【課題】基板と基板支持部の接触面積を増加させることにより、焼成装置の内部温度が上昇及び下降することで、基板支持部が収縮・膨脹しながら、基板にスクラッチを発生させることを防止できる基板焼成装置を提供する。
【解決手段】焼成炉１０内部に熱を供給して基板Ｓを焼成温度で加熱する加熱部２１と、前記基板Ｓが積載されるように内側面に水平に設置される支持フレーム３０a及び前記支持フレーム３０ａの一領域から中央部側へ突出する少なくとも１つの支持ピン３０ｂとを備え、上下方向に一定間隔で設置される石英材質の第１支持部３０、前記第１支持部３０の前記支持ピン３０ｂ上に配置されて前記基板Ｓ下部面の枠と一定領域だけ接触するように設置される石英材質の第２支持部４０とを有する。 （もっと読む）

【課題】板状のワークを正確な速度で移動させながら、特定の雰囲気中で加熱処理することができ、サイズアップが容易で、省エネルギー性に優れた加熱炉を提供する。
【解決手段】炉体１の入口側に搬送用フィルム５の払い出し用ロール３を、また炉体１の出口側に搬送用フィルム５の巻き取り用ロール４をそれぞれ配置し、搬送用フィルム５を炉体１の長手方向に移動させながらその上に置かれたワークＷを加熱する。この炉体１の内部には搬送用フィルム５の下面に向かってガスを噴出し、搬送用フィルム５を浮上させるガスチャンバ６を設置しておくことが好ましく、これによって摩擦抵抗のない状態で移動させることができる。さらに炉体の入口と出口にそれぞれ排気型雰囲気調整器１１，１２を設けておけば、外気の進入を確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】フラックスの炉内蓄積や基板付着を防止すると同時に、各加熱ゾーンの温度独立性をも向上させることができるダクトレスタイプのリフロー装置を提供する。
【解決手段】各加熱ゾーンＺの実測温度を、各加熱ゾーンＺに対してそれぞれ設定された設定温度範囲に近づけるべく、各加熱器２１の出力をそれぞれ制御するとともに、前記実測温度が設定温度範囲より高い加熱ゾーンについて、その加熱ゾーンＺでの実測温度が時間とともに上昇している場合は、当該加熱ゾーンＺでの調節バルブ４４を開方向に駆動する一方、前記実測温度が時間とともに下降している場合は当該加熱ゾーンＺでの調節バルブ４４を閉方向に駆動するように構成した。 （もっと読む）

【課題】雰囲気ガスの熱やフラックスガスによるシール部材の劣化を防止した半田付け装置を提供する。
【解決手段】処理室１，２，３を形成する上下の筐体２０，２１の合わせ面部にシール部材２８が装着されている半田付け装置において、前記処理室と合わせ面部との間に合わせ面部に沿ってバッファ室２３を有し、前記バッファ室２３と処理室１，２，３は仕切壁２２ａで仕切られており、バッファ室２３にはバッファ室２３を処理室１，２，３側と合わせ面部（シール部材２８）側とに仕切る仕切壁２９が設けられている。 （もっと読む）

【課題】リフローはんだ付け方法において、プリント配線板上に高速で流れの整った熱風を少ないエネルギーで供給することができるように構成することによって、熱伝達率が高く加熱温度偏差Δtが小さい加熱を少ないエネルギーで行えるようにすること。
【解決手段】被はんだ付け部に予めはんだが供給された板状の被はんだ付けワークの板面方向の旋回ベクトルを与えた旋回流熱風の吹き出し手段とこの吹き出し手段の熱風吹き出し口を取り囲む方向であって前記板状の被はんだ付けワークに吹きつけられた旋回流熱風を旋回させて吸い込む旋回還流手段とから成る旋回流熱風吹きつけ還流手段を多数設けることで多数の旋回流熱風を前記板状の被はんだ付けワークに吹きつけて前記被はんだ付け部に供給された前記はんだを加熱し溶融させてはんだ付けを行うように構成したはんだ付け方法。 （もっと読む）

