【課題】熱風供給装置６を共有させることにより製造コストをダウンさせた熱処理炉を提供する。
【解決手段】外側筐体１と、上方空間１Ａが形成されるように外側筐体１の内側に設けられるとともに上面に上部開口２ａが設けられ、その内部が第１の領域Ｘ２と第２の領域Ｘ１とに分かれている内側筐体２と、外側筐体１及び内側筐体２の内部を貫通するように設けられ、内側筐体２内部をワーク３０が通過するように搬送するワーク搬送装置３と、上部開口２ａとワーク搬送装置３との間且つワーク搬送方向Ｘに、複数個が互いの間に隙間５２が形成されるように並列に配置されてワークを加熱するヒータ装置５と、上方空間１Ａと上部開口２ａとヒータ装置５間の隙間５２とを通過してワークを加熱する熱風６ａを供給する単一の熱風供給装置６と、熱風６ａの供給量が第１の領域Ｘ２よりも第２の領域Ｘ１の方が多くなるように調整する熱風供給量調整機構とを有する。 （もっと読む）

【課題】 ワークの搬送手段がコンパクトであり、炉の外部と内部の間の開口や、炉内の複数の環境槽の間の開口をきわめて小さくすることができるので、炉全体がコンパクトでしかも運転効率の良好なトンネル炉を提供すること。
【解決手段】 条件の異なる環境を形成するために仕切られた複数の環境槽４１，４２，４３，４４，４５と、該環境槽の送り方向に沿って、加工対象であるワーク２を送る搬送手段２０とを有しており、前記搬送手段が前記ワークの搬送を案内する手段２１と、前記ワークの搬送方向に沿って前記案内手段と並列的に延びており、前記搬送方向に沿って往復移動される長尺体２５と、該長尺体の外周に所定間隔ごとに設けられており、前記ワークもしくはワーク保持治具を係止するための係止手段２６と、前記長尺体を駆動する手段１とを備える。 （もっと読む）

【課題】金属資源と混合した有機化合物資源を加熱によって溶解液化または気化させてそれぞれ分離して金属資源を回収すると共に有機化合物も資源として回収する。
【解決手段】密閉状態の炉の中へ金属と有機化合物の混合した資源材料を設置して、外熱源による熱エネルギーで加熱する。有機化合物は溶解液化・気化して金属と分離して排熱ガスと共に炉外へ取り出し冷却して資源として回収する。金属はそのまま残り炉の冷却後炉を開けて回収する。 （もっと読む）

【課題】 ワークの搬送手段がコンパクトであり、温度環境槽の外部に対する開口をきわめて小さくすることができるので、炉全体がコンパクトでしかも運転効率の良好なトンネル炉を提供すること。
【解決手段】 所定の温度環境を形成するための温度環境槽と、該温度環境槽の送り方向に沿って、加工対象であるワークを送る搬送手段とを有しており、前記搬送手段が前記ワークの搬送を案内する手段２１と、前記ワークの搬送方向に沿って並列的に延びる長尺体２５と、該長尺体の外周に所定間隔ごとに設けられており、前記ワークもしくはワーク保持治具を係止するための係止手段２６と、前記長尺体を駆動する手段２８とを備えるトンネル炉。 （もっと読む）

【課題】 排気管内におけるタールの発生を防止することが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】 集合排気管２００と、第１の炉１００ａ及び第２の炉１００ｂとを備え、第１の炉１００ａは、集合排気管２００におけるガス流の上流側と接続され、第２の炉１００ｂは、集合排気管２００におけるガス流の下流側と接続され、集合排気管２００の断面積は、集合排気管２００の第１の炉１００ａとの接続部分における断面積をＳ₁、集合排気管２００の第２の炉１００ｂとの接続部分における断面積をＳ₂、第１の炉１００ａ内部の高さをＨ₁、第１の炉１００ａ内部の高さと第２の炉１００ｂ内部の高さとの合計をＨ₂としたとき、式Ｓ₂／Ｓ₁＝（Ｈ₂／Ｈ₁）^a（０．１≦ａ≦０．９）を満足する。 （もっと読む）

【課題】密閉度を高めて残留酸素濃度を可及的に低減可能なガラス基板用の加熱炉を低コストで提供すること。
【解決手段】酸素パージ用のガスを導入するパイプをそれぞれ連通連結するとともに、内部にヒータを配設して単一のガラス基板を収容して加熱可能とした加熱炉本体を多段に増設可能な加熱炉とした。また、上記加熱炉において、前記加熱炉本体は、矩形形状の周枠の上下に、パッキン材を介して天井板と底板とを取付けて構成した。 （もっと読む）

【課題】 被加熱物の熱処理に伴って発生する生成ガスや、生成ガスが冷却されて発生するいわゆる昇華物の漏出を抑制可能な熱処理装置の提供を目的とする。
【解決手段】 熱処理装置は、熱処理室１２に基板を出し入れするための換装部６を有する。換装部６に設けられたシャッター１０に対して隣接する位置には、エアノズル７５と、排気ダクト７４に通じる吸入口７４ａとが設けられている。熱処理室１２内において発生した生成ガスや昇華物は、エアカーテンＡ１によって遮られ、シャッター１０を開閉しても熱処理装置１の外部に漏出しない。 （もっと読む）

