説明

試料の簡易水平確認方法

【課題】試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを容易に確認できる技術を提供する。
【解決手段】鏡面の試料面を持った複数の試料を取り付けた複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーを、これら複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持つように回転させて、個々の試料取り付け窓をある配置場所に順次配置し、その配置場所にある試料取り付け窓を自転させて、その試料面を観察し、試料面が自転軸に直交する同一面上にあることを確認する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、複数の試料の分析用試料面が同一水平面上にあることを確認する技術に関するものである。より具体的には、二次イオン質量分析法(SIMS:Secondary Ion Mass Spectrometry)に供する複数の試料の分析用試料面が同一水平面上にあることを確認する技術に関するものである。
【背景技術】
【0002】
SIMSは高感度な分析手法であり、微量元素の深さ方向分析に頻繁に使われている。
【0003】
SIMSでは、一次イオンの照射角度が、測定において二次イオン強度や深さ分解能に大きな影響を与える(非特許文献1〜3参照。)。一次イオンガンは固定されているため、ステージ(試料台)の角度を変えることで、分析されるべき試料面に対する一次イオンの入射角度、すなわち照射角度を変えることができる。このため、ステージ上の分析用試料面の空間配置は正確に把握されなければならない。
【0004】
試料は、通常、試料ホルダーに取り付け、この試料ホルダーをステージに固定することで配置される。ステージとホルダーとは機械的に精度よく作製することがそれほど困難ではない。しかしながら、試料ホルダーへの試料の取り付けに関しては、図1に模式的に示すように、試料取り付け窓1に試料3を置き、それをマスク4と呼ばれる押さえ板で押さえたり、図2に模式的に示すように、試料裏面5からバネ6で押して固定するといった簡単な方法が採用されているため、試料面の空間配置を正確に把握するには不十分である。特に、複数の試料を同一条件で分析するには、複数の試料の試料面に対し同一の空間配置を与えることが必要であるが、上記のような現状では、試料を試料ホルダーに取り付ける際の試料面の空間配置の差異をなくすのは困難である。
【非特許文献1】Y. Kataoka, K. Yamazaki, M. Shigeno, Y. Tada, K. Wittmaack,「超低エネルギーセシウム衝撃下におけるシリコンの表面粗化(Surface roughening of silicon under ultra-low-energy cesium bombardment)」,Applied Surface Science,2003年,第203-204巻,p.43-47
【非特許文献2】Y. Kataoka, M. Shigeno, Y. Tada, K. Wittmaack,「超低エネルギーCsイオンビームによる衝撃を受けたSi中のAsおよびSbマーカーの非常に大きな見かけ上のプロフィールシフト(Suprisingly large apparent profile shifts of As and Sb markers in Si bombarded with ultra-low-energy Cs ion beams)」, Applied Surface Science,2003年,第203-204巻,p.329-334
【非特許文献3】K. Wittmaack,「斜め方向の酸素による衝撃に曝されたシリコンの第二イオン収率と侵食速度とについての表面粗化の影響(Effect of surface roughening on secondary ion yields and erosion rates of sillicon subject to oblique oxygen bombardment)」,Journal of Vacuum Science Technology A,1990年,第8 (3) 巻,p.2246-2250
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、上記問題を解決し、複数の試料面について、同一の空間配置を容易に実現することのできる技術を提供することを目的としている。本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一態様によれば、複数の試料の試料面について、同一の空間配置を実現するための試料台であって、第一の回転軸部と、第二の回転軸部と、当該複数の試料を取り付けるための複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーとを有し、当該第一の回転軸部の回転軸と当該第二の回転軸部の回転軸とが平行であり、当該複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持って当該第一の回転軸部の回転軸の周りに回転し得るように、当該試料ホルダーが当該第一の回転軸部に対して構成されており、更に、個々の試料取り付け窓が、当該第二の回転軸部の回転軸の周りに自転し得るように、当該試料ホルダーが当該第二の回転軸部に対して構成されている、試料台が提供される。
