【課題】 アルミニウムイオンを含むイオンビームを発生させるイオン源において、部品点数の削減および構造の簡素化を可能にする。
【解決手段】 このイオン源は、フッ素を含むイオン化ガス８が導入されるプラズマ生成容器２と、この容器２内の一方側に設けられた熱陰極１２と、プラズマ生成容器２内の他方側に設けられていて、バイアス電源２４から当該容器２に対して負電圧Ｖ_B が印加されて電子を反射する対向反射電極２０と、プラズマ生成容器２内に、熱陰極１２と対向反射電極２０とを結ぶ線に沿う磁界２８を発生させる磁石３０とを備えている。対向反射電極２０はアルミニウム含有物質から成る。 （もっと読む）

【課題】絶縁不良が生じにくく、メンテナンスの頻度を低減することのできるイオン発生装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかるイオン発生装置１００は、カソード孔１２、リペラ孔１４、ガス入口１６、およびイオン取出口１８を備えたアークチャンバ１０と、フィラメント２２およびサーマルブレイク２４を備え、カソード孔１２を介してアークチャンバ１０内に突出して設けられたカソード２０と、支柱３２および支柱３２の先端に設けられた反射板３４を備え、リペラ孔１４を介してアークチャンバ１０内に突出して設けられたリペラ３０と、を有し、サーマルブレイク２４および反射板３４は、アークチャンバ１０内で互いに対向しており、アークチャンバ１０は、カソード２０およびリペラ３０と電気的に絶縁されており、平面視において、リペラ孔１２は、反射板３４の輪郭の内側に形成される。 （もっと読む）

【課題】 同軸構造の熱陰極の内部導体の温度上昇を抑制して、内部導体の寿命ひいては熱陰極の寿命を長くする。
【解決手段】 この熱陰極１０は、中空の外部導体２と、その内側に同軸状に配置されている中空の内部導体１と、両導体１、２の先端部を電気的に接続する接続導体３とを備えている。加熱電流Ｉ_H は、接続導体３を通して折り返されて、外部導体２と内部導体１とで互いに逆向きに流される。 （もっと読む）

イオンソースチャンバのクリーニング工程において、イオンソースチャンバの外部に位置する電極は抑制プラグを備える。ソースチャンバにクリーニングガスを導入する場合、抑制プラグがソースチャンバの引出し用アパーチャと係合してチャンバ内のガス圧を調整し、プラズマ助長化学反応によるチャンバクリーニング効果を高める。ソースチャンバアパーチャと抑制プラグとの間のガスの導入量は、最適なクリーニング条件を提供し、望ましくない堆積物を排出するように、クリーニング工程の間調整することができる。 （もっと読む）

マルチモードイオン源を提供する技術を開示する。本発明のある例示的態様においては、例えば、第１モードがアーク放電モードであり、第２モードがＲＦモードであるという複数モードで動作するイオン源を含むイオン注入装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】従来の供給材料種とクラスター供給材料をイオン化するためのマルチモードイオン源、およびアーク放電モードと非アーク放電モードで使用できるマルチモードイオン源を提供する。
【解決手段】第１と第２のイオン化チャンバ（イオン化容積）１１０、１２０をタンデム式に配置する。チャンバ１１０は従来の供給材料種に用い、アーク放電モードで使用するように構成される。チャンバ１２０はクラスター供給材料に用い、直接電子衝突モードのような非アーク放電モードで使用するように構成される。チャンバ１１０では、入口ポート１１５からガスまたは蒸気が供給され、間接加熱カソード１４０とチャンバとの間にアーク電圧が印加されアークプラズマが形成される。チャンバ１２０では、入口ポート１２５から分子供給材料のガスまたは蒸気が供給され、電子銃２００から打ち込まれた電子によってイオン化される。イオンビームは軸１３０に沿って引き出される。 （もっと読む）

【課題】イオンドーピング装置において、一番切れやすいフィラメントを切れ難くすることにより、全体のフィラメントの寿命を延ばすことを目的とする。
【解決手段】材料ガスが供給されるチャンバ１と該チャンバ１に設けられた複数のフィラメント６を有するイオンドーピング装置において、前記フィラメント６の内、切れやすい位置のフィラメント６の直径を他の位置のフィラメント６の直径と異ならせた。 （もっと読む）

