【解決手段】半導体基板の熱処理工程に用いる熱処理炉であって、両側端面に半導体基板の挿入及び取り出し可能な大きさの開口部を有する円筒状の炉心管を具備することを特徴とする熱処理炉。
【効果】本発明によれば、半導体の連続熱処理時の各バッチ間の待機時間を減少させ、生産性を向上することが可能となった。また、炉芯管の構造を単純な円筒状形状としたことで、ガス導入管部分の破損頻度が低下し、熱処理工程のランニングコストを削減することができた。 （もっと読む）

【課題】 加熱装置全体としての断熱性を維持しながら、昇温時、温度安定時間の短縮と急冷時間の短縮を図る加熱装置を提供すること。
【解決手段】筒状の側壁内に基板を処理する処理室を設け、この側壁に支持されると共に基板を加熱する発熱体２０を備えた加熱装置である。側壁内層５０、側壁中層６０及び側壁外層７０で区切られた二つの空間が形成される。発熱体２０を取り付ける側壁内層５０と側壁中層６０との間の第一の空間Ｓ１には冷却媒体流通通路１４が形成される。側壁中層６０と側壁外層７０との間の第二の空間Ｓ２には断熱材６３が封入されている。 （もっと読む）

【課題】保持用ピースの破損、ピースホルダからの乖離、天井部付近での断熱不良を防止し、温度特性の均一化や寿命の向上を図る半導体製造装置用ヒータ支持装置を提供する。
【解決手段】被加熱体の周りにコイル状に形成された発熱体３１が配設され、鉛直方向に保持用ピース３２が多数連設され、該保持用ピース間に径方向に長い長円形状の空洞部３８が形成され、前記発熱体が前記空洞部を挿通し、前記保持用ピースを介して支持され、該保持用ピースの上面と下面のいずれか一方に、前記発熱体と交わる方向に嵌合凹部が形成されると共に、他方に前記嵌合凹部と嵌合可能な嵌合凸部が形成され、前記保持用ピースは前記嵌合凹部と前記嵌合凸部との嵌合を介して連設された。 （もっと読む）

【課題】簡素な構造で、取り扱いも容易であり、被加熱物全体をムラなく均等に加熱することができ、加熱効率も良好である加熱装置を提供する。
【解決手段】加熱装置１０は、断熱材１１ａで形成されたケーシング１１内に、被加熱物Ｗを収容する円筒状の収容部材１２と、収容部材１２の外周面１２ａから隙間Ｖを隔てて配置された円筒状発熱体１３と、収容部材１２内にその軸心１２ｃ方向に沿った一定方向の気体流Ｒを発生させる送風ファン１４と、を備えている。収容部材１２はステンレス鋼管で形成されている。円筒状発熱体１３は収容部材１２の外周面１２ａを囲繞するような状態で、且つ、収容部材１２の軸心１２ｃと、円筒状発熱体１３との軸心１３ｃとが同軸をなすように配置されている。収容部材１２の後方開口部１２ｒに臨む領域に配置された送風ファン１４の回転軸１４ａも軸心１２ｃ，１３ｃと同軸をなしている。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成によって、換気システムの換気量を最適に制御することが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置１０は、ヒータ２０、参照負荷率演算部（ＣＰＵ５０）、換気量調整部１６、および換気量制御部（ＣＰＵ５０）を備える。ヒータ２０は、炉体１２の内部に配置され、ワーク１８を加熱するように構成される。参照負荷率演算部（ＣＰＵ５０）は、ヒータ２０の参照負荷率を演算する。換気量調整部１６は、換気システム１１の換気量を調整する。換気量制御部（ＣＰＵ５０）は、参照負荷率演算部（ＣＰＵ５０）の演算結果に基づいて、換気量調整部１６を制御する。換気量制御部（ＣＰＵ５０）は、ヒータ２０の参照負荷率の増加に応じて換気システム１１の換気量を増加させる一方で、参照負荷率の減少に応じて換気システム１１の換気量を減少させる。 （もっと読む）

【課題】加熱容器内の温度分布を均一化した加熱処理装置を提供する。
【解決手段】加熱対象物が収容される加熱容器１０と、雰囲気温度よりも高温である加熱気体を発生させる加熱気体発生装置と、加熱容器の内部に加熱気体を噴出させる気体噴出手段２０とを備える加熱処理装置１を、気体噴出手段は、加熱気体を噴出して加熱容器の内部に旋回流Ｔを形成する複数の噴出孔Ｈを有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】発熱体の断線等を抑制し、発熱体の自重等による保持体の変形を抑制できる形状を提供する。
【解決手段】加熱室内に設けられ、基板を処理する処理室と、加熱室内を加熱する加熱装置と、を有し、加熱装置は、上下端のそれぞれに山部４２ａと谷部４２ｂとが複数連なるように形成され、両端が固定される発熱体４２と、加熱室の一部を構成し、前記発熱体４２の外周に設けられる断熱体３３と、該断熱体３３に固定され、前記発熱体４２を保持する保持体４１と、を備え、前記発熱体４２の山部４２ａの少なくとも一部が前記断熱体３３側に折り曲げられ、前記断熱体３３は、前記発熱体４２の谷部４２ａに相対する部分が前記発熱体４２側に向って突き出され、前記保持体４１を支持する突出部５１を備える。 （もっと読む）

