【課題】 優れた耐熱性と強度を有するチタン合金から成る高い空力学的性能を期待できる安価なコンプレッサ羽根車の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、ハブ軸と、ハブディスク部と、複数のブレードとを有し、ブレードに囲まれた空間にハブ軸から半径方向外方に向かってアンダーカットが形成されているコンプレッサ羽根車を、質量％でＡｌ：５．５０〜６．７５％、Ｖ：３．５０〜４．５０％、Ｂ：０．０３〜０．３０％、Ｆｅ：０．４０％以下、Ｃ：０．４０％以下、Ｎ：０．０５％以下、Ｈ：０．０１５％以下、Ｏ：０．２５％以下、残部Ｔｉおよび不可避的不純物を含有して成るチタン合金を用い、ロストワックス鋳造法により、アンダーカットを緩和した形状の簡易ブレードを有する羽根車素材を形成し、表面の硬化層を除去した後、簡易ブレードをブレードの形状に塑性変形させるコンプレッサ羽根車の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】磁性薄膜の選択的なエッチングを可能にして生産性を向上させた磁気デバイスの製造方法及び磁気デバイスの製造装置を提供するものである。
【解決手段】基板Ｓ上に、鉄、コバルト、ニッケルの群から選択される少なくとも一種の元素を含有した磁性層と、磁性層５１のエッチング領域５１Ｅを露出するマスクパターン５２を形成する。そして、基板Ｓ上にシクロペンタジエンを含むエッチングガスＬを供給し、エッチング領域５１Ｅとシクロペンタジエンとの熱反応により、エッチング領域５１Ｅの磁性層５１をメタロセンＭＣにして排気させた。 （もっと読む）

【課題】Ａ２０００系アルミニウム合金の低コストで有効な艶消し方法と、この艶消し方法を施したアルミニウム合金から製作した光学素子保持用光学部品、光学機器の光路周辺の構成部品、反射防止部材を提供する。
【解決手段】リン酸をベース組成に含む処理液を満たしたエッチング槽にＡ２０００系アルミニウム合金を浸漬して化学エッチングを行う。これにより、アルミニウム合金の表面について、表面粗さＲａ＝２．０〜４．０μｍとなる。ここで、エッチング後のアルミニウム合金表面の光沢度を光沢計で計測すると、およそＧ３を示しており、十分な艶消し効果が得られている。レンズ保持枠などの光学素子保持用光学部品は、フレアの抑制など、光学性能を維持するために反射防止処理を施す必要があることから、Ａ２０００系アルミニウム合金にこの艶消し処理を施したものから製作することで、反射防止性能に加えて強度をもたせることができる。 （もっと読む）

【課題】 グラビア印刷法でレジストインキを印刷して、プリント配線板を製造する方法において、回路線端縁を鮮鋭にする方法を提供する。
【解決手段】 合成樹脂フィルムとアルミニウム箔とを貼合した積層体を準備する。一方、有機溶媒に樹脂が溶解されてなるレジストインキを準備する。このレジストインキには、シリカ微粉末が配合されている。このレジストインキを用い、積層体のアルミニウム箔面にグラビア印刷法で所定のパターンを印刷する。これによって、アルミニウム箔面に樹脂膜が付着したレジスト部と、樹脂膜の付着していない非レジスト部とを形成する。その後、エッチング処理を施して非レジスト部に露出しているアルミニウム箔を除去する。さらにその後、レジスト部に残存している樹脂膜を除去する。以上の方法を採用すると、シリカ微粉末の作用で、回路線端縁の鮮鋭なプリント配線板が得られる。 （もっと読む）

【課題】バルク金属と大きく異なる性質を持ち、物理分野や化学分野で注目すべき多くの機能を有すると期待されるナノ多孔質金属を提供する。
【解決手段】ナノ多孔質金属は、腐食作用を有する媒体に対して感受性を有する金属と、該腐食作用を有する媒体に対して抵抗性を有する金属と、の少なくとも二つの金属を含有する合金を、該腐食作用を有する媒体に接触せしめて、該合金を、低温条件下、ナノ多孔質金属を形成するに有効な時間の間、脱成分腐食せしめ、平均気孔サイズ約33nm以下〜約5nm以下を有しており、ローダミン６Ｇを表面に吸着せしめてのラマン散乱信号測定で著
しい表面増強ラマン散乱が観察されるものを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】有害性、刺激性の強いフッ素化合物を用いることなく、かつ、特別な装置を必要としない簡便な化学的処理により、アルミニウム又はアルミニウム合金を装飾性のある白色面にするための処理液および処理方法を提供する。
【解決手段】リン酸および硫酸を混合してなる基本液１ｋｇに対して、ビスマス化合物をビスマス元素として０．００１〜０．０２０モル添加してなることを特徴とし、好ましくは、更に含窒素ポリカルボン酸類を添加してなる白色処理液。この液を９０〜１１０℃に加温し、アルミニウム又はアルミニウム合金を６０〜１２０秒処理することにより、表面が白色化する。 （もっと読む）

