【課題】安定してストリーマ放電を生成して均一なプラズマを生成することができ、しかも装置の大型化や高コスト化を抑制することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】対向する一対の電極１、１間に形成される対向領域２にプラズマ生成ガスＧを供給する。大気圧又はその近傍の圧力下で上記電極１、１間に電圧を印加することにより対向領域２にストリーマ放電Ｓを形成すると共にこのストリーマ放電Ｓにより対向領域２でプラズマＰを生成する。このプラズマＰを被処理物Ｈに供給するプラズマ処理装置に関する。不均一な電界強度分布を対向領域２に発生させることにより上記ストリーマ放電Ｓを形成するためのストリーマ放電形成手段と、このストリーマ放電Ｓを対向領域２で分散させるためのストリーマ放電分散手段と、被処理物Ｈを上記対向領域２で搬送するための搬送手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】小型の装置で複数枚の板状基材に同時に良好な特性を持つＤＬＣ膜を生成する。
【解決手段】ＤＬＣ膜量産装置１０は、チャンバ１２がアースに接地されている。このチャンバ１２内に各板状基材６０に対向する対向電極を配置することなく、複数枚の板状基材６０を平行に等間隔に並べて配置する。そして、プラズマ放電によるスパッタリングクリーニングや下地密着層を各板状基材６０に形成したあと、チャンバ１２の内圧が０．１〜１０Ｐａになるようにチャンバ１２内に炭素源ガスを導入すると共に各板状基材６０に一斉にパルス半値幅が０．１〜３μｓｅｃの直流パルスの負電圧を印加することにより、プラズマを発生させて各板状基材６０上にＤＬＣ膜を生成させる。 （もっと読む）

【課題】シランプラズマ中の発電性能を低下させるＳｉＨ_２ラジカルの発生を減少させ、さらに成膜時の基板温度低下を防止させることで、優れた膜質を有する半導体薄膜を製造できるプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】プラズマＣＶＤ装置は、チャンバー１と、該チャンバー１内部を減圧下に保つ排気装置と、電力を供給されることで原料ガスにプラズマを発生させる複数の放電電極１５ａ，１５ｂと、隣り合う該放電電極１５ａ，１５ｂのそれぞれに極性の異なる交流又は高周波電圧を印加する電源と、隣り合う該放電電極１５ａ，１５ｂの間に原料ガスを導入する原料ガス供給管１７と、該原料ガス供給管１７の出口から、原料ガス流れ方向の延長線上であって、かつ被成膜基板１０が置かれる位置までの間に設けられた障壁と、を有する構成をとるものである。 （もっと読む）

プラズマプロセス中に局所プラズマ密度を調節するための方法および装置。一実施形態は、非平面状の表面を有する導電性フェースプレートを備える電極アセンブリを提供する。非平面状の表面は、処理中に基板に面するように構成され、導電性フェースプレートは、電極を有する基板支持体に非平面状の表面が対向するように配置される。導電性フェースプレートおよび基板支持体は、プラズマ体積を形成する。非平面状の表面は、導電性フェースプレートと電極との間の距離を変えることによって、導電性フェースプレートと電極との間の電場を調節するように構成される。
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【課題】基材としての第二電極を用いることなく液中にプラズマを発生させることが可能な液中プラズマ成膜装置および液中プラズマ用電極を提供する。
【解決手段】基材Ｓと原料を含む液体Ｌとを収容可能な容器１と、容器１に配設される液中プラズマ用電極２と、液中プラズマ用電極２に電力を供給する電源装置３と、を有する液中プラズマ成膜装置において、液中プラズマ用電極２は、
放電端部２２を有する主電極２１と、放電端部２２に対向するとともに、互いに対向する放電端部２２と基材Ｓとの間に配設される副電極２６と、
放電端部２２の表面２２ａと表面２２ａに対向する副電極２６の表面２６ａとで区画された空間をもち、主電極２１に電力が供給されることで空間にプラズマを発生させるプラズマ発生部２９と、を備える。
プラズマ発生部２９で発生したプラズマを基材Ｓに接触させて、基材Ｓの表面に原料の分解成分を堆積させる。 （もっと読む）

プラズマチャンバ内のプラズマ放電の強度および分布を制御する装置および方法が提供される。一実施形態では、径方向成分および軸方向成分を有する電界をチャンバ内部に得るために、成形された電極が基板サポート内に埋め込まれる。別の実施形態では、シャワーヘッドアセンブリのフェースプレート電極がアイソレータによって複数のゾーンに分割され、それによって、それぞれ異なる電圧が異なるゾーンに印加されることが可能になる。加えて、１つまたは複数の電極をチャンバ側壁内に埋め込むこともできる。
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【課題】プラズマを均一に発生させることができると共に、装置への装着が容易な構造の電極を備える基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハ２００を収容する処理室２０１と、処理室２０１内に処理ガスを供給するガス供給系と、処理室２０１内の雰囲気を排気する排気系と、処理ガスを活性な状態とするための電極であって、可撓性の部材で構成された少なくとも１対の電極２６９，２７０と、電極２６９，２７０を挿抜可能に収容する保護管２７５と、保護菅２７５内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給系と、コントローラ２３１と、を有し、電極２６９，２７０は、少なくとも一箇所が屈曲した状態で保護管２７５内に収容され、コントローラ２３１は、保護管２７５内に不活性ガスを供給するよう不活性ガス供給系を制御する。 （もっと読む）

