【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの描画が高速、高精度に、かつ近接効果補正が簡易に行え、基板全体で一定のドーズ量で描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に、電子ビームEBを基板10の半径方向または半径方向と直交する方向に微小往復振動させるとともに、その振動方向と直交する方向に偏向してエレメントの形状を塗りつぶすように走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部のエレメント描画では、前記偏向速度を疎配置部の同一エレメント描画での偏向速度より速く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行う。 （もっと読む）

【課題】
試料の欠陥を検査する装置において、装置が小型化できて省スペース，コストダウン，振動抑止と高速化，検査の信頼性が得られ、特に大口径化したウエハの場合に効果が大きい荷電ビーム検査装置を得る。
【解決手段】
少なくとも一つ以上の検査を荷電ビーム機構で行う複数の検査機構を具備し、各検査機構を概略一軸に配する共通の真空容器内に設けられた各検査機構間を一軸移動する一軸移動機構と、試料を載置し一軸移動機構上に回転軸を有した回転ステージと、試料を各検査機構間で一軸移動機構により移動させ、次に回転ステージで試料の検査位置を検査機構へ調整して合わせ、検査機構により試料の検査を行う。 （もっと読む）

【課題】基板が載置された基板トレイの変位を精度よく計測する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板トレイ４０の側面に、例えば鏡面加工を施すことにより平滑な反射面を形成する。これにより、光源６２からのレーザ光ＬＢ１ｘ，ＬＢ２ｘ，ＬＢ１ｙ，ＬＢ２ｙに対する高い反射率が確保され、精度よくＸＹ面内における基板トレイ４０の位置を計測することが可能となる。また、この計測結果を用いて、電子線を偏向させることにより、位置変動に起因する照射位置のずれ（変動）を抑制し、基板Ｗの表面に精度よくパターンを描画することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 簡便に試料小片の姿勢を９０度、１８０度、あるいは任意の角度だけ回転させて試料台に固定可能な装置を提供すること。
【解決手段】 試料７の表面とマニピュレータ回転軸２の交点を一端とする試料表面に垂直な線分をマニピュレータ回転軸２の周りに回転して得られる円錐側面と、試料表面の２つの面によってつくられる交線１１に、試料小片の特定の方向を一致させた後、試料小片をマニピュレータで支持し、マニピュレータ回転軸２を動作させることを特徴とする試料作成装置。 （もっと読む）

【課題】
公知のマニピュレーターの問題は、部品及び連結の数が膨大で、それらを極めて高精度に機械加工しなければならないことである。
【解決手段】
本発明によるマニピュレーターは：
ベースに据付ける少なくとも３個のナノアクチュエーター、ここで各ナノアクチュエーターは先端を有し、少なくとも３個の先端はＹ−Ｚ平面を定義し、各先端はベースに対してＹ−Ｚ平面において移動することができ；
ナノアクチュエーターの先端に接触するプラットフォーム；及び
プラットフォームをナノアクチュエーターの先端に対して押し付けるクランプ手段；
を更に含むことを特徴とし、結果としてナノアクチュエーターはプラットフォームをベースに対してＹ−Ｚ平面において回転させることができ、かつ、プラットフォームをＹ−Ｚ平面に平行に移動させることができる。 （もっと読む）

【課題】共通のイオンビームカラムを用いて試料の加工とダメージ層の除去とを迅速に実行することができるイオンビーム加工装置及び試料加工方法を提供する。
【解決手段】ガスイオン源１１から引き出されたイオンビーム１２を試料３１に導くイオンビーム光学系と、イオンビーム１２を通過させてイオンビーム１２の断面を成形する開口１５ａ〜１５ｃを有するマスク１５と、ガスイオン源１１に印加する加速電圧及びマスク１５の動作を制御するイオンビームカラム制御部１８とを備え、イオンビームカラム制御部１８は、マスク１５の開口１５ｂ，１５ｃに通して断面成形した高速加工用のイオンビーム１２を投射して試料３１又は試料片５０を加工する手順と、高速加工用のイオンビームに比較して加速電圧を下げ、加工後の試料３１又は試料片５０の観察面にイオンビーム１２を投射して観察面のダメージ層を除去する手順とを実行可能である。 （もっと読む）

【課題】試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを容易に確認できる技術を提供する。
【解決手段】鏡面の試料面を持った複数の試料を取り付けた複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーを、これら複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持つように回転させて、個々の試料取り付け窓をある配置場所に順次配置し、その配置場所にある試料取り付け窓を自転させて、その試料面を観察し、試料面が自転軸に直交する同一面上にあることを確認する。 （もっと読む）