イオン流またはイオンビームを生成するために用いられるイオン源を含むイオン注入機システムに関する。イオン源は、イオン源チャンバハウジングを有している。イオン源チャンバハウジングは、イオン源チャンバハウジングの内部に高濃度のイオンを生成する電離領域の境界を少なくとも部分的に形成している。所望の特性のイオン引出し開口部（３４０，３４２）が、アークチャンバの電離領域を覆っている。一実施形態では、移動可能なイオン引出し開口プレート（３１０）が、このハウジングに対して移動され、イオンビームプロファイルを変更する。一実施形態は、少なくとも細長い開口部（３４０，３４２）を備える開口プレートを含み、異なるイオンビームプロファイルを規定する、少なくとも第１の位置と第２の位置との間を移動する。開口プレートに連結された駆動部またはアクチュエータが、開口プレートを、第１の位置と第２の位置との間において移動させる。他の一実施形態は、調節可能な開口部の境界を形成する、移動する２つのプレート区域を有している。
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【課題】プラズマ生成容器に複数の被加熱体が設けられるイオン源において、安定した熱電子の放出が可能であり、被加熱体を交換するまでのイオン源の運用時間を長くする。
【解決手段】イオン源は、ガスが供給されてプラズマを生成する、導体面を有する内部空間を備えたプラズマ容器と、このプラズマ容器と電気絶縁され、内部空間の内壁面から突出し、通電することにより前記内部空間に熱電子を放出する一対の熱電子放出素子と、 一対の熱電子放出素子のそれぞれに電流を流す電源と、を有する。プラズマ容器内のプラズマに曝される内壁面の材料と、一対の熱電子放出素子の、プラズマに曝され、熱電子を放出する部分の材料が、同じ金属を主成分とする材料で構成される。 （もっと読む）

【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極に印加する電圧について、イオンビームの偏差角度および発散角度の両方を小さくするのに適した電圧を、短時間でかつ容易に決定することができる方法を提供する。
【解決手段】 第１〜第３電極１１〜１３に印加する電圧をＶ₁ 〜Ｖ₃ 、Ｖ₁ −Ｖ₂ を差電圧Ｖ₁₂、Ｖ₂ −Ｖ₃ を差電圧Ｖ₂₃とすると、電圧Ｖ₁ を所要の電圧に設定する。差電圧Ｖ₁₂を変化させて、イオン源２から引き出されるイオンビーム２０のビーム電流を測定して、そのピーク値およびその時の差電圧Ｖ₁₂を求める動作を、差電圧Ｖ₂₃を所定の範囲内で所定の電圧刻みで変えて行う。上記ピーク値の比較を行って、ピーク値が最大となる時の差電圧Ｖ₁₂を求めてそれをＶ_12P とする。０＜Ｖ₁₂≦Ｖ_12P を満たす範囲内で、電圧Ｖ₁ は変えずに、電圧Ｖ₂ と電圧Ｖ₃ の組み合わせを変化させて、イオンビーム２０の偏差角度を測定する。そして、偏差角度が最小となる電圧Ｖ₂ と電圧Ｖ₃ の組み合わせを決定する。 （もっと読む）

【課題】オフされているグリッドからのビームの漏洩を抑制し、更にニュートラライザが良好な中和効果を有する荷電粒子照射装置、これを用いた周波数調整装置及び荷電粒子制御方法を提供する。
【解決手段】イオンガン１１は、ガス導入部１１４よりＡｒガスを本体１１１内に導入し、フィラメント１１３とアノード１１２との間で直流熱陰極放電をおこし、Ａｒのプラズマを生成する。次に、２つ分割された構成を有する、分割加速グリッド１１６ａ、１１６ｂに、イオンを射出する方向に電圧勾配を与えて、イオンを射出させる。イオンビームをオフする側の分割加速グリッドに正電圧を印加し、更に減速グリッド１１７に負電圧を印加する。これにより、停止している側のグリッドからのイオンビームの漏洩を抑制し、更にニュートラライザの中和効果を良好とすることができる。 （もっと読む）

