【課題】エネルギーロスを抑制しつつ、被処理物の上方における蒸発ガスの結露と被処理物への滴下の防止が実現できる熱処理装置を提供する。
【解決手段】被処理物１１が搬入口１３を通過直後に通る予備ゾーン２６内部の、被処理物１１の搬送路の下方に、ガス吸込口２７と、水冷管２９と、排水ユニット３０とを備え、予備ゾーン２６と炉外との差圧、および予備ゾーン２６と隣接する熱処理ゾーン１９との差圧がそれぞれ所定の条件を満たすようにガス吸込口２７の配置や個数、またガス吸込口２７から吸込むガス流量を設定し、蒸発ガスを含んだ炉内雰囲気を被処理物１１の搬送路の下方で蒸発ガスの露点温度以下まで冷却して結露させ、液体として炉外へ排出する。 （もっと読む）

【課題】脱脂工程後の焼結工程時においても加熱室内の雰囲気の清浄性を確保することができ、また、加熱室自体の耐久性を向上させることができ、さらに、冷却工程時、材料を短時間で均一に冷却することができる一室型真空炉を提供する。
【解決手段】補助排気管４は炉体１と同軸上に加熱室２０内と連通して配置され、可動排気管４ａと固定排気管４ｂとからなる。固定配管４ｂの外径は可動排気管４ａの内径より小径で下部加熱室部２０ｂから加熱室２０内に挿通している。可動排気管４ａの外径は炉体１内に連通接続する主排気管５の内径より小径で固定排気管４ｂに外装され、上昇位置と下降位置との間を昇降自在に支持されている。主排気管５の内径は可動排気管４ａの外径より大径で可動排気管４ａに所定隙間をもって外装されている。可動排気管４ａの上昇位置において、可動排気管４ａの下端部が主排気管５内に、また、固定排気管４ｂの下端部が可動排気管４ａ内に遊嵌状態で位置する。 （もっと読む）

【課題】炉本体内の雰囲気改善を容易に図ることができる回転炉及び回転炉用流体供給装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係るロータリーキルン１によれば、キルン本体２の処理部２ｃへ導入される窒素ガスＧがＮ_２入口部１６から供給され、キルン本体２の外壁面２ａに沿って敷設されたＮ_２溜め配管１４に溜められる。このＮ_２溜め配管１４は、キルン本体２と共に回転するため、キルン本体２は支障なく回転することができる。そして、Ｎ_２溜め配管１４に溜められた窒素ガスＧは、Ｎ_２出口部３０を通じて処理部２ｃへ導入される。よって、キルン本体２内の任意の箇所に雰囲気改善のための窒素ガスＧを供給することができ、キルン本体２内の雰囲気改善を図り易くなる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成により、適宜的に、熱処理空間の内部の雰囲気を熱処理空間の外部に対して完全に独立させることが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】真空加熱炉１０は、真空容器１２、および真空容器１２に対して着脱可能な炉芯管３０を備える。真空容器１２は、炉芯管端部支持部２２、炉芯管導入部２５、挿通孔１９１を有する第１のマッフル蓋体１８２および第１の断熱材蓋体２０２、ならびに挿通孔１９３を有する第２のマッフル蓋体１８４および第２の断熱材蓋体を備える。第２のシール部３４は、炉芯管側フランジ部材３４８、真空用ベローズ３４２、およびガス流入出ユニット３５０を備え、炉芯管３０を真空容器１２に気密に接続可能にするように構成される。 （もっと読む）

【課題】煤煙の発生を抑制するだけでなく、陶磁器の焼き上がりに不具合を生じさせることのない登り窯や穴窯を提供する。
【解決手段】登り窯１の煙道１５ａ，１５ｂには、背が高く、幅も広く、中程に中間壁２１を備えた二次燃焼室２０を備えている。中間壁２１の上流側直前には、バーナー２２が設置される。バーナー２２は、燃料（ガス、灯油等）を停止して空気のみを吹き込むブロワーとして使用可能なものであって、それ自体が、二次燃焼室２０内に進入・後退可能に設置される。二次燃焼室２０の中間壁２１の上部にはロストル２３及び温度センサ２４が設置される。二次燃焼室の入口２５の近傍には仕切り壁２６が設置される。二次燃焼によって発生したガスは、仕切り壁２６に遮られると共に、送風機３０が煙突内に発生させる気流に引かれ、逆流することなく排出される。 （もっと読む）