【課題】試料の元素分析機構を、試料を観察する顕微鏡機構に搭載してなる複合的な元素分析装置において、試料を顕微鏡機構及び元素分析機構の双方に最適な位置及び角度に容易且つ性格に調整し、顕微鏡像と元素分析機構の３次元情報とを正確に対応させて、３次元再構築時のスケールや検出効率の不足を容易に補正し、高精度な元素分析を行う。
【解決手段】試料１１が設置される試料ホルダ３１にＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向への各平行移動と、Ｘ軸回り及びＹ軸回りの各回転移動とを行う機能（第１の移動部３５）を付加することに加えて、試料１１から離脱した元素を検出する位置敏感型検出器３に、電子顕微鏡機構における光軸と一致するＺ軸回りの回転移動を行う機能（第２の移動部２６）を付加する。 （もっと読む）

【課題】外部から真空チャンバ内に引き込まれた移動体に外力を作用させることなく、真空チャンバと移動体との間を気密する。
【解決手段】
ガイド部材５１の一側及び他側と、スライダ６０のバランスプレート６０ｂの一側と他側とに、伸縮可能で相互に外径の異なる第１ベローズ６１及び第２ベローズ６２の一側と他側をそれぞれ固定することで、ガイド部材５１の内部を第１ベローズ６１と第２ベローズ６２とに囲まれる空間Ｖ２、Ｖ３と、その他の空間Ｖ１の相互に気密された３つの空間Ｖ１〜Ｖ３に分割する。そして、空間Ｖ１の内部圧力を調圧ユニット８０によって調圧することで、中空シャフト５２Ａの位置に応じて作用する第１ベローズ６１と第２ベローズ６２の復元力の合力と、空間Ｖ１,Ｖ２相互間の差圧等によって移動体に作用する外力をキャンセルする。 （もっと読む）

【課題】精度よく非同期回転振れの量を算出する。
【解決手段】回転テーブル３１の回転角度毎の回転振れ量を変位データとして算出し、この変位データを順次メモリ５２ｅに記憶する。そして、メモリ５２ｅに順次記憶された変位データを値の大きさに基づいて並び替え、この並び替えられた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とする。変位データをその大きさに基づいて並び変えることにより、非同期回転振れ量を包含する変位データは、並び替えられた変位データのうち高順位、若しくは低順位となるため、並び替えた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とすることで、非同期回転振れの影響をほとんど受けていない基準値を算出することができる。そして、この基準値を用いることで、回転テーブル３１の非同期回転振れ量を精度よく算出することができる。 （もっと読む）

【課題】 十分なビーム強度が得られる多価イオン源を提供すると共に、その多価イオンビームを制御し、照射位置を制御して、効率よく精確に照射することができる多価イオンビーム照射方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 多価イオンを発生させる多価イオン源と、その多価イオン源から導出された多価イオンビームを試料に向けて誘導するビームガイドと、試料を保持する試料保持部とを少なくとも備える多価イオンビーム照射装置において、試料に対向するビームガイド端部と試料保持部とを、支持すると共に並進移動させて位置調整する基盤ステージと、試料保持部に対してビームガイド端部を相対的に、２次元で並進移動させて位置調整するＸＹステージと、試料保持部のみを独立に、ＸＹステージの移動方向と略垂直なＺ方向へ並進移動させて位置調整するＺ並進移動機構とを有する照射位置制御部を設ける。 （もっと読む）

【課題】 走査型電子顕微鏡を用いて試料の略全域を高分解能で観察することができる顕微鏡用試料ホルダ、及びそのような顕微鏡用試料ホルダを具備する電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 電子顕微鏡用試料ホルダ２０においては、走査型電子顕微鏡の試料台に本体部２１が取り付けられた状態で、グリッド２８によって支持された試料Ｓを透過し且つ絞り部材３１を通過した電子線が２次電子発生面３２に照射され、それにより、２次電子発生面３２から２次電子が発生させられる。このとき、試料Ｓによる散乱電子が絞り部材３１によって遮断されるため、高分解能で試料Ｓを観察することができる。また、本体部２１が試料台によって傾斜及び回転させられるため、試料Ｓの略全域を観察することができる。 （もっと読む）

【目的】本発明は、電子顕微鏡による観察状態にある試料の引張を行う引張装置に関し、試料室内で回転、傾斜、移動して、引張状態の試料上の任意の場所、角度などの画像を容易に撮影することを目的とする。
【構成】引張対象の試料を固定すると共に試料を引張する引張機構と、引張機構と直交あるいは平行に、引張機構に接続して電気駆動可能な駆動源とを配置して固定したベースを備え、電子顕微鏡の試料室の側面に設けた交換棒あるいは交換機構で、電子顕微鏡の試料室内に設けたＸＹ方向に移動可能なステージ上に固定されているベースを取り外して予備排気室に移動させたり、あるいは予備排気室内のベースを移動してステージ上に固定する。 （もっと読む）