【課題】換装口の開閉に伴い熱処理に伴って発生した生成ガスや昇華物などの漏洩や、熱処理室内の温度分布のムラが発生しにくい熱処理装置の提供を目的とした。
【解決手段】熱処理装置１をなす熱処理室１３の正面１３ｂには、上下に４つの換装口１８ａ〜１８ｄが並べて設けられている。また、熱処理室１３の底面１３ａには、排気口２１が設けられており、これに排気装置１１が接続されている。排気装置１１は、熱処理室１３の底面１３ａ側の領域Ｘ１に設けられた換装口１８ａ，１８ｂが開状態になる期間よりも、上方の領域Ｘ２に設けられた換装口１８ｃ，１８ｄが開状態になる期間において出力が高められる。これにより、換装口１８ｃ，１８ｄが開状態になる場合も、領域Ｘ２の静圧が外気圧Ｐｏと同等あるいは外気圧Ｐｏ以下とされ、生成ガスを含む空気の漏洩が防止される。 （もっと読む）

【課題】 液晶板、集積回路板、半導体板等の板状電子部品に対する焼成を行うための焼成炉であって、熱効率の向上化及び扉部分の熱変形の問題を解消した焼成炉の提供を図る。
【解決手段】 炉体10の内部に所要段数の棚板11ａを具えた棚枠11を設け、炉体10の開放面10ａを覆うための扉体12を、上端側遮蔽版12ａと下端側遮蔽版12ｂと、当該両遮蔽版12ａ,12ｂの間に介在させた所要段数の遮熱扉版12ｃとで構成する共に、当該各版は縦方向に非連結状態で載置された形態で昇降自在に支持し、また、各遮熱扉版12ｃにはワーク出し入れのための窓孔12ｄを開設すると共に、当該窓孔12ｄには開閉自在な開閉蓋12ｅを装設し、前記扉体12は、各棚板11ａと夫々対応する位置で停止するような間歇的昇降作動が行われるように構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空素子の密封方法に関する。
【解決手段】本発明の真空素子の密封装置は、真空室と、それぞれ、第一絞り弁及び第二絞り弁により、前記真空室の両端に繋がれた第一収容室及び第二収容室と、前記第一収容室、前記第二収容室及び前記真空室の内部に運動することができた少なくとも、一つの運送装置とを含む。更に、容器及び第一加熱装置を含む。前記容器は、前記真空室の外部に設置され、入力チューブにより前記真空室に繋がれ、複数の密封素子を収容することに用いられる。前記第一加熱装置は、前記入力チューブと前記第二絞り弁との間に位置する前記真空室の壁に設置され、前記密封素子を加熱、軟化することに用いられる。 （もっと読む）

【課題】焼成によりガス状の揮発性物質を発生する被焼成物Ａを焼成するための焼成炉１０において、簡単な手段でもって、天井面１５で再凝縮した揮発性物質４０が被焼成物Ａの上に落下するのを阻止する。
【解決手段】焼成炉１０内における被焼成物Ａの配置位置よりも上方位置に、加熱されることによりガス化した揮発性物質は通過できるが、ガス化後に再凝縮した揮発性物質４１は通過できない大きさの通気孔を備えたフィルタ３１を配置する。好ましくは、フィルタ３１はウエブ状でロール原反３０とされており、再凝縮した揮発性物質４１を捕捉して目詰まり状態となったときに、そこを巻き取り、新しいフィルタ領域を被焼成物Ａの上に移動させる。 （もっと読む）

【課題】窒素の消費量を少なくし、既存の大気リフロー炉を窒素リフロー炉化する設備を提供可能にすること。
【解決手段】ライン型の大気リフロー炉１１０の筐体の全面を覆ってリフロー炉を密閉する被覆体１２０と、窒素を被覆体内へ供給する窒素供給装置１４０と、被覆体１２０外部に設けられ、気体を冷却する熱交換器と、廃フラックス成分を凝着させるフィルタと、を有するフラックス除去装置１３０と、を有し、被覆体１２０には、リフロー炉の基板入口上流と基板出口下流にそれぞれ前シャッタ１２３と後シャッタとを設け、リフロー炉の排気ダクト口１１２とフラックス除去装置１３０とを接続する集気配管１３３と、フィルタを通過した窒素を被覆体内へ環流させる導気配管１３４と、を備えた窒素リフロー炉化設備１００。 （もっと読む）