内壁が設けられるとともにイオン化されるガスを含むように構成されたイオン化チャンバ（３）と、イオン化チャンバ（３）内に配置されたフィラメント（１３）と、フィラメントへの電圧印加用の電源（１９）とを含むフィラメント放電イオン源（１）であって、フィラメント（１３）は実質的に互いに平行に配置されるとともに内壁を介して電源（１９）に接続され、少なくとも１つの第１のフィラメントが第１の内壁を介して電源に接続されるとともに少なくとも１つの第２のフィラメントが第１の内壁と対向する第２の内壁を介して電源に接続される、イオン源である。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ生成容器内のＹ方向におけるプラズマ密度分布の制御が容易であり、しかもプラズマ生成容器内に発生させる磁界によってイオンビームの軌道が曲げられるのを防止することができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源１０は、Ｙ方向に長いリボン状イオンビーム２をＺ方向に引き出すものであり、プラズマ生成容器１２と、プラズマ生成容器１２のＺ方向端付近に設けられていてＹ方向に伸びたイオン引出し口２６を有するプラズマ電極２４と、プラズマ生成容器１２内へ電子を放出してプラズマ２２を生成するためのものであってＹ方向に沿って複数段に配置された複数の陰極４０と、プラズマ生成容器１２内に、しかも複数の陰極４０を含む領域に、Ｚ方向に沿う磁界５６を発生させる磁気コイル５０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】イオン照射対象物品のイオン照射対象部分に全体的に均一に、効率よくイオン照射処理を施すことができる寿命の長いイオン照射装置を提供する。
【解決手段】電子源20A を物品Ｗのイオン照射対象部分の全体に臨むように設け、電子源20A におけるフィラメント2a、2a’、2a”は、電子源20A の全体にわたり不連続に複数段に分散並列配置する。フィラメントは、互いに逆向きの電流が流れるように平行又は略平行に接近する対部分をフィラメントの各端部寄りに含むように屈曲配置し、或いは、少なくとも一組の互いに隣り合うフィラメントについて、互いに逆向きの電流が流れるように相互に平行又は略平行に接近して対向する部分からなる対部分をフィラメントの両端部寄りに含ませる。かかる電子源から放出させた電子をチャンバ１内へ導入したガスに衝突させてプラズマを生成し、該プラズマ中のイオンを物品Ｗに照射する。 （もっと読む）

所望のフィラメントの成長、あるいはフィラメントのエッチングを行うために、アークチャンバ内の適切な温度制御によってアークチャンバのイオン源内にある前記フィラメントの成長／エッチングを可能にする反応性洗浄試薬を利用する、イオン注入システムまたはその構成要素の洗浄。また、イオン注入装置の領域または注入装置の構成要素を洗浄するために、インサイチュまたはエクスサイチュ洗浄構成で、周囲温度、高温、またはプラズマ条件下で、ＸｅＦｘ、ＷＦｘ、ＡｓＦｘ、ＰＦｘ、およびＴａＦｘ（ここで、ｘは、化学量論的に適切な値または値の範囲を有する）などの反応性ガスを使用することが記載される。特定の反応性洗浄剤のうち、ＢｒＦ_３が、インサイチュまたはエクスサイチュ洗浄構成で、イオン注入システムまたはその構成要素を洗浄するのに有用と記載される。また、フォアラインからイオン化関連堆積物の少なくとも一部を除去するために、イオン注入システムのフォアラインを洗浄する方法であって、前記フォアラインを洗浄ガスと接触させるステップを含み、前記洗浄ガスが前記堆積物との化学的反応性を有する方法が記載される。また、カソードをガス混合物と接触させるステップを含む、イオン注入システムの性能を改善し、寿命を延ばす方法が記載される。
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【課題】高温でもクランプ力の低下が少なく、クランプ力の再生も容易で、フィラメントの保持や位置調整の作業性が良いフィラメント保持構造を提供する。
【解決手段】フィラメント保持構造は、溝を挟んで板厚方向に二つに分かれている部分の両方の相対応する位置に、フィラメント５０を通すフィラメント穴９６、支点部材１１０を通す支点部材穴９８を有しているフィラメント導体９０と、それの溝内に位置している部分１０２に、フィラメントを通すフィラメント穴、支点部材を通す支点部材穴を有しているフィラメントクランパー１００と、上記穴に通された支点部材と、ボルト１１２及びナット１１４とを備える。フィラメント導体９０及びフィラメントクランパーのフィラメント穴にフィラメントを通し、ボルト及びナットでフィラメントクランパーを締め付けて、フィラメントにせん断方向に力を加えてフィラメント導体９０に保持する。 （もっと読む）