【課題】膜質が良好な膜を連続的に形成することができ、しかも装置コストが低い成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、長尺の基板を搬送する第１の搬送手段と、チャンバと、チャンバ内を所定の真空度にする真空排気部と、基板の搬送方向と直交する幅方向に回転軸を有し、第１の搬送手段により搬送された基板が表面の所定の領域に巻き掛けられる回転可能なドラムと、ドラムに巻き掛けられた基板を搬送する第２の搬送手段と、ドラムに対向して所定の距離離間して配置された成膜電極、成膜電極に高周波電圧を印加する高周波電源部、および膜を形成するための原料ガスをドラムと成膜電極との間に供給する原料ガス供給部を備える成膜部とを有する。成膜電極とドラムとの間の距離の値の分布は、成膜電極の全域に亘り２０％以内である。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】マイクロ波が漏出せず、寿命の長い真空処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空処理装置１は、導電性弾性部材（第一の弾性部材５５）を有しており、第一の弾性部材５５は弾性変形して接地電極膜３４と真空槽１２に密着するから、接触面積が高く、接地電極膜３４が真空槽１２に電気的に接続される。導電性シールド３３は接地電極膜３４と第一の弾性部材５５とを介して真空槽１２に電気的に接続される。従って、マイクロ波を放出する際、導電性シールド３３と貫通孔９内壁面との間の隙間で異常放電が起こらない。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、膜欠陥や特性ムラの少ない良好な堆積膜を高速で成膜できるようにし、電子写真感光体を用いた画像形成における黒点の発生などの画像欠陥の発生を抑制して画像特性を向上させる。
【解決手段】本発明は、互いに離間して配置された第１導体２０Ａおよび第２導体２０Ｂのそれぞれに堆積膜形成対象物１０を支持させた状態で、堆積膜形成対象物１０を反応室３に収容する第１ステップと、反応室３を反応ガス雰囲気とする第２ステップと、第１導体２０Ａと第２導体２０Ｂとの間に、第１導２０Ａ体が第２導体２０Ｂよりも高電位となる状態と、第２導体２０Ｂが第１導体２０Ａよりも高電位となる状態とを交互に繰り返すようにパルス状の直流電圧を印加する第３ステップと、を含む、堆積膜形成方法に関する。 （もっと読む）

【課題】円筒状基材上に、膜均一性の高い薄膜を安定し、かつ高生産性で形成できる大気圧プラズマ処理装置の提供。
【解決手段】円筒状基材を回転させる、少なくとも１対の基材駆動ユニットと、少なくとも１対の電極と、電極に接続された高周波電源と、薄膜形成ガスを含有するガスを供給するガス供給部と、を有し、
基材駆動ユニットは対向した電極の対向面に沿って円筒状基材を移動させ、電極はガス供給部から供給されたガスを大気圧もしくはその近傍の圧力下で高周波電源による高周波電界により励起し、対向する少なくとも前記１対の基材駆動ユニットにより電極の対向面に沿って移動される円筒状基材を励起したガスに晒すことにより、同時に、少なくとも２つの円筒状基材に薄膜を形成することを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。 （もっと読む）

【課題】面内の良好な電気的特性を備える膜を形成することが可能な成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置１００は基板１１が載置される陽極１０２と、陽極１０２との間でプラズマを発生させる陰極１０３と、ステージ１０４と、ステージ１０４内に設置された冷却部２０１と、を備える。冷却部２０１の冷却ヘッド部２０１ａのステージ１０４と対向する面に、凹部２０１ｃが形成されることにより、冷却ヘッド部２０１ａの周縁部のみがステージ１０４に当接する。これにより基板１１は周辺領域から冷却され、基板の中心領域から周辺領域へと熱流を生じさせることができ、基板１１内に温度勾配を生じさせることができる。 （もっと読む）

