【課題】エネルギー線照射システムにおいて、異なる寸法のワークに効率的にエネルギー線を照射できるコンパクトで低コストの搬送機構を実現する。
【解決手段】異なる寸法のワークＷ１、Ｗ２がそれぞれ搭載される第１、第２ワークホルダ３１ａ、３２ａと、各々のワークホルダを各々のワーク授受領域とエネルギー線照射領域ＡＲ１との間で進退移動させる進退機構３３と、互いに異なる位置に設けられた第１及び第２ワーク収容部２１ａ、２２ａと、第１のワーク授受領域にある第１ワークホルダ３１ａと第１ワーク収容部２１ａとの間でワークＷ１を搬送する第１搬送アームと、第２のワーク授受領域にある第２ワークホルダ３２ａと第２ワーク収容部２２ａとの間でワークを搬送する第２搬送アームとを設けた。 （もっと読む）

【課題】試料冷却温度とステージ停止位置精度を保ったまま、ステージ移動可能な範囲を広げることができる試料冷却装置を提供する。
【解決手段】真空に維持される試料室と、試料室内に配置される移動ステージと、移動ステージ上に熱的に遮断された状態で取り付けられた試料ホルダ固定台と、前記試料ホルダ固定台上に脱着可能に装着され、試料を保持するための試料ホルダと、移動ステージと周囲の試料室の側壁の間に設けられ、試料を冷却するための冷媒を収容する冷却槽と、前記冷却槽に収容された冷媒と前記試料ホルダ固定台との間で熱交換するための冷熱伝導体と、冷却槽に収容された冷媒を冷却する冷却装置とを備え、前記冷熱伝導体は、試料ホルダ固定台に固定された一端と、自由端である他端を有し、その自由端が冷却槽の開口部を介して冷媒内に浸漬され、前記移動ステージの移動と共に、自由端が冷媒に浸漬されつつ前記開口部内で移動されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
安価かつ簡素な装置構成にて、イオン源より発生するパーティクルの基板への混入が防止できるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】
本発明のイオン注入装置ＩＭは、イオンビーム引出し口１４を介して重力方向Ｇと交差する方向にイオンビーム２を引き出すイオン源１と、基板４が搭載される搬送トレイ７と、少なくとも１つの開口部６を有し、搬送トレイ７に取り付けられたマスク５と、搬送トレイ７をイオンビーム２と交差する方向に移動させることで、マスク５に形成された開口部６を通して基板の所定領域にイオンビーム２を照射させる駆動機構とを備えている。そして、重力方向Ｇに沿ってイオンビーム引出し口１４を見たときに、イオンビーム引出し口１４の下面を覆うとともに、基板４へのイオンビーム２の照射を妨げない防塵板１１を備えている。 （もっと読む）

【課題】高周波放電型のプラズマ発生装置において、ＰＦＧ電流の減少が少なく、長寿命化を図る。
【解決手段】
プラズマ生成容器内で高周波放電によってガスを電離させてプラズマを生成して、電子放出孔を通して当該プラズマより電子を外部に放出する装置であって、高周波を放射するアンテナと、アンテナ全体を覆う絶縁物から成るアンテナカバーとを備えており、プラズマ生成容器内は絶縁物で覆われており、電子放出孔のあるプラズマ電極材質は導電性材料であるプラズマ発生装置において、絶縁物で保持された導電性材料のイオンコレクターとその前面に導電性材料のシールド電極を備え、シールド電極とプラズマ電極は同電位に接続されており、ターゲットチャンバーを正側としプラズマ電極を負側に接続した引出電源を持っており、プラズマ電極を正側としイオンコレクターを負側に接続したイオンコレクター電源を持っていることを特徴とするプラズマ発生装置。 （もっと読む）

【課題】高周波放電型のプラズマ発生装置において、ＰＦＧ電流の減少が少なく、長寿命化を図る。
【解決手段】プラズマ生成容器内で高周波放電によってガスを電離させてプラズマを生成して、電子放出孔を通してプラズマよりの電子を外部に放出する装置であって、プラズマ生成容器内に設けられていて高周波を放射するアンテナとアンテナ全体を覆うものであって絶縁物から成るアンテナカバーとを備えており、前記電子放出孔のあるプラズマ電極材質が導電性材料であるプラズマ発生装置において、プラズマ電極の表面にプラズマによるスパッタリングによって絶縁物がプラズマ電極のプラズマ側に堆積することを防止し、導通を確保する筒状の枠体領域に枠体の内側または内側と外側に厚みの異なる突起部がある枠カバーをもっていることを特徴とするプラズマ発生装置。 （もっと読む）