【課題】被処理物を容器内で移動させながら、加熱，乾燥，焙煎，水蒸気加熱，水蒸気蒸留，水蒸気抽出等の各種の処理を、いわゆるバッチ処理方式によって行う際に好適に利用可能な、研究開発段階において使用するに好適な、回転型処理装置を提供すること。
【解決手段】被処理物の供給・取出し部を有し、被処理物を保持する回転可能な筒状体と、筒状体に収容され、筒状体の内壁に摺接する、３枚のブレードから構成される１つ以上のブレードブロックと、ブレードブロックを含む筒状体を外部から加熱する加熱手段と、ブレードブロックを含む筒状体内に、過熱水蒸気を供給する過熱水蒸気発生・供給手段とを備え、ブレードブロックを含む筒状体は、その回転軸に沿う一端部が回転駆動部に接続されており、他端部には被処理物の供給・取出しのための開閉可能な蓋部を有し、回転軸上の１点を中心として垂直面内で揺動可能であることを特徴とする回転型処理装置。 （もっと読む）

【課題】開放型（常圧型）の焼成炉において、被焼成物の上面と下面とを酸素濃度と窒素濃度を変えた異なる雰囲気ガスにて表面処理すること。
【解決手段】搬送装置４と、上下にそれぞれ内部を常圧に保つ上側処理室１２及び下側処理室１３を形成し、内部にそれぞれ異なる第１の雰囲気ガス及び第２の雰囲気ガスを充満させる炉本体６と、炉本体６に設けられたヒータ３と、セル７の表裏の表面に第１の雰囲気ガス或いは第２の雰囲気ガスを吹き付けることにより、セル７の表裏を異なる雰囲気ガスにて表面処理する上側ガス供給噴流ノズル８及び下側ガス供給噴流ノズル１０と、吹き付けた雰囲気ガスを炉本体６の外部に排出する上側ガス排気口９及び下側ガス排気口１１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】焼成炉でセラミック焼成を行う際、バインダー由来の有機性分解物が炉内ガスの露点測定手段に付着することのなく、かつ、高精度の露点の制御が可能な露点制御方法を提供する。
【解決手段】脱バイ工程では、焼成炉１内へ供給される炉内供給ガスをサンプリングして制御用露点計３による露点測定を行い、設定露点との誤差をフィードバック調整する露点制御を行い、焼結工程では、炉内ガスをサンプリングして制御用露点計３による露点測定を行い、設定露点との誤差をフィードバック調整する露点制御を行う。 （もっと読む）

【課題】溶融金属中の含有ガスの脱ガスと蒸気圧の高い金属成分の除去により製品不良を少なくするとともに、真空精錬装置内の処理ガスを再利用してコスト低減を図ることを課題とする。
【解決手段】溶融金属を収納する真空精錬装置１と、該真空精錬装置に接続され，真空精錬装置内を１気圧以下に保持しえる高真空ポンプ１０と、真空精錬装置内で溶融金属を攪拌する攪拌手段と、真空精錬装置内で生じる処理ガスを精製する精製器１１、精製器に接続するコンプレッサ付き粗引きポンプ１２と、真空精錬装置内にフラックス及び不活性ガスを導入するガス導入回転手段６を具備し、真空精錬装置１、高真空ポンプ１０、精製器１１及びコンプレッサ付き粗引きポンプ１２がループ状になるように順次接続されている。 （もっと読む）

