【課題】 基板上に超微粒子の膜を制御性良く形成する方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 巻き上げガス供給管のガス噴出口を超微粒子粉内に埋設し容器に気密に接続させた搬送ガス供給管からの搬送ガスを整流して、密閉性容器に供給し、該搬送ガスにより搬送管を通ってエアロゾルを膜形成室内に導入するようにするか、または密閉性容器に更に気密に搬送ガス供給管を接続させ、該搬送ガス供給管のガス排出口には整流器を設け、該整流器から噴出される整流ガスを密閉性容器内に噴出させ、かつ、巻き上げガス供給管の噴出口は超微粒子粉内に埋設され、噴出口から噴出される巻上げガスにより発生されるエアロゾルを整流ガスにより搬送管内を搬送し、膜形成室内に配設された基板上に超微粒子の膜を付着させるようにした。 （もっと読む）

【課題】堆積の際に最も外側の堆積層の酸化を回避する、コールドスプレーを用いて一つまたは複数の堆積層を基体上に形成する方法が提供される。
【解決手段】金属材料を基体（１０）上に堆積させる方法は、基体（１０）を真空チャンバー（５２）内に配置し、スプレーガン（２２）ノズル（２０）を真空チャンバー（５２）のポート（５０）内へ挿入し、粉末状金属材料を溶融させずに粉末状金属材料を基体の表面（２４）上に堆積させる、ステップを含む。堆積ステップは、衝突の際に粉末状金属材料の粒子が塑性変形しかつ基体（１０）の表面（２４）に結合するように、真空チャンバー（５２）内で粉末状金属材料の粒子を所定の速度に加速することを含む。 （もっと読む）

【課題】緻密で膜密着性の高い膜を形成可能なエアロゾルデポジッション成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜材料の微粒子をエアロゾル化するエアロゾル発生部２０と、エアロゾルを基板に向けて噴射して成膜を行う成膜部４０と、成膜部４０を減圧雰囲気に保持する排気系５０等から構成し、エアロゾル発生部２０を、第１エアロゾルを形成する第１エアロゾル発生器２１と、第１エアロゾルをターゲット３２に噴射して、ターゲットを研削等して生成される第２粒子を含む第２エアロゾルを形成する第２エアロゾル発生器２２から構成する。第２粒子の表面が活性化しているので、基板４３への第２エアロゾルの噴射により、緻密で膜密着性の高いＡＤ膜４６が形成できる。 （もっと読む）

【課題】 ＡＤ法によって形成された膜における物性値を向上させることができる成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】 成膜装置は、膜が形成される基板８を保持する基板ステージ９を有するチャンバ１と、原料の粉体を収納する容器を含み、該容器にキャリアガスを導入することにより、原料の粉体を含むエアロゾルを生成するエアロゾル生成室３と、該エアロゾル生成室において生成されたエアロゾルの流路に磁場を印加することにより、エアロゾルに含まれる原料の粉体における結晶方位を配向させる超伝導コイル５と、該超伝導コイルによって磁場が印加されたエアロゾルを基板に吹き付けることにより、結晶方位が配向した原料の粉体を基板上に堆積させる噴射ノズル７とを含む。 （もっと読む）

【課題】 エアロゾルの微粒子濃度を安定させることができる複合構造物形成システム及び形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを基材に衝突させて前記微粒子の構成材料からなる構造物と前記基材との複合構造物を形成する複合構造物形成システムであって、前記微粒子を収容する収容機構と、前記微粒子をガス中に分散させてエアロゾルを形成するエアロゾル化機構と、前記収容機構から前記エアロゾル化機構に前記微粒子を供給する供給機構と、前記エアロゾル化機構に前記ガスを供給するガス供給機構と、前記エアロゾルを前記基材に向けて噴射する吐出口と、前記エアロゾル中の前記微粒子の濃度を定量化する定量化機構と、を備えたことを特徴とする複合構造物形成システムを提供する。 （もっと読む）