【課題】昇華物が導出ダクト内で堆積することを抑制することができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置１Ａは、熱処理部２１内に被処理物Ｗが収容された状態で、熱処理部２１内の空気を循環させながら加熱することにより被処理物Ｗを熱処理するとともに、外気を加熱して熱処理部２１内に送り込みつつ熱処理部２１内の空気を導出ダクト５内に流出させることにより熱処理部２１内を換気するものである。前記導出ダクト５には、被処理物Ｗを熱処理する際に当該被処理物から発生する昇華物を分解可能な触媒６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】抵抗発熱体の熱膨張収縮時の支持体と抵抗発熱体との間の摩擦抵抗を低減して抵抗発熱体の残留応力による永久歪の発生を抑制し、耐久性の向上を図る。
【解決手段】被処理体ｗを収容して熱処理するための処理容器３を囲繞する筒状の断熱材４と、該断熱材４の内周面に沿って配置される螺旋状の抵抗発熱体５と、上記断熱材４の内周面に軸方向に沿って設けられ抵抗発熱体５を所定ピッチで支持する支持体１３と、上記抵抗発熱体５の外側に軸方向に適宜間隔で配置され断熱材４を径方向に貫通して外部に延出された複数の端子板１４とを備えた熱処理炉において、上記支持体１３は断熱材４に一端が埋め込まれ、他端が径方向内方へ突出された複数本の管状部材５１から成り、該管状部材５１の曲面状の上面部に上記抵抗発熱体５が支持され、上下に隣り合う上記管状部材５１の先端部間には、上記抵抗発熱体５の脱落を防止するための線状部材５５が掛け渡され、該線状部材５５の両端部５５ａが上下の上記管状部材５１の軸孔を通り断熱材４中に埋設されて固定されている。 （もっと読む）

【課題】汚染トランスからＰＣＢ油を迅速に分離する。
【解決手段】ＰＣＢ油に汚染された汚染トランス２の処理容器１に、汚染トランス２の誘導加熱設備３と、ガス供給設備４と、誘導加熱によって汚染トランス２から揮散したガスを凝縮させる冷却容器５と、処理容器１内を所定圧力に保ちつつ揮散したガスを冷却容器５に導き、かつ凝縮させたガスからＰＣＢ油を捕捉した後のガスを、冷却容器５から系外に放出させる誘引ファン６を設置する。処理中は、酸素濃度を５容積％以下に調整した不活性ガスで処理容器１の内部を満たす。処理容器１の内部圧力を大気圧よりも低い圧力に制御してＰＣＢ油の揮散を促進し、揮散したガスを冷却容器５で凝縮させてＰＣＢ油を捕捉すると共に、系外へのＰＣＢ油含有ガスの漏洩を防止する。
【効果】真空加熱法よりも時間とコストを低減でき、また洗浄法よりも洗浄廃液の発生がない上に人件費を低減して、ＰＣＢ油を迅速に分離できる。 （もっと読む）

【課題】多段積みして搬送されるワークの温度のバラツキを入口側のパージゾーンで減少させることができ、ワークからの脱ガスが結露してパージゾーンの上壁面から滴下することもない連続焼成炉を提供する。
【解決手段】入口側のパージゾーンＰｆの上下左右の壁３１〜３４にガス導入ボックス６１〜６４を設けると共に、これらのガス導入ボックスの内部とパージゾーンの内部を連通させる多数の小開口３５を上下左右の壁に形成し、それぞれのガス導入ボックスに接続したパージガス導入路７１〜７４に、入口側のパージゾーンに導入するパージガスを予熱してガス温度を調整するガス予熱手段８１〜８４と、パージガスの導入量を調整するガス導入量調整手段９１〜９４を設けた構成の連続焼成炉とする。パージガスを予熱してワークの温度のバラツキを抑え、脱ガスの結露を防止する。 （もっと読む）

