【課題】銅合金材の表面に緻密な酸化皮膜が酸化スケールとして形成されている場合に、安価且つ容易に酸化スケールを除去することができる、銅合金材の酸化スケールの除去方法を提供する。
【解決手段】（１〜５質量％のＴｉを含むＣｕ−Ｔｉ銅合金の条材または板材などの）銅合金材の表面に酸化スケールとして形成された酸化皮膜を選択的に除去し且つ銅合金材を腐食し難い薬液として、キレート試薬と過酸化水素を含む薬液、あるいはキレート試薬と過酸化水素とアルカリを含む薬液を使用して、酸化スケールを除去する。 （もっと読む）

【課題】ＶＯＣの発生を抑制して環境への影響を抑制できると共に、金属表面の付着物の除去力の向上および金属表面の酸化の抑制が可能で、コストの低減が図れる金属線または金属条の表面処理方法ならびに表面処理装置を提供する。
【解決手段】金属線または金属条１０を気液混相流体と接触させて表面処理する表面処理方法であって、前記気液混相流体を構成する液体は、直径が１マイクロメートル以上１００マイクロメートル以下の液滴である。前記金属線または金属条１０は、銅線または銅条である。前記気液混相流体を構成する液体は、水を主成分とする。前記気液混相流体の平均温度は、４０℃以上沸点以下である。前記気液混相流体に含まれる酸素のモル分率は、１百分率以下である。 （もっと読む）

【課題】反応生成物の回収処理や有機還元剤の処理作業が不要で環境の汚染もなく金属ないし銅線を冷却・還元処理することを可能とする方法の提供。
【解決手段】金属１０１の表面に液状流体２０１を接触させることにより金属１０１の表面の酸化膜を還元する表面処理方法であって、前記液状流体２０１が水を主たる成分とし、且つ１体積百分率以上２５体積百分率未満の還元性気体の分子を含む。前記液状流体は、直径１マイクロメートル以上１２５マイクロメートル以下の気泡を含み、該気泡が前記還元性気体からなる。前記金属１０１は、銅である。前記還元性気体は、水素または一酸化炭素である。 （もっと読む）

【課題】金属屑から分離した異物が金属屑に再付着することを抑制することができる金属屑の洗浄装置を得る。
【解決手段】異物５が付着した金属屑６が内側に入れられ、洗浄水１を貯留する洗浄槽２と、金属屑６を攪拌する攪拌機７と、洗浄槽２に貯留された洗浄水１に気泡３を供給し、気泡３を異物５に吸着させ、異物５を金属屑６から分離させ、気泡３が洗浄水１の水面に向かって浮上するのに伴って異物５を浮上させる気泡生成器４と、洗浄水１を洗浄槽２からオーバーフローさせて、異物５を洗浄槽２の外側へ排出する異物排出手段１１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】銅やその合金からなる物品表面の酸化銅を主体とする酸化皮膜を除去する手段として、対象物品の形態やサイズによる制約が少なく、酸化皮膜の除去性に優れ、内部金属層の侵食を生じにくく、既設のトロリ線の如き一般環境下にある銅やその合金からなる種々の物品についても適用可能な酸化皮膜除去剤を提供する。
【解決手段】メルカプト基を有する還元性化合物を有効成分とする水溶液からなる銅又は銅合金の酸化皮膜除去剤。 （もっと読む）

処理用洗剤を作成する方法は、黄銅顆粒をアセトンと混合するステップと、アセトン黄銅混合物内にカーボンナノチューブ材料、銀顆粒、黄鉄鉱顆粒、および銅顆粒を混合するステップと、残存する固体材料から液を濾過するステップとを含む。黄銅顆粒、銀顆粒、黄鉄鉱顆粒、カーボンナノチューブ材料、および銅顆粒などの材料を処理する方法は、材料を処理用洗剤内で洗浄するステップと、それに続く、材料を濾過し、乾燥させるステップとを含む。
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【課題】低ｋ誘電体材料又は銅相互接続材料を損なわずに、マイクロ電子デバイスの表面からのＣＭＰ後の残渣及び汚染物質材料を効果的に洗浄を達成すること。
【解決手段】化学的機械的研磨（ＣＭＰ）後の残渣及び汚染物質を、自身上に前記残渣及び汚染物質を有するマイクロ電子デバイスから洗浄する洗浄組成物及びプロセス。洗浄組成物は新規の腐食防止剤を含む。 （もっと読む）