【課題】常温分離法により製造される窒素ガスを原料として安定した組成の窒素と水素と水との混合ガスを安価に製造することができる熱処理雰囲気ガス発生方法を提供する。
【解決手段】圧力変動吸着分離式窒素発生手段又は分離膜式窒素発生手段で発生させた原料窒素ガスに酸素含有ガスを混合して所定酸素濃度の酸素混合窒素ガスを発生させる工程と、該酸素混合窒素ガスに所定量の水素ガスを添加して原料混合ガスとする工程と、該原料混合ガス中の酸素と水素とを触媒反応させて水を生成させ、熱処理炉に導入する熱処理雰囲気ガスとする工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】高精度なプロセス処理および高い安全性を実現することができる熱処理装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】熱処理装置１０は、基板を処理する反応管４２と、反応管４２を支持するマニホールド４４と、反応管４２の周囲に設けられ反応管４２内を加熱するヒータ４６と、ヒータ４６より下方の反応管４２の側方を囲うように設けられる囲い部５００と、囲い部５００と反応管４２との間の間隙５０６を強制排気する排気装置３０１と、反応管４２とマニホールド４４との間の当接部に設けられる密閉部材１５０と、を有し、囲い部５００には、排気装置が囲い部５００の外側の雰囲気を間隙５０６へ吸気する吸気口５０１が設けられる。 （もっと読む）

【課題】今まで固定されていた第三ゾーンの発熱体の位置を外部から可変できる可変温度勾配式マルチゾーン型電気炉を提供する。
【解決手段】本発明は、上記課題を解決するため、発熱体を有する加熱部を有する所謂内熱型の単結晶を合成する電気炉において発熱体が２個以上で構成される電気炉で、加熱源である発熱体の位置を外部から変えることにより、温度分布を変えることができる電気炉の構成とした。 （もっと読む）

【課題】匣鉢に収納した粉体を表層部と内部との間で焼成品質のバラツキが生じないように均一に、しかも経済的に固相反応焼成することができる量産化技術を提供する。
【解決手段】本発明の粉体の固相反応焼成方法は、匣鉢３に収納した粉体を連続炉により加熱して固相反応焼成を行なう方法であって、炉体に設置された抵抗加熱ヒータ８によって粉体を最高温度の直前温度まで加熱したうえ、マイクロ波加熱装置１１によりマイクロ波を照射して粉体を発熱させることにより表層部と内部とを均熱化し、その後は再び抵抗加熱ヒータ８によって最高温度に保持する。 （もっと読む）

【課題】減圧水素アニール処理を安全に行える様にする。
【解決手段】反応室２と、該反応室に水素ガスを導入する水素ガス導入ライン１８と、前記反応室に接続された減圧排気ライン５と該減圧排気ラインに設けられ前記反応室を減圧にするための排気装置と、該排気装置の下流側に不活性ガスを供給し排気ガス中の水素濃度を所定値以下に希釈する排気希釈ライン４８とを具備し、減圧状態の前記反応室内に前記水素ガス導入ラインから水素ガスを導入しつつ被処理基板を減圧アニール処理し、該減圧アニール処理後の該反応室内の残存ガスを前記排気装置が減圧排気ラインを介して前記排気装置の下流側へ吸引排気する工程と、前記排気装置の下流側に前記排気希釈ライン４８から前記不活性ガスを供給し前記残存ガス中の水素濃度を所定値以下に希釈する工程とを有することで安全な減圧水素アニール処理を実現する。 （もっと読む）

【課題】真空熱処理装置のシーリング用Ｏリングの劣化を防止する。
【解決手段】加熱容器（３）を排気ポンプへ結合し且つ真空処理チャンバ内に収容する接合チャンバの開口周囲フランジ（１３）と加熱容器（３）の開口周囲フランジ（１５）との接合面はＯリング（２１）でシーリングされる。接合チャンバの開口フランジ（１３）の開口縁にひさし状の突起部（２４）を設け、約１μ程の接合面の隙間から輻射熱が入りＯリングを加熱しないような構成によって、Ｏリングの劣化を防止している。 （もっと読む）