【課題】基板等を熱処理する熱処理装置に関し、赤外線ヒータを使用した場合と同等の熱処理ができ、且つ生成ガスの濃度上昇を抑制することができる装置を提供する。
【解決手段】熱処理室１２の中に棚部材があり、この棚部材の裏面に遠赤外線プレート１００が取り付けられている。遠赤外線プレートは、単独で発熱する機能を持たず、加熱されると赤外線を放射する。棚部材に搭載された基板Ｗは、熱処理室内に流れる熱風に晒されて加熱されるが、このとき、遠赤外線プレートも熱風よって昇温し、赤外線を放射する。基板は、遠赤外線プレートから輻射される赤外線によっても加熱される。生成ガスは、大量の熱風に運ばれて熱処理室の外に排出される。 （もっと読む）

【課題】
連続式加熱雰囲気炉の利点を生かしつつ、加熱雰囲気ガスの使用量を低減することができる連続式加熱雰囲気炉内のガスコントロール方法を提供する。
【解決手段】
上記課題を解決するための連続式加熱雰囲気炉内のガスコントロール方法は、炉内への被加熱物の投入の有無を判定し、炉内に被加熱物の投入が無い場合、排気される炉内のガスの割合を、炉内に被加熱物が投入されている場合に比べて低下させ、炉内の加熱雰囲気ガス濃度が予め定められた値以上に維持される範囲で、炉内に供給する加熱雰囲気ガスの割合を、炉内に被加熱物が投入されている場合に比べて低下させた状態で運転することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】炉内での酸素分圧のバラツキを抑制することができる焼成炉、及びこの焼成炉を使用して積層セラミック電子部品間で焼結性のバラツキを抑制することが可能な積層セラミック電子部品の製造方法を実現する。
【解決手段】炉内壁面１に断熱材２が配設された焼成炉において、金属製の板状部材４が前記炉内壁面１の内周に沿って前記断熱材２中に突出するように設けられている。前記板状部材は、投影視全周に亙って形成する。積層セラミック電子部品は、上記焼成炉を使用し、所定の酸素分圧下で焼成処理を行って製造する。 （もっと読む）

【課題】 ハンダがたれても生産効率が低下することを抑制すること。
【解決手段】 加熱室ＰＨ１と、加熱室ＰＨ１内に設けられ、上方に対して雰囲気を送風するファンＦ２と、加熱室ＰＨ１内、且つファンＦ２の上方に設けられ、ファンＦ２から送風された雰囲気を加熱するヒータＨ２と、加熱室ＰＨ１内、且つヒータＨ２の上方に間隔をあけて略水平方向に配列された複数の第１の整流板Ｐ１と、加熱室ＰＨ１内、且つ第１の整流板Ｐ１の上方に間隔をあけて略水平方向に配列され、隣接する第１の整流板Ｐ１の両方に重なる複数の第２の整流板Ｐ２と、加熱室ＰＨ１内、且つ第２の整流板Ｐ２の上方に設けられ、プリント配線基板ＰＷＢを搬送する搬送部ＣＶとを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化ニッケル粉末の高温焙焼による製造過程で、熱エネルギーコストおよび焙焼設備維持コストを少なくし、製造コストを抑えた効率的な製造を可能とする。
【解決手段】焙焼用加熱炉（１）において、円筒型の転動炉（２）の両側面部および底面部の３面に、対向状態の電熱式の側面ヒーター（３）および電熱式の底面ヒーター（４）を分割状態として脱着自在に設け、底面ヒーター（４）の熱源として棒状電熱ヒーター、好ましくはシリコニット製棒状電熱ヒーターを用い、運転時に、底面ヒーター（４）を負荷固定運転とするとともに、側面ヒーター（３）を負荷制御として、転動炉（２）内の被焙焼物（酸化ニッケル粉末）に熱エネルギーを供給し、被焙焼物（酸化ニッケル粉末）を焙焼する。 （もっと読む）

【課題】粉体状の被加熱物を雰囲気ガスによりより均一に加熱ガス処理できる生産性に優れたバッチ式ロータリキルンを提供する。
【解決手段】バッチ式ロータリキルン１０は、被加熱物を収容して軸線周りに回転するレトルト１３と、レトルトの外側部を加熱する加熱炉７とを備え、レトルトの少なくとも一端に着脱自在の蓋体２３を有し、レトルトの一端側からレトルト内を所定のガス雰囲気とする雰囲気ガスＧを供給し、一端側あるいは他端側からこの雰囲気ガスを排出して被加熱物を加熱ガス処理する。雰囲気ガスの供給側にはレトルトの軸心に沿ってレトルト内部へ延出する複数のガス噴出部を設けた雰囲気ガス供給手段３３および加熱炉とレトルトとを一体的に上下方向に揺動する揺動手段を備えている。 （もっと読む）