【課題】連続鋳造圧延後の銅線の表面に形成された酸化膜の除去及び前記銅線の冷却を確実に行うことができると共に、低級アルコールに替わる新たな還元剤を添加した水溶液を使用することにより、ＶＯＣの削減もしくは著しい低減を図ることができる、連続鋳造圧延銅線の製造方法を提供すること。
【解決手段】溶銅を連続鋳造することにより得られたキャストバーを引き続いて熱間圧延し、前記熱間圧延により所定のサイズに縮径された銅線の表面に形成された酸化膜を除去すると共に前記銅線を冷却する連続鋳造圧延銅線の製造方法において、前記銅線の表面に形成された酸化膜の除去及び前記銅線の冷却方法として、炭素からなる還元剤を添加した水溶液を使用し、前記水溶液に前記銅線を接触させることを特徴とする、連続鋳造圧延銅線の製造方法。 （もっと読む）

【課題】連続鋳造圧延後の銅線の表面に形成された酸化膜の除去及び前記銅線の冷却を確実に行うことができると共に、低級アルコールに替わる新たな還元剤を添加した水溶液を使用することにより、ＶＯＣの削減もしくは著しい低減を図ることができる、連続鋳造圧延銅線の製造方法を提供すること。
【解決手段】溶銅を連続鋳造することにより得られたキャストバーを引き続いて熱間圧延し、前記熱間圧延により所定のサイズに縮径された銅線の表面に形成された酸化膜を除去すると共に前記銅線を冷却する連続鋳造圧延銅線の製造方法において、前記銅線の表面に形成された酸化膜の除去及び前記銅線の冷却方法として、単糖類からなる還元剤を添加した水溶液を使用し、前記水溶液に前記銅線を接触させることを特徴とする、連続鋳造圧延銅線の製造方法。 （もっと読む）

本開示は銅処理のためのデバイス、方法およびシステムを含み、具体的には、硫黄プラズマを用いた銅層処理を含む。１つ以上の実施形態は、銅を硫黄を含むプラズマガスと反応させて銅硫黄化合物を形成し、水で銅硫黄化合物の少なくとも一部を除去する方法を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】含フッ素エーテルからアルコールを十分除去するとともに、含フッ素エーテルが系外へ排出されるのを防ぐことができる物品の水切り方法の提供。
【解決手段】物品をアルコールに接触させるアルコール接触工程３、物品を、１−メトキシ−２−トリフルオロメチル−１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンと１−メトキシ−１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンの混合物等の含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程４、エーテル置換工程４から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、取出し工程で取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、０．２〜２倍の量の水を接触させる水抽出工程６、含フッ素エーテルとアルコールを含んだ水とを分離させる水分離工程７、水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程４に戻す工程を有する物品の水切り方法。 （もっと読む）

【課題】故障の可能性が低く、安価であり、洗浄の均一性が高い洗浄装置を提供する。
【解決手段】複数のインジェクタ５Ｂ，５Ｌ，５Ｒ，５Ｔは、気泡ＢＢを含む流れを洗浄液７中に発生させることができ、この流れがコンベア３に向かうようにコンベア３の周囲に配置されている。 （もっと読む）

【課題】基材表面からの酸化物のコスト効果が高く、効率的な除去方法および装置の提供。
【解決手段】本明細書中に記載されているのは、ターゲット領域内の基材表面から金属酸化物を除去するための方法および装置である。ある特定の態様において、この方法および装置は、導電性ワイヤーによって電気的に接続されている突き出た導電性チップの配列を有し、そして第１の電気的に接続された群および第２の電気的に接続された群に分離されており、導電性チップの少なくとも一部分が、負にバイアスされている直流電源によって活性化されて、ターゲット領域内に存在する還元ガスの少なくとも一部分に付着する電子がターゲット領域内で発生し、処理表面と接触して基材の処理表面上の金属酸化物を還元する負に帯電した還元ガスを生成する、通電電極を有する。 （もっと読む）

【課題】例えば、ニッケルを含むめっき処理が施された青銅、黄銅等の銅合金製の水道用バルブ、給水給湯用バルブ、管継手、ストレーナ、水栓金具、ポンプ用品、水道メーター、浄水器、給水給湯器、或いはその他の接液器材において、水道水などの流体が接液しても、ニッケルが溶出することのない銅合金製接液器材のニッケル溶出防止方法及びニッケル溶出防止用保護膜形成剤並びにニッケル溶出防止用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】銅合金製接液器材にニッケルを含むめっき処理を施したニッケルの溶出防止方法において、接液器材の少なくとも接液面に、ワックスを含有する保護膜形成成分とこの保護膜形成成分を水に溶解させる溶剤成分を含んで成る保護膜形成剤を施して保護膜を形成し、この保護膜により、ニッケルの溶出を抑制するようにした銅合金製接液器材のニッケル溶出防止方法である。 （もっと読む）