【課題】 機械的な除去を必要とすることなく表面層を化学的に、均一に除去するためのシステム及び方法を提供すること。
【解決手段】 金属部品の表面処理方法は、チタン合金α相の析出物を有する表面層を化学的に除去しチタン合金β相を有するコアを露出させるステップを含む。化学的除去では、硝酸及びフッ化水素酸を含む第１の溶液及び硝酸を含む第２の溶液を使用する。 （もっと読む）

【課題】 フッ化物フリーおよび過酸化水素フリーの環境にやさしく、且つ平滑に研磨できる化学研磨液及びそれを使用したリードフレームの化学研磨方法を提供する。
【解決手段】 モノ過硫酸水素塩濃度１５〜２５ｇ/Ｌ、硫酸濃度４０〜６０ｍｌ/Ｌの化研液を用いる。４２合金材のＦｅ、Ｎｉおよび介在物をほぼ均一に溶解することで、平滑且つ酸化物残渣（スマット）を発生させずに研磨することができる。また、リスクの高い物質を排除し環境に優しい研磨方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】より効率的に工業的規模でエッチド金属箔を提供する。
【解決手段】ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤を含むレジスト液によるレジスト層３ａが金属箔２の一部又は全部に形成されているエッチング用金属箔積層体１。 （もっと読む）

【課題】見た目や触感で凹凸感を得るような粗さの凹凸形成ができ且つ低コストで重量の減少の少ないアルミニウム材の表面処理方法を提供する。
【解決手段】本発明のアルミニウム材の表面処理方法は、１０ｇ／ｌ以上の硫酸及び１０ｇ／ｌ以上のフッ化アンモニウムを含み且つフッ化アンモニウムに対する硫酸の濃度比が０．６〜１．２で浴温２０〜７０℃の硫酸フッ化アンモニウム浴にアルミニウム材を浸漬して、アルミニウム材の表面にフッ化アルミニウムを析出させた後、４０ｇ／ｌ以上の硫酸を含み且つフッ化アンモニウムに対する硫酸の濃度比が１．２よりも高く浴温が６０℃以上である硫酸フッ化アンモニウム浴にフッ化アルミニウムを析出させたアルミニウム材を浸漬して、アルミニウム材表面のフッ化アルミニウムを除去することにより、アルミニウム材表面に凹凸を形成する。 （もっと読む）

【課題】エッチング対象層をパターニングするためのマスクの設計にかかる手間を軽減することができる、半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】エッチング対象層であるシリコン基板２１上に、エッチング液に対する耐性を有するシリコン酸化膜２２が形成される。その後、シリコン基板２１およびシリコン酸化膜２２に、これらを貫通する複数の貫通孔２３が形成される。そして、シリコン酸化膜２２側から各貫通孔２３内に、シリコン基板２１をエッチングするためのエッチング液が供給される。これにより、各貫通孔２３の側面からシリコン酸化膜２２と平行な方向にシリコン基板２１のエッチングが進行し、各貫通孔２３間が連通することにより、シリコン基板２１が所望の形状にパターニングされる。 （もっと読む）

【課題】表面積をさらに拡大し、静電容量を向上させることのできる電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法を提供する。
【解決手段】塩酸水溶液に硝酸、リン酸、硫酸またはフッ酸を添加したエッチング液を用いてアルミニウム箔をエッチングする電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法において、
ギ酸、酢酸、プロピオン酸などのモノカルボン酸を１．０〜５．０ｗｔ％の濃度で添加する。その際のエッチング液の温度を２５〜４０℃に設定する。 （もっと読む）

【課題】近年電子デバイスの材料として重要性が高まっている銅やＧａＮ等を、加工効率が高く且つ数十μｍ以上の空間波長領域にわたって精度高く加工する。
【解決手段】酸化性処理液３２中に被加工物３８を配し、酸性または塩基性を有する固体触媒４４を被加工物３８の被加工面に接触または極接近させて配して、固体触媒４４と接触または極接近している被加工面の表面原子を酸化性処理液３２中に溶出させて該加工面を加工する。 （もっと読む）