【課題】被加熱物をより均一に加熱できる生産性に優れたバッチ式ロータリキルンを提供する。
【解決手段】バッチ式ロータリキルンは、被加熱物を収容して軸線周りに回転するレトルトと、このレトルトの外側部を加熱する加熱炉とを備え、レトルトの少なくとも一端に着脱自在の蓋体を有し、加熱炉とレトルトとを一体的に上下方向に揺動する揺動手段を備えている。すなわち、シリンダロッドを矢印Ｚのように伸縮することでレトルトを矢印Ｓのように揺動でき、被熱処理物を回転方向のみならずレトルトの軸線方向にも撹拌できる。 （もっと読む）

【課題】 加熱装置によって加熱されたガスを、循環ファンにより循環させながら基板を収容させた処理部を通過させて、基板を加熱処理する循環式焼成炉において、加熱された基板内での温度差を少なくして、基板の加熱処理が適切に行えるようにする。
【解決手段】 加熱装置１４によって加熱されたガスを、循環ファン１６により循環させながら基板２０を収容させた処理部１２を通過させて、基板２０を加熱処理する循環式焼成炉において、上記の基板２０に対するガスの流れ方向下流側における基板２０の近傍に加熱装置１４を設けた。 （もっと読む）

【課題】 リフローに伴い発生するハンダに含まれるフラックスの蒸発成分を触媒体によって効果的、かつ大量に分解処理リフローハンダ付け装置を提供する。
【解決手段】 リフロー炉の雰囲気ガス中に存在するフラックスを分解する触媒体７７を、輻射パネル７５の放熱表面に接触させて配置する。 （もっと読む）

【課題】炉内の各構成部位における蓄熱を解消ないしは低減すると共に、排気に伴う輻射エネルギーの損失等を抑える一方、輻射エネルギーはできるだけ炉内に封じ込めて効率的に利用することができ、高温信頼性を確保しつつ実用に十分供することのできる熱輻射反射炉を提供する。
【解決手段】 内面に金膜が形成された耐熱管２と第１内管（石英管）３との間に、空気断熱層となる第１の間隙２１、第１内管３と第２内管（プロセスチューブ）４との間に第２の間隙２２がそれぞれ設けられている。第２の間隙２２内にはヒータ５だ配置されている。耐熱管２の外面は水冷ジャケット１に囲まれ、両者の間には、冷媒の通気路となる第３の間隙２３が設けられている。耐熱管２は水冷ジャケット１によって外面側から冷却され、その結果炉全体から外部へと放出される熱が冷却される。 （もっと読む）

【課題】乾燥・脱バインダー領域より焼成領域の方が被熱処理物の搬送速度を速くできるとともに、焼成領域内を一定の高温度に安定して保持でき、炉長についての設計の自由度も高い連続式熱処理炉を提供する。
【解決手段】一定のストロークで上昇、前進、下降、後退という動作を周期的に繰り返すビーム２を備えた第一の搬送機構と、一定のストロークで上昇、前進、下降、後退という動作を周期的に繰り返すビーム１１を備えた第二の搬送機構と、一定のストロークで上昇、前進、下降、後退という動作を周期的に繰り返すビーム２１を備えた第三の搬送機構とを有し、乾燥・脱バインダー領域４１では被熱処理物１の搬送を第一の搬送機構により行い、焼成領域４２では被熱処理物１の搬送を第二の搬送機構により行い、焼成領域４２を搬送された後の被熱処理物１を、第三の搬送機構により炉外の所定位置まで搬送する連続式熱処理炉。 （もっと読む）

【課題】熱処理室で加熱処理済の被処理物から放出される熱を、冷却室において電力に変換して有効活用できる熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理室の下方で開口部２１が熱処理室の炉口に対向する連接位置と炉口の下方を開放する退避位置との間に冷却室２を水平方向に移動自在に配置し、冷却室の外表面を覆う冷却ジャケット２３と光吸収体２４との間に熱電変換モジュール６を配置した。熱電変換モジュールは、蓋体２２を含む冷却室の全面に配置した。冷却室内に収納された加熱処理済の半導体ウエハＷから放出された熱は、光吸収体から熱電変換モジュールを経由して冷却ジャケット内の冷却水に伝導し、この間に熱電変換モジュールによって電力に変換される。 （もっと読む）

【課題】 容器の破損が防がれ、容器およびこの容器を含む装置全体の小形化および軽量化を図ることができ、融液の温度の立ち上がり特性を向上させることができ、湯面中央部での融液の凝固を防止することができる溶融装置および半導体製造設備を提供する。
【解決手段】 坩堝３には、貯留空間５が形成され、この貯留空間５にシリコンの融液２が貯留される。電磁コイル４は、坩堝３およびこの坩堝３の貯留空間５を通過する磁束を変化させる。この電磁コイル４は、坩堝３の貯留空間５内で磁束密度が最大となる磁束を発生させる。しかもこの電磁コイル４は、坩堝３の貯留空間５を上下に通過し、かつ坩堝３の底面２８よりも予め定める距離Ｌ１だけ上方で磁束密度が最大となる磁束を発生させる。 （もっと読む）