【0007】
本発明態様により、試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを容易に確認できる。このため、この試料台を使用して試料面の空間配置を確認した複数の試料についてSIMSを行えば、複数の試料について一次イオンの照射角度を同一にでき、正確な分析が可能になる。
【0008】
前記試料取り付け窓が前記第一または第二の回転軸部の回転軸に一致する方向から見た場合に円形形状を示すと、ある自転軸に直交する同一面上にあることがより容易に確認でき、好ましい。
【0009】
前記試料台の具体的構成としては、構造が簡単で信頼性を高くすることが容易なことから、第一の軸受け部を備えた第一の基盤と第二の軸受け部を備えた第二の基盤とを備え、前記試料ホルダーが前記第一の回転軸部に固設されており、当該第一の軸受け部が前記第一の回転軸部を回転可能に支持し、当該第一の基盤が前記第二の回転軸部に固設されており、当該第二の軸受け部が前記第二の回転軸を回転可能に支持し、当該第二の基盤がゴニオヘッド上に載置されていることが好ましい。
【0010】
更に、操作の容易さの観点からは、前記試料取り付け窓に光を照射する照射源および、前記試料取り付け窓での試料面上に映った照射源の像を観察するための観察装置または撮像装置を有することが好ましい。また、前記照射源の光軸が、前記第二の回転軸部の回転軸と一致していることが好ましい。更に、ゴニオヘッド面が水平の場合に、前記第一または第二の回転軸部の回転軸に一致する方向が鉛直方向であることが好ましい。
【0011】
本発明の他の一態様によれば、鏡面の試料面を持った複数の試料を取り付けた複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーを、当該複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持つように回転させて、個々の試料取り付け窓をある配置場所に順次配置し、当該配置場所にある試料取り付け窓を自転させて、その試料面を観察し、当該試料面が当該自転軸に直交する同一面上にあることを確認する、試料面の空間配置確認方法が提供される。
【0012】
本発明態様により、試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを容易に確認できる方法が提供される。このため、この方法により試料面の空間配置を確認した複数の試料についてSIMSを行えば、複数の試料について一次イオンの照射角度を同一にでき、正確な分析が可能になる。
【0013】
操作の容易さの観点からは、前記試料取り付け窓に光を照射し、前記試料取り付け窓での試料面上に映った照射源の像を観察することにより、前記試料面の観察を行うことが好ましい。また、前記光の光軸が、前記自転の自転軸と一致していることが好ましい。
【0014】
本発明の他の態様によれば、上記の試料台を備えた二次イオン質量分析装置や、上記の配置確認方法で、試料面がある自転軸に直交する同一面上にあることを確認した複数の試料について二次イオン質量分析をおこなう、二次イオン質量分析法が提供される。
【発明の効果】
【0015】
本発明方法により、試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを容易に確認できる。このため、この方法により試料面の空間配置を確認した複数の試料についてSIMSを行えば、複数の試料について一次イオンの照射角度を同一にでき、正確な分析が可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0016】
以下に、本発明の実施の形態を図、実施例等を使用して説明する。なお、これらの図、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。なお、図中、同一の符号は同一の要素を表す。
【0017】
本発明に係る試料面は鏡面であることが、必須の条件であるとは言えないが、重要である。なお、本発明における鏡面の度合いは、目的に応じて当業者が任意的に定めることができる。
【0018】
本発明に係る試料面の空間配置確認方法では、鏡面である試料面を持った複数の試料を取り付けた複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーを、当該複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持つように回転させて、個々の試料取り付け窓をある配置場所に順次配置し、当該配置場所にある試料取り付け窓を自転させて、その試料面を観察し、当該試料面が当該自転軸に直交する同一面上にあることを確認する。前記同一の軌跡が作る面および前記自転軸に直交する面が水平面であると、試料面を水平面に合わせることが容易にできる。試料面が当該自転軸に直交する同一面上にない場合には、取り付け方法を、任意的に手動または機械的手段により修正した後、再度同様の観察を繰り返せばよい。
