【課題】改善されたイオンビームにより基板を加工するための方法、及び基板を加工するためのイオンビーム装置を提供する。
【解決手段】本発明は、イオンビーム装置(1) のイオンビーム源(1.1) によって発生し、基板(2) を加工するために基板(2) の表面(2.1) を向いたイオンビーム(I) により基板(2) を加工するための方法に関する。イオンビーム(I) は、炭素含有材料から少なくとも部分的に形成されたオリフィス板(1.3) によって導かれる。本発明によれば、炭素と反応する遊離体(E) が、イオンビーム(I) によってオリフィス板(1.3) から放出された炭素が酸化するように方向性のある流れでオリフィス板(1.3) と基板(2) との間に導かれる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、蓋を容易に取付け取外すことができ、かつ、試料を空気にさらすことなく試料室内に導入することを可能にする試料ホルダーを提供する。
【解決手段】開口部を有し内部で試料３９を保持する試料台３７と、試料台３７の開口部を閉塞する蓋３６と、試料台３７に設けられた蓋押さえ３８と、蓋押さえ３８に設けられた第一の突合せ部と、前記第一の突合せ部との嵌合により、試料台３７に蓋３６を押し付け、蓋３６と試料台３７で囲まれた空間を密閉する蓋３６に設けられた第二の突合せ部と、備える試料ホルダー１００を提供する。 （もっと読む）

【課題】分析時におけるバックグラウンドノイズを大幅に低減することが可能な微小試料台を提供すること。
【解決手段】微小試料台１００は、半導体基板よりなる微小試料台基部１０の一面に成膜により一体化された微小試料搭載用薄膜２０を有する。微小試料台基部１０はＶ字形状の溝１１を有し、微小試料搭載用薄膜２０は溝１１の上面と溝１１の最深部との間に設けられた上端面２１を有する。Ｖ字形状の溝の両側面は（１１１）面である。微小試料台基部１０の上面１３と微小試料搭載用薄膜２０の上端面２１との間の部分が微小試料７０のガード部となる。 （もっと読む）

【課題】超高真空化が不要で、試料表面の破壊を引き起こすことなく、試料表面のコンタミを安定して防止できる電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー、およびそれを用いた試料加熱方法を提供する。
【解決手段】発熱体として、正温度計数(PTC)サーミスタを備えることを特徴とする、観察・分析中のカーボンコンタミネーションの成長と熱ドリフトの抑制能力に優れた、電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー。 （もっと読む）

【課題】
安価かつ簡素な装置構成にて、イオン源より発生するパーティクルの基板への混入が防止できるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】
本発明のイオン注入装置ＩＭは、イオンビーム引出し口１４を介して重力方向Ｇと交差する方向にイオンビーム２を引き出すイオン源１と、基板４が搭載される搬送トレイ７と、少なくとも１つの開口部６を有し、搬送トレイ７に取り付けられたマスク５と、搬送トレイ７をイオンビーム２と交差する方向に移動させることで、マスク５に形成された開口部６を通して基板の所定領域にイオンビーム２を照射させる駆動機構とを備えている。そして、重力方向Ｇに沿ってイオンビーム引出し口１４を見たときに、イオンビーム引出し口１４の下面を覆うとともに、基板４へのイオンビーム２の照射を妨げない防塵板１１を備えている。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム光学鏡筒のオゾン分子ガスによるクリーニングを効果的に行う。
【解決手段】電子銃１０２により発生された電子ビームを電子光学鏡筒内部を通過させ、電子ビームを整形してターゲット１０７に向けて照射する。オゾン供給手段１１４は、電子鏡筒内部にオゾン分子ガスを供給する。記電子鏡筒の電子ビーム通過経路の周辺面に付着する有機物付着量を電気的に計測する付着量計測手段を設ける。付着量計測手段で計測した有機物付着量に応じてオゾン供給手段によるオゾン分子ガスの供給量を制御する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハを確実に吸着保持する静電チャックを提供すること。
【解決手段】 ウェハを静電的に吸着保持する静電チャック１４１０は、基板１４０５、電極１４１２板及び絶縁層１４０４を重ねて成り、ウェハの印加電圧が０ボルトから所定電圧まで時間とともに増大又は減少されるのに連動する電圧を静電チャックの電極板に印加することにより、ウェハとチャックの間に吸引力を発生する。 （もっと読む）