【課題】 組立てが容易であり、カソードの加熱効率を高めることができ、振動が加わってもカソードの少なくとも下方への位置ずれや脱落を防止することができ、かつねじ加工を使わずに済み、構造が簡単なカソード保持構造を提供する。
【解決手段】 このカソード保持構造は、熱電子を放出させるための前部２２、その背後の後部２４およびその側壁の周囲に形成された溝２６を有しているカソード２０と、筒状のものであってその先端部付近内にカソード２０の後部２４が通る貫通穴３４を有する棚部３２を備えているカソードホルダー３０と、平面形状がＣ形、断面形状が円形をしているロックワイヤ４０とを備えていて、カソード２０の後部２４を貫通穴３４に挿通し、溝２６にロックワイヤ４０を嵌めて、ロックワイヤ４０でカソード２０をカソードホルダー３０の棚部３２に係止している。 （もっと読む）

【課題】組み立ての際、及び運転時におけるフィラメント１０１及びカソード１０２のギャップの調節を容易にすることである。
【解決手段】フィラメント１０１によってカソード１０２を加熱し、当該カソード１０２から熱電子を放出して、原料ガスをプラズマ化することによりイオンを発生するイオン源１００であって、前記カソード１０２が固定されるイオン源本体２と、前記フィラメント１０１を保持するとともに、前記イオン源本体２に設けられるフィラメント保持体３と、前記フィラメント保持体３及び前記イオン源本体２の間に介在して設けられ、前記カソード１０２及び前記フィラメント１０１の距離を組み立て後に調節可能にする調節する調節機構４と、を備えている。 （もっと読む）

イオンソース１００は、プラズマ生成部１０４と、第１ガスを受け取る第１ガス注入口１２２とを有する第１プラズマ室１０２であって、プラズマ生成部１０４および当該第１ガスが協働して上記第１プラズマ室１０４内に第１プラズマを生成し、上記第１プラズマ室１０２が、上記第１プラズマから電子を取り出す開口部１１４をさらに規定した第１プラズマ室１０２、および、第２ガスを受け取る第２ガス注入口１２４を有する第２プラズマ室１１６であって、第２プラズマ室１１６が、第１プラズマ室１０２の開口部１１４と合う位置に開口部１１７を規定し、当該開口部から取り出された電子を受け取り、電子および第２ガスが協働して第２プラズマ室１１６内に第２プラズマを生成し、第２プラズマ室１１６が、第２プラズマから各イオンを取り出す取り出し開口部１２０をさらに規定した第２プラズマ室１１６を有する。
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【課題】 プラズマ生成容器内のＹ方向におけるプラズマ密度を部分的に制御可能にして、リボン状イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くすることや、所定の不均一な分布を実現可能にしたイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源１０ｂは、Ｙ方向の寸法がＸ方向の寸法よりも大きいリボン状のイオンビーム２を発生させる。このイオン源１０ｂは、Ｙ方向に伸びたイオン引出し口１４を有するプラズマ生成容器１２と、プラズマ生成容器１２内のＸ方向の一方側にＹ方向に沿って複数段に配置された複数の陰極２０と、プラズマ生成容器１２内のＸ方向の他方側に陰極２０に対向させて配置された反射電極３２と、プラズマ生成容器１２内に、しかも複数の陰極２０を含む領域に、Ｘ方向に沿う磁界５０を発生させる電磁石４０とを備えている。 （もっと読む）