周を取り囲むように高融点金属で形成された外枠１２を前記載置台１１の外周部に設ける。そして前記真空容器２１内に炭素源を含む原料ガスを供給し、前記載置台１１および外枠１２を包み込むようにプラズマを形成して前記網状基材１に導電性ダイヤモンド膜を被覆する。 （もっと読む）

【課題】３つの電極で２つの放電空間を形成するプラズマ処理装置において、中央の電極を確実に固定する。
【解決手段】中央電極２１の一側に第１外側電極２２Ｌを配置し、反対側に第２外側電極２２Ｒを配置する。第１外側電極２２Ｌの中央側の面を第１誘電部材３２Ｌで覆い、第２外側電極２２Ｒの中央側の面を第２誘電部材３２Ｒで覆う。誘電部材３２Ｌ，３２Ｒに複数の凸部３２ｆを形成し、これら凸部３２ｆを中央電極２１に当て、中央電極２１を挟み付ける。隣り合う凸部３２ｆ，３２ｆが放電空間３２ｅになる。 （もっと読む）

【課題】陽極に形成された反応生成物を取り除くことができるシートプラズマ装置を提供する。
【解決手段】本発明のシートプラズマ装置１００は、内部を減圧可能な減圧容器６０と、プラズマガン１０と、減圧容器の内部においてプラズマを受ける平板状の陽極５１と、減圧容器の一部を成すように形成され、その内部に円柱状のプラズマ２２を流動させかつこの円柱状のプラズマをシート状のプラズマ２７に変形させるシートプラズマ変形槽２０と、減圧容器の一部を成すように形成された成膜槽３０と、陽極を回転させる回転機構７５と、陽極の背後にかつ円柱状のプラズマの中心軸２２Ａ上に配置された永久磁石５２と、シート状のプラズマと離れた位置に陽極の前面に対向するように配置された清掃部材７６と、清掃部材を陽極に押し付ける押付機構８１と、清掃部材とシート状のプラズマとの間に配置された遮蔽板８２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理装置において、電子密度を高くしてプラズマ生成効率を向上する
。
【解決手段】 対向する一対の平板電極３、１７間にガスを供給し、一対の平板電極の少
なくとも一方の平板電極に高周波電力を印加してプラズマを発生させて基板４にプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、前記高周波電力が印加されるひとつながりの平板電極１７に複数の突起５０を設け、前記複数の突起５０に前記ガスを供給するガス供給孔４０を設けた。 （もっと読む）

【課題】幅の広い基板に対して一様なプラズマ処理を施すプラズマプロセス装置の提供。
【解決手段】被処理基板２０の搬送方向に直交する方向に配列された複数の細長い電極対（図上、上部電極１ａのみ示す）を備え、各電極対は電極の両端部に近づくほど大きくなるギャップを有し、複数の電極対は、それぞれが（図上、右）先端部と（図上、左）後端部を有する第１、第２および第３電極対からなり、第１電極対の（右）先端部が前記搬送方向から見て第２電極対の（左）後端部に重なり、第２電極対の（右）先端部が前記搬送方向から見て第３電極対の（左）後端部に重なるように配列される。 （もっと読む）

【課題】大型基板を処理可能な真空処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空処理装置１は、電極装置２０が複数の基板電極２１ａ〜２１ｄを有しており、各基板電極２１ａ〜２１ｄの間と表面は絶縁部材（誘電体）２６で覆われている。各基板電極２１ａ〜２１ｄにはバイアス電源３０からそれぞれ異なる位相の交流電圧が印加されるように構成されており、プラズマ中の正電荷を有する原料ガスのイオンが、基板電極２１ａ〜２１ｄ毎に異なる位相で処理対象物７に引き付けられるから、バイアス電源３０のピーク電流が小さくて済む。本発明の真空処理装置１を用いれば、大面積の処理対象物７にも、面内膜厚分布の均一性が高い薄膜が成長される。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤ装置内におけるパーティクルの発生を低減して炭素保護膜表面の平坦性を向上させ、高い記録密度を有し、且つ記録再生特性に優れた磁気記録媒体を製造することが可能な炭素保護膜の形成方法及び磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体並びにこの磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】成膜チャンバ１０内に、磁性膜が形成された円盤状の基板Ｄを設置し、該基板Ｄの両面に離間対向した電極１１を設け、表面１１ａが粗面化処理された電極１１を用い、成膜チャンバ１０内に基板Ｄを設置した状態で該基板Ｄ上に炭素保護膜を形成する成膜工程と、成膜チャンバ１０内に基板Ｄを設置しない状態で電極１１の表面１１ａに堆積した炭素膜をアッシング除去する除去工程とが備えられ、成膜工程と除去工程とを、この順で繰り返す形成方法としている。 （もっと読む）