【0019】
この方法を採用すれば、試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを確認した複数の試料についてSIMSを行うことにより、複数の試料について一次イオンの照射角度を同一にでき、正確な分析が可能になる。
【0020】
試料面の観察は、試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを確認できる方法であればどのような方法によってもよいが、試料取り付け窓に光を照射し、試料取り付け窓での試料面上に映った照射源の像を観察することによりおこなうことが簡便で好ましい。この場合の光の種類には特に制限はないが、観察を目視で行う場合は可視光で行うことになる。「照射源の像の観察」には、どのようなものを含めてもよい。たとえば、試料面に映し出された照射源の像の形状が照射源の形状と合致しているか(例えば、照射源の形状が円形の場合に像の形状が楕円になっていないか)、試料面に映し出された照射源の像の位置が、試料面の中心にあるかどうか、試料面に映し出された照射源の像の位置が、試料を切り換えたときに同じであるかどうか等の観察が有用である。照射源の像の観察は目視による直接観察によらず、撮像装置を介した目視観察でもよい。更に、撮像装置を介しまたは介さずに、自動的または半自動的に照射源の像の形状や位置を判定し評価してもよい。
【0021】
照射源の光軸については、上記自転の自転軸と一致していること、言いかえれば、下記における第二の回転軸部の回転軸と一致しているのが実用的であり好ましいが、それ以外の方向を選んでも差し支えない場合もあり得る。
【0022】
複数の試料の試料面について、同一の空間配置を実現するための試料台としては、
第一の回転軸部と、第二の回転軸部と、当該複数の試料を取り付けるための複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーとを有し、
当該第一の回転軸部の回転軸と当該第二の回転軸部の回転軸とが平行であり、
当該複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持って当該第一の回転軸部の回転軸の周りに回転し得るように、当該試料ホルダーが当該第一の回転軸部に対して構成されており、
更に、個々の試料取り付け窓が、当該第二の回転軸部の回転軸の周りに自転し得るように、当該試料ホルダーが当該第二の回転軸部に対して構成されている、
試料台
を提供することができる。
【0023】
各部品について、その材質および、上記で規定されない形状等の属性には特に制限はない。
【0024】
本発明に係る試料台の一例を図3に示す。図3は試料台31と試料ホルダー32等を示したものである。試料ホルダー32には6個の試料取り付け窓1が設けられている。試料は測定面(試料面)2をホルダーの下側から当てて、試料裏面5をバネ6で固定する方式である(図3には、試料裏面5およびバネ6は描かれていない。図2を参照されたい)。
【0025】
この試料台31は、第一の回転軸部33、第一の軸受け部34を備えた第一の基盤35、第二の回転軸部36、第二の軸受け部37を備えた第二の基盤38とを備えている。試料ホルダー32は、第一の回転軸部33に固設されており、第一の軸受け部34が第一の回転軸部33を回転可能に支持し、第一の基盤35が第二の回転軸部36に固設されており、第二の軸受け部37が第二の回転軸36を回転可能に支持し、第二の基盤38がゴニオヘッド39上に載置されている。
【0026】
回転軸部33の回転軸X−Xは試料ホルダー32の中心を通っており、これにより、試料取り付け窓1が同一の軌跡を持って第一の回転軸部33の回転軸X−Xの周りに回転し得る。本発明における「同一の軌跡」とは、この場合のように、試料ホルダーを回転させた場合に複数の試料取り付け窓が同一の空間的位置に来ることを意味する。また、本発明における「配置場所」とは、上記のように試料ホルダーを回転させた場合に、その軌跡上にある場所であって、試料取り付け窓を自転させて試料面を観察するための場所を意味する。
【0027】
第二の回転軸部36の回転軸Y−Yは、試料ホルダー32に設けられた一つの試料取り付け窓1の中心を通っており、個々の試料取り付け窓が、図3の試料取り付け窓1(a)の位置にあるときには、第二の回転軸部36の回転軸Y−Yの周りに自転し得るようになる。なお、本例では、回転軸X−X,Y−Yは共に鉛直方向にあり、試料取り付け窓1は水平方向に配置されている。
【0028】
回転軸Y−Yの延長線上には円形の光源30が設置されており、鏡面の試料面2に円形光源を映し出すことができる。
【0029】
図3において、第二の回転軸部36を回転軸Y−Yの周りに回転させると、光源と同軸で設置したカメラ(図示せず)にて、試料について試料面に映った光源の位置を確認することができる。この場合に、たとえば、試料面における円形光源の像の中心位置が、取り付け窓1の中心と一致していれば、その試料は、その窓において水平に取り付けられていると考えることができる。もし、円形光源の像の中心が窓の中心からずれている場合には、試料は試料ホルダーと水平になっていないことになる。その場合には、取り付けをやり直す等任意的手段により補正を行えばよい。試料ホルダーを回転させて図3の試料取り付け窓1(a)の位置に来る試料を切り換えつつ、このような操作を繰り返すことで全ての試料の取り付け状態を確認できる。