【課題】真空容器中において被加熱物を加熱するのに要する時間を短くすることができる加熱装置および加熱方法を提供する。
【解決手段】真空容器３０と、第１のガス経路２１ａとを有する。真空容器３０は被加熱物１１を収納するためのものである。第１のガス経路２１ａは、加熱されたガスを被加熱物１１に直接吹き付けるための噴出部２２を有する。 （もっと読む）

【課題】連続焼成炉において、焼成により発生し、収容容器（１４）の内側に淀んで対流する反応生成ガスを、速やかに効率よく回収する。
【解決手段】収容容器（１４）の上方において、収容容器（１４）の搬送方向に対して略直角に伸長し、その中心軸の回りに回転可能に配置され、かつ、炉外と連通する、管状の回収元管（２２）と、回収元管（２２）から下方に向けて突出し、回収元管（２２）に連通して固定され、かつ、その先端が開口する管状の回収細管（２３）とからなるガス回収手段を備え、該ガス回収手段が、回収細管（２３）の先端が、収容容器（１４）の内側において、被焼成物（１３）の直上位置において開口するように配置されている、 （もっと読む）

【課題】基板等の被加熱物を熱風によって熱処理する熱処理装置を改良するものであり、開閉扉の開閉に伴う加熱室内の温度変動を抑制することができる熱処理装置の開発を課題とする。
【解決手段】熱処理室には排気ダクト３０が設けられており、当該排気ダクト３０の中途に送風機８が設けられており、基板を加熱する際に生じるガスを外部に排気するために、送風機８が常時運転されており、熱処理装置１内部の圧力が負圧傾向となるが、通気装置６１を設けることで熱処理装置１の内外における圧力差が殆どない状態にすることができる。即ち熱処理装置１では、内部の圧力を検知する圧力センサーを有し、当該圧力センサーの信号をアクチュエータ７３にフィードバックし、シート６６を上方向に移動させて通気装置６１の有効開度を調節し通気量を調整する。 （もっと読む）

【課題】被加熱体の加熱処理を省エネルギーで行うことが可能な加熱炉を提供することを目的とする。
【解決手段】被加熱体を加熱処理する加熱炉であって、炉壁によって囲まれる炉体と、前記炉体を囲む外壁と、前記炉体と前記外壁とに囲まれ、空気を保持する炉体抱囲空間と、前記炉体抱囲空間から空気を吸い込む空気吸込部と、前記空気吸込部によって吸い込まれた空気を加熱し、前記炉体の中の前記被加熱体に吹き掛けることによって、該被加熱体を加熱処理する加熱処理部と、前記加熱処理部によって前記被加熱体に吹き掛けた加熱処理済空気を、該加熱炉の外部へ排出する空気排出部と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】導入ガス流速を上昇させることなく小容量のブロワを用いて、効率的に被処理物の加熱を行うことができるガス加熱装置を提供する。
【解決手段】ガス加熱装置１は、円筒状の加熱容器１０と、加熱容器１０の上部側方または下部側方のいずれか一方に設けられるガス導入路２０と、他方に設けられるガス排出路３０によって構成されている。ガス導入路２０およびガス排出路３０は、加熱容器１０の外周接線方向に設けられ、かつ、給気方向と排気方向とが同じ回転方向になるように設けられている。 （もっと読む）

【課題】加熱乾燥処理工程以後、低露点雰囲気中に保持することが必要となる被熱処理物の加熱乾燥処理に好適な連続雰囲気炉であって、工程数を増やすことなく乾燥処理後のプラズマ処理も可能とし、さらに、炉内のクリーン度を保つ機能も備えた連続雰囲気炉の提供。
【解決手段】搬送機構９により被熱処理物を搬送しながら加熱乾燥処理を行う連続雰囲気炉１であって、乾燥炉２の前後に前室３及び後室４を設け、後室４には、乾燥炉２での乾燥処理後に後室に搬送された被熱処理物の表面を洗浄するプラズマ洗浄装置６と、乾燥炉２での乾燥処理後に後室に搬送された被熱処理物の吸湿を防止する露点管理手段５とを備え、前室３下部には、前記露点管理手段から供給される低露点の気体を連続雰囲気炉１外に排出する排出口１０を備え、前記露点管理手段５から供給された低露点の気体を、後室４から乾燥炉２を経て前室下部の排出口１０へ導く気体流路を有する。 （もっと読む）