【課題】 表面誘電体バリア放電プラズマユニット、および表面プラズマを発生させる方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、表面誘電体バリア放電プラズマユニットに関する。ユニットは、内部電極が配置される内部空間が設けられた固体誘電体構造を備える。さらに、ユニットは、内部電極と協働して表面誘電体バリア放電プラズマを発生させるための別の電極を備える。その上、ユニットには、構造の表面に沿ったガス流路が設けられる。 （もっと読む）

【課題】電界電子放出源として膜厚均一かつ高品質な膜質を持つ性能に優れた炭素膜を成膜することができる直流プラズマ成膜装置を提供すること。
【解決手段】真空成膜室１０の内部に陰極１２と陽極１４とをその両電極面を対向させて配置し、陰極１２を絶縁膜１８で周囲が被覆された冷却板１６上に搭載し、陰極１２をモリブデン材で構成すると共に冷却板１６と陰極１２との間に両面が一対のモリブデン材３６，３８で挟まれた触媒金属材４０を配置した直流プラズマ成膜装置。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構成で、ワークの処理面の形状に拘わらず、その形状に対応してプラズマ処理を施すことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、第１の電極２と、ワーク設置部２１の第１の電極２の対向側に位置し、外周面が前記ワーク設置部２１に設置されたワーク１０の処理面１１に対面するように設置され、中心軸を回動軸として回転可能な円筒状の第２の電極３とを有し、発生したプラズマにより処理面１１を処理するものであり、第２の電極３は、その外周面に、周方向に沿って、有効電極領域３１ａの幅が変化している部分を有し、この第２の電極３を、その中心軸を回動軸として回転させることにより、処理面１１と対面する有効電極領域３１ａの幅が変化するよう構成され、ガス供給手段５により、有効電極領域３１ａの幅の大きさに応じて、処理ガスを供給する幅も変化するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、概して、プラズマリアクタにおいて、大面積基板に必要な容量性デカップリングを提供する装置及び方法を提供する。
【解決課題】本発明の一実施形態は、プラズマリアクタにおいて用いるための基板サポートを提供する。プラズマリアクタは、大面積基板の裏面と接触するための複数の隆起領域のある上面を備えた導電性本体を有している。複数の隆起領域は、上面の表面積の約５０％未満を占める。 （もっと読む）

【課題】プラズマを閉じ込めるための方法及び装置を提供する。
【解決手段】一実施形態において、プラズマを閉じ込めるための装置は、基板支持体と、プラズマが形成されるべき、前記基板支持体の少なくとも上部に設けられた第１の領域と、前記プラズマが選択的に抑制されるべき第２の領域との間の境界線の近傍で磁界を形成するための磁界形成デバイスを含む。この磁界は前記プラズマを形成するために用いられるプロセス条件に依存して、前記第１の領域から前記第２の領域へのプラズマの荷電活性種の動きを選択的に抑制する、プラズマの閉じ込めの方向に垂直な所要の磁界成分を有する。 （もっと読む）

【課題】所定の電極配列を用いて、超高周波供給により発生する定在波を抑制し、膜厚の均一性に優れた薄膜を形成するためのプラズマ発生装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、二つの一字形電極棒の一端が連結棒で相互連結され、その電極棒に電力を均一に供給するための給電点が前記連結棒に形成されたくし状の一つの電極部材が設けられる。前記電極部材は、複数個設けられ、一つの電極部材と隣接した他の電極部材は、給電点が互いに異なる方向に向かって行き違うように配列される。前記電極棒の他端は、電気的に開放構造または接地構造を有する。また、前記方向が異なって配列された二つの電極部材群に対して、時間的に分離して電力が前記給電点を通じて均一に供給されるようにする。 （もっと読む）