【課題】 試料片を保持している試料支持体からの反射電子や散乱電子が試料片に当たり難くする試料保持方法を提供する。
【解決手段】 試料素材１に集束イオンビーム２を照射して試料片４を切り出す工程と、切り出された試料片４をマニピュレータの先端部に取付けられたプローブ５の先端部に付着させ、ピックアップする工程と、試料素材１に換えて電子顕微鏡用試料ホルダーにセットされる試料支持部材７を集束イオンビーム装置の試料載置台にセットする工程と、プローブ５の先端部に付着された試料片４が試料支持部材７から離れた空間部に位置して、プローブ５の一部が試料支持部材７に接触する様にプローブ５を移動させる工程と、その接触部でプローブ５の一部を試料支持部材７に付着させる工程と、及び、その接触部よりプローブ５の根元側の部分を切断する工程から成る。 （もっと読む）

【課題】高周波放電型のプラズマ発生装置において、ＰＦＧ電流の減少が少なく、長寿命化を図る。
【解決手段】プラズマ生成容器内で高周波放電によってガスを電離させてプラズマを生成して、電子放出孔を通してプラズマよりの電子を外部に放出する装置であって、プラズマ生成容器内に設けられていて高周波を放射するアンテナとアンテナ全体を覆うものであって絶縁物から成るアンテナカバーとを備えており、前記電子放出孔のあるプラズマ電極材質が導電性材料であるプラズマ発生装置において、プラズマ電極の表面にプラズマによるスパッタリングによって絶縁物がプラズマ電極のプラズマ側に堆積することを防止し、導通を確保する筒状の枠体領域に枠体の内側または内側と外側に厚みの異なる突起部がある枠カバーをもっていることを特徴とするプラズマ発生装置。 （もっと読む）

【課題】試料表面に異物が付着することを極力防止することができる電子線検査装置を提供する。
【解決手段】試料２００を配置したステージ１００が真空排気可能な真空チャンバ１１２の内部に設置されており、該試料２００の周囲を包囲する位置に集塵電極１２２が配置されている。集塵電極１２２には、試料２００に印加される電圧と同じ極性で絶対値が等しいかそれ以上の電圧が印加される。これにより、集塵電極１２２にパーティクル等の異物が付着するので、試料表面への異物付着を低減することができる。集塵電極を用いる代わりに、ステージを包含する真空チャンバの壁面に凹みを形成するか、又は、所定の電圧が印加されるメッシュ構造の金属製平板を壁面に敷設してもよい。また、中央に貫通孔１２４ａを有する隙間制御板１２４を試料２００及び集塵電極１２２の上方に間隙制御板１２４を配置することにより、異物付着をより低減することができる。 （もっと読む）