【課題】配線で可動範囲が制限されたりすることなく試料又はマスクの位置をより柔軟に調整することができる荷電粒子線装置、試料移動装置、マスク位置調整機構、試料位置調整方法及びマスク位置調整方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の試料ステージ００８に対する試料の位置を調整する試料移動装置０４０であって、ＳＥＭ制御ユニット０１５からの指令に応じて出力指示信号を生成する赤外線ランプ制御ユニット０１４と、赤外線ランプ制御ユニット０１４からの出力指示信号に応じて赤外線信号を照射する赤外線ランプ０１０と、試料ステージ００８上に固定された試料台ホルダー００７と、試料台ホルダー００７に対し変位可能に取り付けた試料台１０２と、赤外線ランプ０１０からの赤外線信号を受光する赤外線センサー１０８と、赤外線センサー１０８で受光した赤外線信号に応じて試料台１０２を駆動するモーター１１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板上の分割帯を利用する装置であって、基板駆動に大掛かりな装置を必要とせず、しかもスループットを向上させることができるイオンビーム照射装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、互いに直列に接続された処理室１０ａ、１０ｂと、１枚以上の基板２をその分割帯８２に平行なｘ方向に沿って搬送する基板搬送装置と、各処理室１０ａ、１０ｂに、ｙ方向に長いリボン状のイオンビーム５４ａ、５４ｂをそれぞれ供給してそれらを各基板２のｙ方向の端部から分割帯８２にかけての領域に照射するイオンビーム供給装置５０ａ、５０ｂとを備えている。更に、イオンビーム５４ａの、分割帯８２に位置する端部を整形するビーム整形機構７０ａと、イオンビーム５４ｂの、分割帯８２に位置する端部を整形するビーム整形機構７０ｂとを備えている。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ発生装置を備えていても、その下流側に設けられたイオンビーム電流測定装置によるイオンビーム電流の測定に誤差が生じるのを抑制する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、プラズマ発生装置２４と、その下流側に設けられたイオンビーム電流測定装置３０とを備えている。イオンビーム電流測定装置３０は、ビーム電流検出器３２、第１抑制電極３４および第２抑制電極３６を備えている。更に、負の第１抑制電圧Ｖ₁ を第１抑制電極３４に印加する第１抑制電源４０と、正の第２抑制電圧Ｖ₂ を出力する第２抑制電源４２と、プラズマ発生装置２４がオンのときは、第２抑制電極３６を第２抑制電源４２に接続し、プラズマ発生装置２４がオフのときは、第２抑制電極３６を第２抑制電源４２から切り離して第１抑制電源４０に接続する切り換え器４４とを備えている。 （もっと読む）

【解決手段】 基板を取り外す前および取り外している間に、基板から蓄積電荷をより効率的に除去する静電クランプを開示する。現時点においては、注入処理後に基板から電荷を除去するべく用いられているメカニズムはリフトピンおよびグラウンドピンのみである。本開示は、グラウンドへの低抵抗経路が１以上追加されているクランプを説明する。このように追加されたコンジットによって、基板をクランプから取り外す前および取り外す間に、蓄積電荷を放散させる。基板１１４の裏面から十分に電荷を取り出すので、基板がクランプに張り付いてしまうという問題を抑制できる。この結果、基板の破損が減る。 （もっと読む）

【課題】 試料を有するカートリッジを受け取るように備えられたその場試料ホルダを用いた試料の交換、及び全体が取り外されるホルダを用いた試料の交換に適した荷電粒子光学系のより簡便な構成を提案する。
【解決手段】 たとえば電子顕微鏡のような荷電粒子光学系(100)は、操作用に多数の試料のうちの特別な1つを収容するための空間(104)を備えた真空チャンバ(102)を有する。当該荷電粒子光学系は、前記空間に対して出し入れできるように動かすことのできる部分(108)を備えた装着体(106)を有する。前記部分は、当該光学系外部から運ばれる試料キャリア(110)を第1ホルダ(112)へ取り付け、又は前記第1ホルダから前記キャリアを外して当該光学系内部から前記キャリアを取り外すように備えられている。前記キャリアは第1試料を収容する。当該光学系は、前記第1ホルダ又は上に第2試料がマウントされる第2ホルダを取り外し可能なように供するため、前記チャンバの壁内にインターフェースを有する。 （もっと読む）

【課題】ビームの照射によってウェーハと保持ピンとの間に温度差が生じるのを防ぐことのできるウェーハ保持具について、提供する。
【解決手段】イオン注入装置においてウェーハを保持する保持ピンを複数有するウェーハ保持具であって、該保持ピンは、ウェーハの端面と接してウェーハの動きを規制するヘッドと、該ヘッドから突出しウェーハが載置されるフランジとを有し、前記ヘッドは、ウェーハが載置される側とは異なる向きに延びる庇部を備える。 （もっと読む）