【0030】
なお、上記では、試料面に映った光源の位置により試料面を観察し、試料面が、ある自転軸に直交する同一面上にあることを確認した。しかしながら、前述のごとく、試料面の観察はこれに限られるわけではない。例えば、試料面に映った光源の位置を試料取り付け窓1の中心以外の位置と一致させることにより上記確認を行ってもよい。また、試料面に映った光源の形状を観察してもよい。
【0031】
上記のように試料取り付け窓の中心を利用する場合には、前記試料取り付け窓が第一の回転軸部の回転軸に一致する方向から見た場合に円形形状を示すことが好ましい。第一の回転軸部の回転軸と第二の回転軸部の回転軸とは平行になっているので、第一の回転軸部の回転軸に一致する方向の代わりに第二の回転軸部の回転軸に一致する方向を選んでもよい。
【0032】
なお、図3では、試料面上に映った照射源の像を観察するための観察装置または撮像装置としてカメラを使用したが、それ以外の任意の観察装置または撮像装置を使用可能である。更に、観察装置や撮像装置を使用せず、直接または間接的に肉眼で観察してもよい。
【0033】
本発明に係る試料台自体は空間上どのように配置されていてもよいが、ゴニオヘッド面を水平にした場合に、第一または第二の回転軸部の回転軸に一致する方向が鉛直方向であることが実用的であり、好ましい。
【0034】
本発明に係る試料台を二次イオン質量分析装置と共に使用し、あるいは二次イオン質量分析装置の一部として使用すれば、複数の試料について一次イオンの照射角度を同一にでき、正確な分析が可能になる。
【0035】
本発明に係る試料台を二次イオン質量分析装置の一部として使用した例を図4に模式的に示す。この二次イオン質量分析装置40は、イオン銃41,42、中和銃43およびアナライザー44を持ち、イオン銃41,42による一次イオンの照射によって試料から生じた二次イオン強度をアナライザー44で分析する。
【0036】
試料は本発明に係る試料台31に取り付けられ、ゴニオヘッド39に載置される。ゴニオヘッド39の上方には光源30と同軸にカメラを置く。このようにして試料面に映った抗原の写真を図5に示す。図5で×印が円形の試料取り付け窓の中心であり、Y印が光源の像の中心である。同一材料からなる六つの試料について、手による取り付け作業で、図5の写真でY印が×印と合致するように調整した結果、再現性のよい分析結果が得られた。
【0037】
この例では、鏡面状試料の表面に当てる光源は円形で、試料取り付け窓の直上に観察用のカメラと同軸のものとしている。しかし、斜めから光源で照らしても試料表面に映る光源の形状が円形になるようアパーチャーを設ける、光源の形を変える等の方法を採用し、回転軸の延長上に設置したカメラで光源の位置を確認することも可能である。この場合でも、SIMSの分析チャンバー内で、光源やカメラがイオンガンやアナライザーの配置の邪魔をすることはない。
【0038】
なお、上記に開示した内容から、下記の付記に示した発明が導き出せる。
【0039】
(1) 複数の試料の試料面について、同一の空間配置を実現するための試料台であって、
第一の回転軸部と、第二の回転軸部と、当該複数の試料を取り付けるための複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーとを有し、
当該第一の回転軸部の回転軸と当該第二の回転軸部の回転軸とが平行であり、
当該複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持って当該第一の回転軸部の回転軸の周りに回転し得るように、当該試料ホルダーが当該第一の回転軸部に対して構成されており、
更に、個々の試料取り付け窓が、当該第二の回転軸部の回転軸の周りに自転し得るように、当該試料ホルダーが当該第二の回転軸部に対して構成されている、
試料台。
【0040】
(2) 前記試料取り付け窓が前記第一または第二の回転軸部の回転軸に一致する方向から見た場合に円形形状を示す、付記1に記載の試料台。
【0041】
(3) 前記試料台が、第一の軸受け部を備えた第一の基盤と第二の軸受け部を備えた第二の基盤とを備え、
前記試料ホルダーが前記第一の回転軸部に固設されており、
当該第一の軸受け部が前記第一の回転軸部を回転可能に支持し、
当該第一の基盤が前記第二の回転軸部に固設されており、
当該第二の軸受け部が前記第二の回転軸を回転可能に支持し、
当該第二の基盤がゴニオヘッド上に載置されている、
付記1または2に記載の試料台。
【0042】
(4) 更に、前記試料取り付け窓に光を照射する照射源および、前記試料取り付け窓での試料面上に映った照射源の像を観察するための観察装置または撮像装置を有する、付記1〜3のいずれかに記載の試料台。
【0043】
(5) 前記照射源の光軸が、前記第二の回転軸部の回転軸と一致している、付記4に記載の試料台。
【0044】
(6) ゴニオヘッド面が水平の場合に、前記第一または第二の回転軸部の回転軸に一致する方向が鉛直方向である、付記3〜5のいずれかに記載の試料台。
【0045】
(7) 付記1〜6のいずれかに記載の試料台を備えた二次イオン質量分析装置。
【0046】