【課題】 フランジの熱変形による垂れを防止することが可能な加熱装置を提供すること。
【解決手段】筒状のシェル５０と、このシェル５０の内周に吊り下げ支持されると共に基板を加熱するヒーターと、このヒーターをシェル５０に支持する支持金具と、支持金具にヒーターを取り付ける碍子とを備える。この支持金具は固定部３４ｘを介してこのシェル５０の内周側にフランジ３４ｆを突出させるように固定される。フランジ３４ｆは、各支持金具間及び各碍子取付部３４ｂ間にスリット３４ａ，３４ｗを有しているので熱膨張長は吸収される。また、各碍子取付部３４ｂに固定部３４ｘを有しているので、過熱による熱変形は抑制される。 （もっと読む）

【課題】気化したフラックスが予備加熱ゾーンと本加熱ゾーンと冷却ゾーンに配置されたファンを回転させるためのモータ回転軸に付着して固化することを防止するため、気化したフラックスが固化する前の流動性を有する液化の状態で効率的、かつ、確実に回収する。
【解決手段】フラックス回収装置１０Ａを構成するドレン部２０は、モータベース１６のファンとの対向側であって、かつ、回転軸１４の周辺部に形成されている。ドレン部２０のファンとの対向面は、モータベース１６の平面位置からモータベース１６の背面側に設けられた排出口４６に向かって傾斜した傾斜面２０ａとなっている。ファンの回転駆動によりモータベース１６の中心部に集まってくるフラックスは、モータベース１６の中心部に形成されたドレン部２０に流入されて傾斜面２０ａに沿って流動され、ドレン部２０から排出口４６、ドレン管およびパイプ管４８を経由して回収用容器３４に収容される。 （もっと読む）

【課題】 発熱体の両側端を支持しながら熱変形を合理的に吸収し発熱体を安定させることの可能な電気ヒーター及び電気ヒーターを備えた炉を提供すること。
【解決手段】 スリットを形成することにより電流路を形成した板状の発熱体１０と、この発熱体１０を支持する支持体２０とを備える。スリットに沿う幅方向Ｗに位置する一対の幅方向端部１３，１３の中間に位置する電流路には貫通孔を設けてある。発熱体１０は、この貫通孔を貫通する支持体３０により少なくとも厚み方向Ｙ及び幅方向Ｗに対する移動を規制されて支持される。一対の幅方向端部１３，１３は端部貫通孔又はスリットを貫通する支持体４０により各々発熱体１０の厚み方向Ｙに対する移動が規制されると共に幅方向Ｗに対する移動が許容されている。 （もっと読む）

【課題】エネルギーロスを抑制しつつ、被処理物の上方における蒸発ガスの結露と被処理物への滴下の防止が実現できる熱処理装置を提供する。
【解決手段】被処理物１１が搬入口１３を通過直後に通る予備ゾーン２６内部の、被処理物１１の搬送路の下方に、ガス吸込口２７と、水冷管２９と、排水ユニット３０とを備え、予備ゾーン２６と炉外との差圧、および予備ゾーン２６と隣接する熱処理ゾーン１９との差圧がそれぞれ所定の条件を満たすようにガス吸込口２７の配置や個数、またガス吸込口２７から吸込むガス流量を設定し、蒸発ガスを含んだ炉内雰囲気を被処理物１１の搬送路の下方で蒸発ガスの露点温度以下まで冷却して結露させ、液体として炉外へ排出する。 （もっと読む）

【課題】導入したガスが領域間で混ざることを防止することが可能となる熱処理装置を提供する。
【解決手段】ワークＷの周囲の雰囲気が領域毎で異なるように炉内が複数の領域に区画され、区画された各領域を順にワークＷが進行し当該ワークＷを熱処理する熱処理装置である。区画された複数の前記領域それぞれに処理ガスを供給するガス導入部２と、区画された複数の前記領域それぞれの雰囲気ガスを排気する排気部３と、パージガス供給部７とを備えている。パージガス供給部７は、隣り合う領域間に設けられワークＷの上方から下方に向けてパージガスを噴出する噴出口１７ａ，１７ｂを有している。 （もっと読む）

【課題】均一に被処理物を加熱または冷却することが可能な装置を提供する。
【解決手段】本装置は被処理物を加熱または冷却する装置である。被処理物を収容する収容空間を画成する処理容器と、該収容空間の気体の温度を調温する調温手段と、を少なくとも備え、前記処理容器は、断熱性を有する外層と、熱伝導率が１００Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり該外層よりも内側に配設され前記収容空間の温度分布を均熱化する均熱層と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
スパッタリング装置のバッキングプレート等、冷却水の導入が必要な箇所におけるリークチェックの作業性を向上させた真空処理装置を提供する。
【解決手段】
カソードを構成する処理室隔壁に設けられた導入菅の開口部と、バッキングプレート内の導入菅を接続する場合、導入菅と空隙である中間層（大気）とを封止（シール）する第１のＯリングと、中間層（大気）と真空である処理室内を封止（シール）する第２のＯリングが配置され、第１のＯリングと第２のＯリングの間の空隙である中間層（大気）に、処理室外の大気と連通しているリークテストポートが設けられている。 （もっと読む）