【課題】粒子ビーム装置と、この粒子ビーム装置に適用可能であり、試料を前処理するためのおよび／または試料を検査するための方法とを提供すること。
【解決手段】この課題は、夫々１つの試料を受け取るための２つの受け取り部材（６，７）を具備し、受け取り部材が支持部材（５）に着脱自在に設けられていてなる粒子ビーム装置（１）によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、たとえば電子顕微鏡又は集束イオンビーム装置のような荷電粒子装置内での光学顕微鏡スライド(10)の使用に関する。従来の顕微鏡スライドは電子顕微鏡内での使用に適していない。その理由は、従来の顕微鏡スライドは、電子顕微鏡内で観察される際に荷電粒子ビームが入射することで帯電するからである。
【解決手段】 しかしたとえばインジウムスズ酸化物(ITO)のような導電性層でコーティングされた顕微鏡スライドが存在する。前記顕微鏡スライドは通常、導電性層に電流を流すことによって、スライド上にマウントされた対象物を加熱するのに用いられる。これらの顕微鏡スライドは荷電粒子装置内で、導電性層を接地電位と接続して、入射荷電粒子の戻り路を生成することで、帯電を防止するのに有利に用いることができることが実験によって示されている。
本発明はさらに、光学顕微鏡(130)が備えられた荷電粒子装置にも関する。 （もっと読む）

【課題】イオンビーム加工装置では、イオンビームの異常状態を、試料に照射する電流でしか検知できなかったため、原因探索による補正ができず、安定な加工が実現できていなかった。
【解決手段】
第１、第２のブランカ１２８、１３４とファラデーカップ１３０、１３４を用い、第１、第２のブランカ１２８、１３４のオンオフを切り替えて、投射マスク１１５の上下２箇所でビーム電流をモニタする。これにより、投射マスク１１５の損傷を抑えながら、イオンビームの異常情報を取得し、異常原因の切り分け、異常の補正が可能となる。このため、イオンビームによる安定加工を実現することができ、イオンビーム加工装置を安定的に使用することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 微小試料を把持するための機構では角度ズレ、先端形状に起因する試料の姿勢変化がある。
【解決手段】 把持体１８をＦＩＢなどの荷電粒子ビームで加工を施すことにより、ビームに対して平行な把持面を形成することができ、また把持面に付着したダストも除去する。荷電粒子ビーム照射される装置内でＴＥＭ試料に代表される微小試料を荷電粒子ビームによるエッチングで切り出すことで作製して運搬するとき、試料は荷電粒子ビーム照射方向にエッチングされるので把持体１８の把持面１９を試料の断面加工と同じ方向で加工することができるので、試料と把持面１９とを平行な面に作製することができ、試料を把持したときの試料の姿勢変化を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＡＥＳによる断面加工試料の測定において、断面のエッチングによるクリーニング操作から断面の観察、測定操作までにかかる複雑なステージ操作工程や、さらにＣＭＡを搭載したＡＥＳにおける複数試料観察の際の角度微調節といった工程の削減を可能とする試料台の提供を目的とする。
【解決手段】試料台（１）に傾斜角度５０°〜６０°の傾斜面２面からなる傾斜部分（２）を設けることにより、エッチング後、試料ステージの反転操作を行なわずに観察、測定操作を可能とし、また、傾斜部分（２）に並列に試料（５）を固定できる構造により、観察断面の方向をそろえることを可能とすることで位置調整に要する操作を削減することが出来る。 （もっと読む）

【課題】 従来のイオン注入装置では、基板表面に滞留する正電荷を、中和装置を用いて中和し、良好なイオン注入を可能にしているが、これでは、コスト高を招く。
【解決手段】 所定の基板を保持する基板保持手段４と、基板保持手段で保持された基板に対し真空中でイオンビームを照射し、Ｘ、Ｙ方向に走査するイオン照射手段２１、２２とを備える。基板保持手段は、静電気によって基板を吸着する静電チャック用の電極４２ａ乃至４２ｄを設けた基板保持部４１ａを有し、この基板保持部に基板を吸着すると基板裏面に面接触する少なくとも１個のアース接地の導電性の板ばね６を設け、イオン照射手段によって、基板の外周から外側に延出した板ばね表面にイオンビームが照射されるように前記イオンビームの走査を行う。 （もっと読む）

【課題】真空状態の処理室にて試料を処理する真空装置において、試料の搬送時間の短縮とフットスペースの削減を図る。
【解決手段】真空装置１に、個別に真空引きすることが可能な上下に連なる上室１０及び下室２０を設け、さらにこれらの間を開閉するゲートバルブ４０と、試料Ｓを載置する試料台３１と、試料台３１を昇降させて２つの室１０、２０の一方から他方へと試料Ｓを搬送する昇降機構３２とを設ける。 （もっと読む）

【課題】試料の観察表面が変形したり、ダメージを受けたりせず、真空チャンバ内を排気する排気装置の負荷が増大しない顕微鏡用試料作成装置を提供することを課題とする。
【解決手段】真空チャンバ１内の試料５にイオンビームを照射するイオン銃（イオン照射手段）７と、真空チャンバ１内の試料５を観察可能な光学顕微鏡（観察手段）１１と、イオン銃７が試料５にイオンを照射できる第１の状態，光学顕微鏡１１が試料５を観察できる第２の状態を切り替える切り替え手段とを設ける。 （もっと読む）

基板のイオン注入用のメカニカルスキャナであって、該メカニカルスキャナは、該基板を保持するための可動プラットフォームを具備する六脚を備えており、該六脚は、所定の経路に沿ってイオンビームに対して該可動プラットフォームが横断されるようにする６つの自由度を有するように配列されている。 （もっと読む）