【課題】イオン注入時にクロスコンタミネーションを抑制することができる技術を提供する。
【解決手段】複数種類のイオンを照射可能なイオン照射手段と、半導体ウエハが設置される複数のステージと、各ステージをイオン照射手段に対して相対移動させる移動手段と、ステージ上に半導体ウエハを設置する搬送手段と、制御手段と、イオンの種類を制御手段に入力する入力手段を備えるイオン注入装置。制御手段は、入力手段からイオンの種類の入力を受ける入力ステップと、移動手段によって、入力されたイオンの種類に対応するステージをイオン照射手段の照射位置に移動させる移動ステップと、搬送手段によって、入力されたイオンの種類に対応するステージ上に、半導体ウエハを設置する設置ステップと、設置ステップ後に、イオン照射手段によって、入力された種類のイオンを照射する照射ステップを実行する。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム応用装置では，複数の電子ビーム検出器および電磁波発生手段をもつことにより性能向上が図れるが，空間的制約により同時に配置することが困難である。
【解決手段】
電子ビーム検出器（１０２，１０５）と電磁波発生手段（１０２，１０４，１０８，１０９）を両立した構成１００により，電子ビーム応用装置内部に多数の電子ビーム検出器及び電磁波発生手段を配置することができ，電磁波発生手段による試料表面の電位の制御やコンタミネーションの除去により，長期間安定した像観察が可能になる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料上に不純物を付着させることなく、試料を取り扱うことが可能な荷電粒子線装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】以上のような目的を達成するために、真空室内にて移動する移動部材の摺動部分に潤滑剤を塗布した走査型電子顕微鏡において、当該潤滑剤として、低分子成分が除去されたものを採用する。これによって、試料汚染を抑制することが可能となり、試料測定後のプロセスにおける不良発生の抑制が可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透過型電子顕微鏡グリッドの製造方法に関する。
【解決手段】本発明の透過型電子顕微鏡グリッドの製造方法は、少なくとも一つの第一スルーホールを有するキャリヤー、及び少なくとも一つの第二スルーホールを有する固定体を提供する第一ステップと、カーボンナノチューブ支持体を提供し、該カーボンナノチューブ支持体を前記第一スルーホールに被覆する第二ステップと、前記固定体及び前記キャリヤーを積層して、前記カーボンナノチューブ支持体を前記キャリヤーと前記固定体との間に固定する第三ステップと、を含む。また、本発明は、複数の透過型電子顕微鏡グリッドの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透過型電子顕微鏡グリッドに関する。
【解決手段】本発明の透過型電子顕微鏡グリッドは、キャリヤーと、カーボンナノチューブ支持体と、固定体と、を含む。前記キャリヤーが少なくとも一つの第一スルーホールを有し、前記固定体が少なくとも一つの第二スルーホールを有し、前記第一スルーホールと前記第二スルーホールとが対向して設置され、前記カーボンナノチューブ支持体が前記キャリヤーと前記固定体との間に設置され、前記第一スルーホールと前記第二スルーホールとの間に位置する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空排気時等の巻上げによって生ずるパーティクルの試料への付着を抑制する低汚染ローダ、及び低汚染ローダを備えた荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、枝分かれした粗引き配管を持つロードロック室を備えた低汚染ローダであって、当該複数の排気管に流入する気体の圧力を検出する複数の圧力センサと流量調節機構を備え、排気管内部の圧力が等しくなるように流量を調節しながら、前記ロードロック室の真空排気を行う低汚染ローダ、及び当該低汚染ローダを備えた荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ホトマスクの表裏面に押圧部材を押し当てることなく、ホトマスクの搬送及び測定，検査時に、当該ホトマスクの除電を行う試料保持装置の提案を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、真空試料室と、予備排気室との間で搬送され、ホトマスクを保持する試料保持装置であって、ホトマスクのパターンが形成された面を正面としたときに、ホトマスクの側面よりホトマスクを押圧する押圧機構を備え、押圧機構は、ホトマスクの側面に平行な回転軸を持つ回転部材を有し、回転部材は、回転軸と交差する２つの辺の間に形成される頂角部を有し、頂角部が前記ホトマスクの側部との接触部となるように構成した。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空室内の真空悪化及び導入ガスによる荷電粒子線装置の装置内部品へのダメージを抑えつつ、試料汚染を除去することのできる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】本発明は、荷電粒子源を有し、当該荷電粒子線から放出される荷電粒子線を試料に照射し、発生する二次荷電粒子を検出する荷電粒子線装置において、前記試料の前記荷電粒子線を照射する位置に試料上の汚染を除去するガスを噴射するノズルと、当該ノズルの噴射口の前記電子線照射位置からの距離を調整する調整機構及び／又は前記ガスのノズルからの噴射量を調整する調整機構を設けたことを特徴とする。また、試料の荷電粒子線を照射する位置に試料上の汚染を除去するガスを噴射するノズルと、当該ノズルの先端部の形状は、試料の荷電粒子線照射位置を覆い、且つ荷電粒子線を通過する開口部を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】検査装置内部の汚染に起因した、形状観察、寸法精度の観察分解能の低下を防止及び観察対象の汚染を抑制する。
【解決手段】検査装置内部の汚染をモニターする手段として、固体表面に汚染成分を吸着し、吸着した汚染成分を加熱ガス化して気体分析装置により検出する。
モニターした汚染量に応じて、検査装置内の清浄化を実施する。検査装置清浄化は、試料観察室に酸素の活性種を生成する手段を設け、観察室内部に残留している汚染を低減し、汚染影響による観察分解能の低下が少ない形状観察や寸法測定を可能とするとともに、観察対象の試料の汚染を防止する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、放出ガスの発生個所であると考えられる摺動部から放出される放出ガスを高効率、且つ簡単な構成で除去する真空排気方法及び真空排気装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、真空室内に移動装置を備えた真空装置において、前記移動装置の移動に伴って、摺動する摺動機構を備え、当該摺動機構の被摺動部を、活性金属材料を含むゲッタ面とし、摺動部を当該ゲッタ面を摩擦する摩擦部材とすることを特徴とする真空装置、及び移動機構の移動に伴って、活性金属材料表面を摩擦することで、ゲッタ面を新生する真空排気方法を提案する。 （もっと読む）