【課題】洗浄効率の最適化を図る汚染部材の洗浄処理推定方法を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄処理推定方法は、汚れた部材を洗浄剤で洗浄する際に、第１回の部材洗浄を行う工程と、第１回の部材洗浄工程において、溶出した汚れの程度に対応して第２回以降の洗浄時間又は洗浄回数を推定する推定工程とを含むものであり、第１回の部材洗浄を行う工程において、その溶出量の軽重から洗浄処理を推定する。これにより汚れの程度に応じた適切な洗浄を行うことができ、洗浄の最適化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】含フッ素エーテルからアルコールを十分除去するとともに、含フッ素エーテルが系外へ排出されるのを防ぐことができる物品の水切り方法の提供。
【解決手段】物品をアルコールに接触させるアルコール接触工程３、物品を、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル等の含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程４、エーテル置換工程４から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、取出し工程で取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、１〜１０倍の量の水を接触させる水抽出工程６、含フッ素エーテルと水とを分離させる水分離工程７、水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程４に戻す工程を有する物品の水切り方法。 （もっと読む）

【課題】化学処理に用いる薬液の温度を一定に保ちつつ、長尺のワークを連続的に高温純水で洗浄するための省エネルギー化された高温純水洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄槽６と、洗浄槽６内でワークＷに対し高温純水を噴射可能の噴霧ノズルを設けた一対の洗浄管４と、高温純水供給管３と、ドレン抜き５とを設けた洗浄装置Ａと；ワークＷの化学処理を行う処理槽１０と、薬液７が貯蔵されたタンク８と、タンク８内の薬液７を処理槽６へ送るためのポンプ９と、処理槽６内の薬液をタンク８へ戻す為の戻り配管１３と、タンク８内に設置されていて一端が純水供給ライン１に他端がラインヒータ２を介して高温純水供給管３に接続された熱交換器１１とを設けた高温純水発生装置Ｂ；を備えている。 （もっと読む）

【課題】銅又は銅合金の表面に微量残留する油脂成分の除去が可能で、ダイレクトプレーティング処理後に電気銅めっきを施しても白むらや白斑等の発生しない酸性脱脂剤と、その酸性脱脂剤を用いた銅又は銅合金表面への電気銅めっき方法を提供する。
【解決手段】上記課題を解決するために、硫酸第二鉄、カチオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤の各成分を含む酸性脱脂剤を、銅又は銅合金表面への電気銅めっきの前処理に用いる。また、該酸性脱脂剤は、前記各成分を含むほか、ハロゲンイオンの濃度を０．１ｇ／Ｌ以下で用いると、より好ましい結果が得られる。脱脂処理は、該酸性脱脂剤の液温を２０℃〜７５℃とし、これと銅又は銅合金の表面とを１分間以上接触させ、該銅又は銅合金表面の０．０１μｍ以上の厚さ分をエッチング除去する。 （もっと読む）

【課題】鉄系金属および非鉄系金属の洗浄において、低温（５０±５℃）で十分な洗浄性能、噴霧洗浄が可能な低起泡性能、および防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記の一般式（１）で表される非イオン界面活性剤、および下記の一般式（２）で表される非イオン界面活性剤を含有することを特徴とする金属洗浄剤組成物。
Ｒ^１−ＣＨ（Ｒ^２）−ＣＨ_２−Ｏ−（ＡＯ^１）ｎ−Ｈ ・・・（１）
（式中、Ｒ^１、Ｒ^２は直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基を表し、ＡＯ^１は炭素数が２〜４のオキシアルキレン基を表し、ｎは１〜１００である。ＡＯ^１の付加形態はランダム付加、ブロック付加またはこれらの混合付加である。）
Ｒ^３−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｐ−［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｑ／（ＡＯ^２）ｒ］−Ｈ ・・・（２）
（式中、Ｒ^３は炭素数８〜１５である脂肪族炭化水素基、ｐ，ｑ，ｒは平均付加モル数（ｐ＝０〜５、ｑ＝０〜１５、ｒ＝０〜５、ｐ＋ｑ＋ｒ＞５）、ＡＯ^２は炭素数３または４のオキシアルキレン基、［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｑ／（ＡＯ^２）ｒ］はモル比ｑ／ｒのランダム重合鎖である。） （もっと読む）

【課題】鉄系金属および非鉄系金属を同じ洗浄ラインで洗浄処理することができ、水のすすぎが不必要で、防錆・防食を目的とした薬剤を別途配合することなく使用することができ、且つ、安全性・環境適合性の良い金属洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（ａ）〜（ｇ）を含有するものとする；（ａ）炭素数１０〜１２のジカルボン酸 １〜２０重量％、（ｂ）アミノアルコール系アミン １〜１５重量％、（ｃ）脂環式アミンのエチレンオキサイド付加物 １〜２０重量％、（ｄ）金属イオン封鎖剤（キレート剤） ０．１〜５重量％、（ｅ）エーテル型非イオン界面活性剤 ０．１〜１０重量％、（ｆ）グリコールエーテル ５〜５０％、（ｇ）水 ５重量％以上。 （もっと読む）