【課題】 エッチング処理によって所定のパターンを形成することにより製造される電磁波シールドフィルムにおいてエッチング処理によって接着剤が白化せず、結果として光学特性が低下しない電磁波シールドフィルムを得る。
【解決手段】 透明基材上に接着剤を介して導電性金属箔を積層した電磁波シールド用積層体において、その接着剤にポリエステル樹脂が含まれかつ当該ポリエステル樹脂のガラス転移温度が−１０〜２０℃であり、かつ式Ｉで求められるエステル基濃度が６０００〜９０００ｅｑ／１０^６ｇの範囲であることを特徴とする電磁波シールド用積層体。
【数１】
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【課題】軽量化を図り強固で運搬を容易にした大型製品枠体の製造技術の提供。
【解決手段】押し出し材から所定形状に加工し、ヒドラジン、アンモニア、水溶性アミンのいずれか１つ以上を含む水溶液に浸漬する工程により、その表面を平均直径２０〜８０ｎｍの微細凹凸部形状としたアルミニウム合金押し出し材の枠状部材１の接合部に、２０〜５０％の繊維系フィラー入りの熱可塑性樹脂組成物を射出して大型の仮枠体を形成し、この仮枠体をアニ−ルしてから支持部材を固定し正確な枠状部材１にする。 （もっと読む）

【課題】銅を浸食（アタック）せずにパラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金等の除去性が高く、有害物質を含まないため取り扱い容易なパラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金を選択的に除去できる金属除去液及びこれを用いた除去方法を提供する。
【解決手段】本発明の金属除去液は、パラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金を除去する溶液であって、前記金属除去液には鎖状チオカルボニル化合物を含む。本発明のパラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金の除去方法は、鎖状チオカルボニル化合物を含む金属除去液を使用して、銅又は銅合金と、パラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金から選ばれる少なくとも１つの金属を含む系から銅又は銅合金以外の金属を選択的に除去する。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスやフラットパネルディスプレー等の電子デバイスに使用されるルテニウムにおいて、主成分に強酸を使用することなくルテニウムをエッチングできるエッチング用組成物を提供する。
【解決手段】バナジウム及び水を含んでなるルテニウムのエッチング用組成物では、ルテニウム以外の半導体材料にダメージがなく、ルテニウムをエッチングできる。バナジウムとしては、ハロゲン化バナジウム、メタバナジン酸塩、オキシハロゲン化バナジウム、硫酸バナジル等が用いられ、有機酸、無機酸を添加してもよい。 （もっと読む）

【解決手段】本発明のプリント配線基板は、絶縁フィルムの少なくとも一方の表面に形成された基材金属層および導電性金属層を、複数のエッチング工程で選択的にエッチングすることにより形成された配線パターンを有するプリント配線基板であって、該プリント配線基板におけるエッチング液由来の金属残留量が０．０５μg／cm²以下であることを特徴としている。
【効果】本発明によれば、エッチング液由来の金属残留量が少ないので配線間の電気抵抗値が高く、またマイグレーション等が生じにくい。 （もっと読む）

【課題】耐食性に優れた電気二重層コンデンサ用集電体を、無電解エッチングによる粗面化にて安価に供給する。
【解決手段】質量比で、Ｎｉを５０ｐｐｍ〜５００ｐｐｍ未満含有し、残部がアルミニウムと不可避不純物からなる箔を、塩酸単独、または該塩酸に加えて、燐酸、硫酸、硝酸、シュウ酸のうち、一種、または２種以上の酸を混合した溶液にて無電解エッチングを行う。Ｎｉを添加することで箔の表層付近にＡｌ−Ｎｉ系析出物が生成され、エッチングに際し無電解にて良好に粗面化される。また、Ａｌ−Ｎｉ系析出物はエッチング中に容易に欠落除去され、耐食性を阻害することはなく、電気二重層コンデンサ用集電体として用いた際にも電解液に対し良好な耐食性を示す。 （もっと読む）

【課題】 ガラス等の絶縁膜基板、シリコン基板および化合物半導体基板上にスパッタリング法により成膜したチタンまたはチタンを主成分とする合金からなる層と、アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする合金からなる層とを含む金属積層膜を下地の基板等にダメージを与えることなく、さらに、テーパー角度を３０〜９０度に抑制し、積層膜を一括にエッチング可能なエッチング液組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のエッチング液組成物は、ヘキサフルオロケイ酸、ふっ化水素酸の金属塩またはアンモニウム塩、およびヘキサフルオロケイ酸の金属塩またはアンモニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも1種のふっ素化合物と酸化剤とを含有する。 （もっと読む）