【課題】 分割電極の間隔変化による膜分布の悪化を防止することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】 基板が配置される対向電極と、対向電極に沿って延びるとともに、互いに第１所定間隔Ｗ１を空けて並んで配置された複数の棒状縦電極３Ｚ、および、複数の棒状縦電極３Ｚの端部を接続する一対の棒状横電極３Ｙを有する複数の分割電極３と、が設けられ、複数の分割電極３は、第１所定間隔Ｗ１以上、第１所定間隔Ｗ１に少なくとも分割電極３における熱膨張長さを加えた間隔以下、の広さを有する第２所定間隔Ｗ２を空けて並んで配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】平面状被処理基体に対してプラズマ処理を行う装置であって、プラズマの利用効率及び均一性がよく、且つ生産性が高いプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマ処理装置は、真空容器１１と、真空容器１１の内部空間１１１に突出するように設けられた１個又は複数個のアンテナ支持部（プラズマ生成手段支持部）１２と、アンテナ支持部１２のそれぞれに取り付けられた高周波アンテナ（プラズマ生成手段）１３と、真空容器１１内にアンテナ支持部１２を挟んで設けられた、平面状被処理基体２１を保持するための１対の基体保持部１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】生成されたプラズマを効率よく利用することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマ処理装置１０は、真空容器１１と、真空容器１１の内部空間１１１に突出するように設けられたアンテナ（プラズマ生成手段）支持部１２と、アンテナ支持部１２に取り付けられた高周波アンテナ（プラズマ生成手段）１３と、を備えることを特徴とする。これにより、高周波アンテナが取り付けられる部分の面積が小さくなり、プラズマの利用効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】製膜処理時に大面積の基板の変形を抑制し、均一で良質な半導体膜を製膜することができるプラズマＣＶＤ装置用電極、およびプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】本発明によるプラズマＣＶＤ装置用電極は、互いに略平行に配置された複数の第１電極棒５０ａ、９０と、互いに略平行に配置された一対の第２電極棒５０ｂと、互いに略平行に配置された一対の冷却媒体供給棒５５とを備える。一対の第２電極棒５０ｂは複数の第１電極棒５０ａ、９０を挟むように配置される。一対の冷却媒体供給棒５５は複数の第１電極棒５０ａ、９０を挟むように配置される。複数の第１電極棒５０ａ、９０と一対の冷却媒体供給棒５５の内部に、冷却媒体５７が流れる冷却媒体管５６ａが形成される。 （もっと読む）

本発明は、静止第１電極（３）及び第２可動性電極（１８）を備えたコーティング装置のための電極構成を含み、コーティング中、これらの電極の主表面は互いに対向し、第２電極（１８）は対向する主表面に平行な平面に沿って移動し、主表面を横断して走る電極の少なくとも１つの端面には電気シールド（１２、１９、１３）が設置され、電気シールドは１つの電極の端面に対して少なくとも部分的に平行に延び、シールドの少なくとも一部分（１４）は可動性に形成される。
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アノード（９）とカソード（７＝との間の真空プラズマ放電を用いてワークピースまたは基板の表面を処理し、このような処理により、アノード材料の直流インピーダンス比よりも高い直流インピーダンス比を有する固体（１９）がアノード表面（２１）上に形成および堆積する場合、当該アノード表面の少なくともある部分を、遮蔽プラズマ（２５）を当該部分に確立することにより、このような堆積物から遮蔽する。
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【課題】
高ガスバリア性を実現すると同時に柔軟性をも確保できるガスバリアフィルムを製造するための製造方法、製造装置、及び該製造方法又は該製造装置により得られるガスバリアフィルムを提供する
【解決手段】
製造方法を実行する反応室において、真空工程と、ガス供給工程と、電界発生工程と、フィルム搬送工程と、を備えてなり、電界発生工程が、給電電極と接地電極とを用いてなるものであり、接地電極が、フィルム搬送工程におけるプラスチックフィルム搬送方向に沿って搬送中のプラスチックフィルムの表面と接地電極の表面との間隔が変化するように、又は接地電極のインピーダンスがプラスチックフィルムの搬送方向に沿って変化するように、もしくは間隔とインピーダンスとが同時に変化するように、それらが設置されてなる構成を備えてなる、製造方法とした。 （もっと読む）

【課題】
高ガスバリア性を実現すると同時に柔軟性をも確保できるガスバリアフィルムを製造するための製造方法、製造装置、及び該製造方法又は該製造装置により得られるガスバリアフィルムを提供する
【解決手段】
製造方法を実行する反応室において、真空工程と、ガス供給工程と、電界発生工程と、フィルム搬送工程と、を備えてなり、電界発生工程が、給電電極と接地電極とを用いてなるものであり、接地電極が、フィルム搬送工程におけるプラスチックフィルム搬送方向に沿って搬送中のプラスチックフィルムの表面と接地電極の表面との間隔が変化するように、又は接地電極のインピーダンスがプラスチックフィルムの搬送方向に沿って変化するように、もしくは間隔とインピーダンスとが同時に変化するように、それらが設置されてなる構成を備えてなる、製造方法とした。 （もっと読む）