(8) 鏡面の試料面を持った複数の試料を取り付けた複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーを、当該複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持つように回転させて、個々の試料取り付け窓をある配置場所に順次配置し、
当該配置場所にある試料取り付け窓を自転させて、その試料面を観察し、当該試料面が当該自転軸に直交する同一面上にあることを確認する、
試料面の空間配置確認方法。
【0047】
(9) 前記試料取り付け窓に光を照射し、前記試料取り付け窓での試料面上に映った照射源の像を観察することにより、前記試料面の観察を行う、付記8に記載の空間配置確認方法。
【0048】
(10) 前記光の光軸が、前記自転の自転軸と一致している、付記8または9に記載の空間配置確認方法。
【0049】
(11) 付記8〜10のいずれかに記載の配置確認方法で、試料面がある自転軸に直交する同一面上にあることを確認した複数の試料について二次イオン質量分析をおこなう、二次イオン質量分析法。
【図面の簡単な説明】
【0050】
【図1】試料の取り付け状態を示す模式図である。
【図2】試料の取り付け状態を示す他の模式図である。
【図3】本発明に係る試料台の一例を示す模式図である。
【図4】本発明に係る試料台を二次イオン質量分析装置の一部として使用した例を示す模式図である。
【図5】鏡面である試料面に映った光源の様子を示す写真である。
【符号の説明】
【0051】
1 試料取り付け窓
2 試料面
3 試料
4 マスク
5 試料裏面
6 バネ
30 光源
31 試料台
32 試料ホルダー
33 第一の回転軸部
34 第一の軸受け部
35 第一の基盤
36 第二の回転軸部
37 第二の軸受け部
38 第二の基盤
39 ゴニオヘッド
40 二次イオン質量分析装置
41,42 イオン銃
43 中和銃
44 アナライザー

【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の試料の試料面について、同一の空間配置を実現するための試料台であって、
第一の回転軸部と、第二の回転軸部と、当該複数の試料を取り付けるための複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーとを有し、
当該第一の回転軸部の回転軸と当該第二の回転軸部の回転軸とが平行であり、
当該複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持って当該第一の回転軸部の回転軸の周りに回転し得るように、当該試料ホルダーが当該第一の回転軸部に対して構成されており、
更に、個々の試料取り付け窓が、当該第二の回転軸部の回転軸の周りに自転し得るように、当該試料ホルダーが当該第二の回転軸部に対して構成されている、
試料台。
【請求項2】
前記試料取り付け窓が前記第一または第二の回転軸部の回転軸に一致する方向から見た場合に円形形状を示す、請求項1に記載の試料台。
【請求項3】
前記試料台が、第一の軸受け部を備えた第一の基盤と第二の軸受け部を備えた第二の基盤とを備え、
前記試料ホルダーが前記第一の回転軸部に固設されており、
当該第一の軸受け部が前記第一の回転軸部を回転可能に支持し、
当該第一の基盤が前記第二の回転軸部に固設されており、
当該第二の軸受け部が前記第二の回転軸を回転可能に支持し、
当該第二の基盤がゴニオヘッド上に載置されている、
請求項1または2に記載の試料台。
【請求項4】
更に、前記試料取り付け窓に光を照射する照射源および、前記試料取り付け窓での試料面上に映った照射源の像を観察するための観察装置または撮像装置を有する、請求項1〜3のいずれかに記載の試料台。
【請求項5】
請求項1〜4のいずれかに記載の試料台を備えた二次イオン質量分析装置。
【請求項6】
鏡面の試料面を持った複数の試料を取り付けた複数の試料取り付け窓を有する試料ホルダーを、当該複数の試料取り付け窓が同一の軌跡を持つように回転させて、個々の試料取り付け窓をある配置場所に順次配置し、
当該配置場所にある試料取り付け窓を自転させて、その試料面を観察し、当該試料面が当該自転軸に直交する同一面上にあることを確認する、
試料面の空間配置確認方法。
【請求項7】
前記試料取り付け窓に光を照射し、前記試料取り付け窓での試料面上に映った照射源の像を観察することにより、前記試料面の観察を行う、請求項6に記載の空間配置確認方法。
【請求項8】
請求項6または7に記載の配置確認方法で、試料面がある自転軸に直交する同一面上にあることを確認した複数の試料について二次イオン質量分析をおこなう、二次イオン質量分析法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2009−53168(P2009−53168A)
【公開日】平成21年3月12日(2009.3.12)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−222943(P2007−222943)
【出願日】平成19年8月29日(2007.8.29)
【出願人】(000005223)富士通株式会社 (25,993)
【Fターム(参考)】