【課題】バッチ式熱処理装置において、複数枚の基板を面内の温度が均一になるように同時に熱処理する。
【解決手段】本発明に係るバッチ式熱処理装置は、複数枚の基板１０に対して熱処理空間を提供するチャンバ１００と、複数枚の基板１０を搭載支持するボート１０８と、基板１０の積載方向に一定間隔で配置されかつ各々が複数の主ヒータ２００で構成されるような複数の主ヒータユニット１２０とを含み、基板１０が、複数の主ヒータユニット１２０の間に配置されるようにしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】板状のワークを正確な速度で移動させながら、特定の雰囲気中で加熱処理することができ、サイズアップが容易で、省エネルギー性に優れた加熱炉を提供する。
【解決手段】炉体１の入口側に搬送用フィルム５の払い出し用ロール３を、また炉体１の出口側に搬送用フィルム５の巻き取り用ロール４をそれぞれ配置し、搬送用フィルム５を炉体１の長手方向に移動させながらその上に置かれたワークＷを加熱する。この炉体１の内部には搬送用フィルム５の下面に向かってガスを噴出し、搬送用フィルム５を浮上させるガスチャンバ６を設置しておくことが好ましく、これによって摩擦抵抗のない状態で移動させることができる。さらに炉体の入口と出口にそれぞれ排気型雰囲気調整器１１，１２を設けておけば、外気の進入を確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】換装口の開閉に伴い熱処理に伴って発生した生成ガスや昇華物などの漏洩や、熱処理室内の温度分布のムラが発生しにくい熱処理装置の提供を目的とした。
【解決手段】熱処理装置１をなす熱処理室１３の正面１３ｂには、上下に４つの換装口１８ａ〜１８ｄが並べて設けられている。また、熱処理室１３の底面１３ａには、排気口２１が設けられており、これに排気装置１１が接続されている。排気装置１１は、熱処理室１３の底面１３ａ側の領域Ｘ１に設けられた換装口１８ａ，１８ｂが開状態になる期間よりも、上方の領域Ｘ２に設けられた換装口１８ｃ，１８ｄが開状態になる期間において出力が高められる。これにより、換装口１８ｃ，１８ｄが開状態になる場合も、領域Ｘ２の静圧が外気圧Ｐｏと同等あるいは外気圧Ｐｏ以下とされ、生成ガスを含む空気の漏洩が防止される。 （もっと読む）

【課題】昇華物が導出ダクト内で堆積することを抑制することができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置１Ａは、熱処理部２１内に被処理物Ｗが収容された状態で、熱処理部２１内の空気を循環させながら加熱することにより被処理物Ｗを熱処理するとともに、外気を加熱して熱処理部２１内に送り込みつつ熱処理部２１内の空気を導出ダクト５内に流出させることにより熱処理部２１内を換気するものである。前記導出ダクト５には、被処理物Ｗを熱処理する際に当該被処理物から発生する昇華物を分解可能な触媒６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】前後のゾーンへの温度干渉を防止しつつ理想的な急昇温が可能であり、またバインダーガスが最高温度ゾーンに流入することによる焼成品質の低下をも防止することができる急速昇温機能を有するローラハースキルンを提供する。
【解決手段】積層デバイス等の被焼成品を所定速度で移送する通常搬送領域12,13の途中に、被焼成品をこの所定速度よりも高速で搬送する高速搬送領域14を形成し、この高速搬送領域14の炉室内に、通常搬送領域の加熱源18よりも高出力の加熱源19を設ける。高速搬送領域14は脱バインダーゾーンと焼成ゾーンとの間の急速昇温ゾーンとすることが好ましい。 （もっと読む）