【課題】 処理対象物と粒子との結合力を向上させるとともに、処理対象物の表面の硬度を上げて処理対象物の変形を抑制し、粒子による被覆層の寿命を向上させることができる表面処理材、表面処理方法及び表面処理装置を提供する。
【解決手段】 表面処理材１は、処理対象物２の表面２ａを加熱するとともにこの表面２ａに粒子３を噴射して、この表面２ａが処理された部材である。表面処理材１は、処理対象物２と、粒子３と、化合物層４とから構成されている。処理対象物２は、炭素鋼などの鉄系金属材料であり、粒子３と化合物層４とを備えている。粒子３は、二硫化モリブデンなどの固体潤滑材系粒子及びスズなどの金属系粒子である。化合物層４は、処理対象物２と粒子３とを熱化学反応させて形成した金属間化合物であり、処理対象物２と粒子３とを結合させて処理対象物２と粒子３との密着性及び結合性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】 高硬度かつ高緻密の皮膜を得ることができ、しかも皮膜の全厚にわたって均一な性状のものを得ることができるコールドスプレー皮膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 溶射材料の融点または軟化温度よりも低い温度のガスを超音速流にして、前記超音速流に前記溶射材料を投入し、固相状態のまま基材に高速で衝突させて皮膜を形成するコールドスプレー皮膜の形成方法において、粒径５〜５０μｍの皮膜原料粉末と粒径１００〜１０００μｍのピーニング粉末を混合した原料粉末を用いて皮膜を形成することを特徴とするコールドスプレー皮膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 有機質或いは無機質でフイルム状或いはシート状の被表面改質体に直接公知の火炎による界面改質処理技術を施すことにより、同被表面改質体に熱的損傷を与えない方法を提供する。
【解決手段】 有機質或いは無機質でフイルム状体およびシート状体の被表面改質体の界面改質に当たり、シート状態或いはフイルム状体の各原反を繰り出す繰り出し装置と、当該繰り出し装置より送出されたシート状態或いはフイルム状体の各原反を所定のスピードで巻き取る巻き取り装置とを備え、そして、前記繰り出し装置 と巻き取り装置との両装置の間に熱拡散装置を配置し、同熱拡散装置の上面に接触する様に配設された前記フイルム状体或いはシート状態体の近傍にフレーム装置を設置し、同フレーム装置より同上フイルム状体或いはシート状体に向け、シラン原子・チタン原子またはアルミニュウム原子から成る改質剤を含む火炎を直接噴射させ、被改質表面を活性化させる。 （もっと読む）

【課題】 熱分解式の薄膜形成装置において、基板の温度制御に要する時間を短縮し、生産性やエネルギー効率の向上を図る。
【解決手段】 薄膜形成装置１０は、液状の原料を基板１１上で熱分解させることにより基板１１上に薄膜を形成する。薄膜形成装置１０は、基板１１に対して熱分解用の熱を供給する熱源体１５と、基板１１に向けて液状の原料を噴霧するノズル３９と、熱源体１５から基板１１に伝わる熱を制御する熱制御装置３１，３５と、を備える。 （もっと読む）

拡散バリヤ用合金皮膜は、Ｒｅ−Ｃｒ合金皮膜よりも優れた拡散バリヤ特性を持ち、より高温（１１５０℃以上）での使用にも耐え得る拡散バリヤ層を有する。拡散バリヤ層１８は、原子組成でＷを１２．５〜５６．５％含み、不可避的な不純物を除いて、残りをＲｅとしたＲｅ−Ｗ系σ相からなる。金属基材１０の表面に拡散バリヤ層１８をコーティングし、更に、必要に応じて、拡散バリヤ層１８の表面に、原子組成で１０％以上５０％未満のＡｌ，ＣｒまたはＳｉを含む拡散浸透用合金層２０をコーティングすることで高温装置部材が構成される。 （もっと読む）

本発明は、緩衝金属基板テープの連結するレングス上にＲＥＢＣＯなどの超伝導薄膜のｅｘ−ｓｉｔｕ形成のための高スループットのシステムを提供する。緩衝金属基板テープの上部は、希土、バリウム、及び銅の先駆物質が、電子ビーム蒸発及びＭＯＤなどの数々の技術を介して堆積される。これらの先駆物質は、処理チャンバ内で加熱され、水蒸気に導入されると、緩衝層に機能的超伝導薄膜エピタキシャルを形成するために分解する。シャワーヘッドと、長く幅の広い堆積範囲の創造のために設計された基板加熱装置を有する有機金属化学気相成長法（ＭＯＣＶＤ）反応炉といったチャンバは、該製法に良く適している。チャンバは、反応による副産物の効率的な汲み出しのために配置された排気ポートを含む。チャンバは、壁が加熱されない冷水壁式、または壁が加熱される加熱壁式のものでもよい。
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