【課題】伝熱ガスとしてのヘリウムガスの絶縁破壊を防止し、信頼性の高いウエハ載置電極を提供する。
【解決手段】内部に温度調整用の媒体を通流させるための流路を形成した電極本体１と、
前記電極本体のウエハ載置面に形成した誘電体膜２と、該誘電体膜と該誘電体膜上に載置された試料３により形成される空隙に伝熱ガスを前記電極本体内を貫通して供給するガス導入路１０を備え、前記誘電体膜上に載置したウエハを真空容器内に配置して該真空容器内に生成されたプラズマによりプラズマ処理を施すウエハ載置用電極において、前記ガス導入路の前記ウエハ載置面に垂直に臨む部分は、複数の円筒状の貫通孔を備えたガス導入管５からなり、前記ガス導入管に形成した貫通孔の内径は、前記貫通孔内に放出された二次電子の貫通孔壁への衝突による電子なだれが発生しない値以下に設定した。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生領域で短時間にワークの被処理面を均一化する処理が可能なプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、第１の電極２と、第１の電極２と対向配置される第２の電極３と、第１の電極２と第２の電極３との間に電圧を印加する電源７２を備えた電源回路７と、第１の電極２と第２の電極３との間にプラズマ生成のための処理ガスを供給するガス供給手段８と、第１の電極２に向けて処理ガスを噴出するノズル５とを備え、第１の電極２と第２の電極３との間に電圧を印加することにより、ノズル５から噴出された処理ガスを活性化してプラズマを生成し、該プラズマによりワーク１０の被処理面１０１をプラズマ処理するよう構成されているプラズマ処理装置１であって、第２の電極３の第１の電極２と対向する面側に、ノズル５の外周側に周方向に沿って凸部３１と凹部３２とが形成されてなり、凸部３１と第１の電極２との距離が凹部３２と第１の電極２との距離よりも狭く配置されている。 （もっと読む）

【課題】伝熱ガスの絶縁破壊を防止し、信頼性の高いウエハ載置用電極を提供する。
【解決手段】内部に温度調整用の媒体を通流させるための流路を形成した電極本体１と、前記電極本体のウエハ載置面に形成した誘電体膜２と、該誘電体膜と該誘電体膜上に載置された試料により形成される空隙に伝熱ガスを前記電極本体内を貫通して供給する絶縁性のガス導入路１０を備え、前記誘電体膜上に載置したウエハ３を真空容器内に配置して該真空容器内に生成されたプラズマによりプラズマ処理を施すウエハ載置用電極において、前記ガス導入路の前記ウエハ載置面に臨む部分の内側には、導入路の軸と略直交する方向に凸部を備える襞を設けた。 （もっと読む）

【課題】 均一な成膜を形成することができる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 成膜室内の薄膜形成用基板の片側に接地電極を、他方側に高周波電極を配置し、該高周波電極を、高周波電源に接続され、反応ガスが導入されるガス導入口を有する電極本体部と、板面に、ガス流通孔を有する表面電極部とで構成し、前記接地電極と前記高周波電極との間のプラズマ放電によって前記薄膜形成用基板の成膜面に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記表面電極部を、複数に分割し、これら複数の表面電極４０の端部を重合して前記高周波電極４を構成した装置。 （もっと読む）

【課題】多数枚の大型基板に一度に成膜することで生産性を向上する。しかも、良好な膜質を得るために必要な成膜時間を削減しないでこれを達成する。
【解決手段】平行な２本の直線状導体（３１、３５）の隣接する一端どうしを電気的に結合し、他端の一方を高周波電力供給部、他方を接地部とするアンテナ素子（３０）を複数個用いて、これらのアンテナ素子の各高周波電力供給部と各接地部とが交互に並んですべての直線状導体が平面上に等間隔で配置されたアレイアンテナ（２０）を、成膜室（１０）内に設置して使用する。アレイアンテナ（２０）と、このアレイアンテナの両側においてアレイ平面に平行に配置される成膜用の各基板（４０）との距離Ｄを、直線状導体（３１、３５）どうしのピッチＰと同程度に設定して成膜する。 （もっと読む）

【課題】高周波バイアスに対する対向電極としても機能しプラズマ装置の設計の自由度向上に寄与し得る高周波導入部材を用いたプラズマ装置を提供すること。
【解決手段】本発明によるプラズマ装置は、筒状の容器壁１４とその上部に取り付けられる高周波導入部材である窓１６とからなる反応容器１２と、窓の下側で被処理基体を上面で支持するサポート３４と、窓の周囲に配置されたコイル状のアンテナ２８と、インピーダンス整合器３０を介してアンテナに接続された高周波電源と、サポートに接続された高周波バイアス電源とを備えるものである。そして、窓は導電性薄膜２２を有し、この導電性薄膜は、アンテナから放出された高周波電磁界を当該導電性薄膜を通して反応容器の内部に透過させることのできる透過性を有する。導電性薄膜は窓の全体にわたり形成されている。 （もっと読む）