【課題】前後のゾーンへの温度干渉を防止しつつ理想的な急昇温が可能であり、またバインダーガスが最高温度ゾーンに流入することによる焼成品質の低下をも防止することができる急速昇温機能を有するローラハースキルンを提供する。
【解決手段】積層デバイス等の被焼成品を所定速度で移送する通常搬送領域12,13の途中に、被焼成品をこの所定速度よりも高速で搬送する高速搬送領域14を形成し、この高速搬送領域14の炉室内に、通常搬送領域の加熱源18よりも高出力の加熱源19を設ける。高速搬送領域14は脱バインダーゾーンと焼成ゾーンとの間の急速昇温ゾーンとすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】匣鉢の内部に収納した被加熱物を、匣鉢内部における温度分布の不均一を抑制し、しかも発生ガスの排気や反応用ガスと被加熱物との接触を良好に維持しつつ、均一に焼成することができる匣鉢を用いた焼成方法を提供する。
【解決手段】底面の一部または全面を通気部９とした匣鉢１に粉体等の被加熱物を入れ、焼成する。昇温域においては炉内に新鮮なガスを供給しつつ、匣鉢支持面に形成された吸引孔１０，１１を匣鉢１の底面に密着させて匣鉢１の内部を吸引し、被加熱物から発生する発生ガスを炉底部から排出する。新鮮なガスは匣鉢１の内部の被加熱物の近傍を流れる。炉内へのバインダーガスの拡散がなく、温度分布も均一化される。 （もっと読む）

【課題】焼成時にバインダーガスを放出する電子部品を焼成するためのバッチ式の電子部品用焼成炉とその炉圧制御方法を提供する。
【解決手段】焼成炉本体１の天井部２に、ガス流量調整用のダンパー機構５を備えた排ガス放出用の排気ダクト３と、熱交換器７に通じる連結ダクト４を設け、熱交換器７で冷却したガスを再び焼成炉本体１に戻す循環路８を形成するとともに、この循環路８には炉圧制御器９を設けた。また、この焼成炉の炉圧を制御する方法であって、起動時から脱バインダー処理が終了するまでは、循環路への排ガスの流入を止めて排気ダクトの排気のみで炉圧の制御を行い、次いで、脱バインダー処理が終了した後は、排気ダクトへの排ガスの流入を止めて循環路の流通のみで炉圧の制御を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】炉幅が大きい加熱炉であっても、ヒーターユニットの取り外しが容易な構造の加熱炉を提供する。
【解決手段】被加熱物を、トンネル状の炉体１の炉長方向に移送しつつ、炉内上部に配設されたヒーターユニット４で加熱する加熱炉であって、炉体側壁１ｂ上に、炉幅方向を橋渡す梁状部材５ａを設け、梁状部材５ａに、ヒーターユニット４を、スライド部材６を介して炉幅方向にスライド可能に取り付けたことを特徴とする。なお、ヒーターユニット４を炉幅方向に複数に分割することが好ましい。また、隣接する梁状部材５ａを接合し、この隣接する梁状部材５ａに、ヒーターユニット４を炉幅方向にスライド可能に取り付けることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】不活性ガスを内有した乾燥処理装置又は焼成処理装置等においては、当該装置内へ被加工ワークを供給したり又はそこからワークを取出す際に、装置内部の不活性ガスが装置外部へ漏洩する。不活性ガスの漏洩を防止若しくは最小にするワーク出し入れの為の開口部をできるだけ小さくできる乾燥処理装置又は焼成処理装置を提供する。
【解決手段】不活性ガス雰囲気下で被加工ワークを処理するための不活性ガス雰囲気炉装置であって、炉本体と大扉１４とにより構成されており、複数のワーク保持手段と、少なくとも１つのワーク移送開口と、小扉３４と、大扉移動手段３０と、小扉開閉手段と、ワーク移送ロボットと、封止手段２０及びクランプ手段と、シール手段と、から成る不活性ガス雰囲気炉装置。 （もっと読む）

結晶成長装置において加熱要素を配置するためのシステムおよび方法は、加熱要素の１つ以上の加熱部材を相互接続するとともにこれらの加熱部材の少なくとも１つを結晶成長装置に接続するよう用いられる、ヒータクリップのような接続要素を含む。加熱部材は、電気的および熱的に結合され得、同じ回路を介して接続され得る。これにより加熱要素の制御を簡略化する。
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