【課題】フットプリントの大幅な増大を抑え、エッジ部分を含む高速・高分解能で、検査条件の確認を簡便に行える異物・欠陥検査・観察システムを提供する。
【解決手段】荷電粒子光学系による観察機能と、荷電粒子光学系および試料周辺を真空にするための排気機能と、稼動範囲が小さいｒθステージと、を設け、従来異物・欠陥検査装置に搭載されていた光学式の観察機能では判別できない観察対象物表面およびエッジ部の微細な異物・欠陥を、他の観察装置を介することなく、検出された欠陥の致命／非致命を判断するための高分解能観察機能を設けた。 （もっと読む）

【課題】試料の種類に関係なく、ステージを作動させる前に予め試料との干渉を予測して該干渉を未然に防ぐことができ、オペレータにかかる負担を極力軽減すること。
【解決手段】試料２に対して荷電粒子ビーム（ＦＩＢ／ＥＢ）を照射する照射機構と、荷電粒子ビームの照射によって発生した二次荷電粒子を検出する検出機構と、照射機構及び検出機構の三次元データをそれぞれステージ座標系Ｗに関連付けた状態で予め記憶する記憶部と、試料の三次元データをステージ座標系に変換する変換部と、試料の特定位置を測定ポイントに位置させる際に、変換部によって変換されたデータと記憶部に記憶されたデータとに基づいて、試料と照射機構と検出機構との位置関係をシミュレーションして、予め試料が干渉するか否かを判断すると共に判断結果を報知する判断部とを備えている荷電粒子ビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】試料ホルダ上での試料の姿勢を、元々試料が試料基板上で置かれていたときと同じ状態になるように制御する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置のチャンバ内において、試料基板上の試料を把持して試料ホルダまで運搬し、該試料を試料ホルダ上で固定する際の試料の姿勢を制御する。チャンバ内で試料基板上にある試料Ｗｂの表面にビームによってマーキングを施すマーキング工程と、試料把持手段７によって試料を把持し、試料基板から試料ホルダまで運搬する運搬工程と、試料を試料ホルダに固定するに際し、試料の表面に施されたマーキングＭａ，Ｍｂを観察しながら、試料の姿勢を制御する姿勢制御工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ピットの相対位置の精度を低下させることなくピットの絶対位置の精度を向上させることができる露光ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】回転体１３の所定の回転角ごとに検出される位相誤差から回転体１３の任意の回転数にわたる位相誤差の平均値が差し引かれる。こうして算出される非定常誤差は回転体１３の回転に非同期の誤差に相当する。非定常誤差に基づき偏向器２４の動作は制御される。露光ビームの偏向方向は微調整される。その結果、ピットの相対位置精度の低減は回避される。その一方で、前述の位相誤差の平均値に基づき第２定常誤差が算出される。第２定常誤差は、スケール誤差を除去した真の定常誤差に相当する。第２定常誤差に基づきブランカ２３の動作は制御される。回転体１３上に正確なタイミングで露光ビームが照射される。その結果、ピット形成領域の絶対位置の精度は向上する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、加工領域を変更する度毎に試料を試料ステージ機構に付け直す手間が不要のイオンミリング装置、及びイオンミリング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、試料に照射するイオンビームを発生させるイオン銃と、前記イオンビームによる照射加工が行なわれる前記試料を内置する試料室と、前記試料室の真空を保つために排気を行なう排気装置と、イオン生成のためのガスを注入するガス注入機構と、前記試料を設置して回動する試料ステージ機構を備えたイオンミリング装置において、前記試料ステージ機構は、前記試料を載せて回転する回転テーブルと、前記回転テーブルを駆動する回転機構と、前記回転テーブルの回転中心軸線と前記イオンビームの中心線との位置関係を偏心調整できる偏心機構と、前記試料ステージに設置した試料の中心線と前記回転テーブルの回転中心軸線との位置関係を偏心調整できる試料位置調整機構を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
試料となるウェーハを割ることなしにウェーハ断面を水平から垂直迄の方向からの断面
観察や分析を高分解能，高精度かつ高スループットで行える微小試料加工観察装置および
微小試料加工観察方法を実現することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と
電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し
、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 （もっと読む）

【課題】試料作製及び試料観察を効率よく行う。
【解決手段】イオン銃１１のイオンビーム照射口は試料表面に対向するように試料室５内部に設けられ、イオンビーム照射口から試料ホルダー４にセットされた試料表面に直接イオンビームを照射することができるので、大面積の薄片加工が可能となる。またイオン銃１１は希ガスのイオンビームを試料表面に照射するので、試料の材質を問わずに安定的にドライエッチングを行うことができる。 （もっと読む）