【課題】冷却効率が高く、かつ耐食性に優れる長寿命のイオン源用電極を提供する。
【解決手段】イオンビームを引出すための複数のビーム孔23が形成され、少なくとも一方が連続する溝2,2A,2Bを有する耐熱性の金属材料からなる１対の耐熱電極板1,1A,1B,3,3A,3Bと、１対の耐熱電極板の間に挟まれ、かつ溝の周壁を被覆するように、耐熱電極板の各々に密着接合され、耐食性の金属材料からなるバリア材4,4A,4B,5,5A,5Bと、ビーム孔の近傍に配置され、溝の周壁を被覆するバリア材によって周囲を規定され、耐熱電極板を冷却するための冷媒が通流し、少なくとも一部が前記溝2,2A,2Bのなかに入り込むように配置された冷媒流路22,22A,22Bと、を有する。 （もっと読む）

【課題】放電の開始（点火）を容易にする宇宙機用ホローカソードを提供すること。
【解決手段】キーパ電極板６に対面する先端部が、ナノカーボンの微小突起群構造、微細加工技術による微細突起（群）構造、電気伝導体と電気絶縁体が交互に隣接した複合部材、あるいは放電等の作用により自発的にナノカーボン構造が形成・維持されるカーボン系材料または熱電子放出特性に優れたカーボン系材料で構成された部材を放電開始促進板Ａ〜Ｅ３１,３２,３３,３４,３５としてオリフィス板４の下流側に取り付ける。
または、オリフィス板４自体を、キーパ電極板６に対面する先端部が上記微細突起（群）構造、電気伝導体と電気絶縁体が交互に隣接した上記複合部材、あるいは放電等の作用により自発的にナノカーボン構造が形成されるカーボン系材料または熱電子放出特性に優れたカーボン系材料によって成形する。 （もっと読む）

【課題】 タンタル製のフィラメントを有しており、しかも当該フィラメントの加熱時の自重による変形が少ないプラズマ源およびそれを備えるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源を構成するプラズマ源２は、プラズマ生成容器４と、その内部に配置された複数のフィラメント１０とを有している。そして各フィラメント１０をタンタル製とし、かつ各フィラメント１０を沿直下向きに（即ち重力Ｇ方向に向けて）配置している。 （もっと読む）

【課題】絞りを用いずに、イオンビームの強度を従来より広い範囲で可変にできるイオン源及びイオン照射方法を提供する。
【解決手段】
イオン源１０ａは、第一、第二のプラズマ室１１ａ、１２ａを有している。第一のプラズマ室１１ａ内と第二のプラズマ室１２ａ内は接続孔１３ａで接続されている。第二のプラズマ室１２ａ内のイオンは引出電極２０ａによりイオン引出孔１４ａを通して外部に引き出され、イオンビームとして放出される。第二のプラズマ室１２ａ内で生成する場合と同程度の量のプラズマを、第一のプラズマ室１１ａ内で生成した場合には、プラズマ中のイオンは接続孔１３ａを通って第二のプラズマ室１２ａ内に移動するので、第二のプラズマ室１２ａ内のイオンの密度は第二のプラズマ室１２ａ内で生成する場合よりも小さくなり、従って、第二のプラズマ室１２ａ内で生成する場合よりもイオンビームの強度は小さくなる。 （もっと読む）

【課題】新規なソース材料（特に、イオン注入プロセスにおいて新規なデカボランならびに水素化物およびダイマー含有化合物などの感熱性材料）を使用可能な、生産に値するイオンソースおよび方法を提供し、半導体ウェハの商業的なイオン注入において新規な範囲の性能を達成すること。
【解決手段】イオン注入システム用のイオン源（１）は、プロセスガスを生成する蒸発器（２）と、電子ビーム（３２）を指向してイオン化封入物（１６）内のプロセスガスをイオン化する電子源（１２）と、ビームダンプ（１１）と、イオン化チャンバ（５）と、イオンビームを取り出す抽出アパーチャ（３７）とを含み、本発明の制御システムは、個々の蒸気またはガス分子が、主に該電子銃からの一次電子との衝突によってイオン化され得るように、該一次電子のエネルギーの制御を可能にする制御システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】イオン注入装置において、ソースハウジング内に堆積したフッ素を含む析出物を除去する方法の一つとして、水素化合物ガスをイオン化し水素イオンを発生させ、フッ素と水素イオンとを反応させ、フッ酸蒸気として排気することが有効であるが、イオン源のカソードフィラメントが切れると、ガスをイオン化できない。
【解決手段】イオン発生装置内に、高周波電源と接続した対向電極を設けることで、カソードフィラメントが切れた場合でも、水素化合物ガスをイオン化することを可能とし、水素イオンを発生させることにより、真空中でソースハウジング内に堆積したフッ素化合物を還元し、その反応で発生したフッ素を含むガスを真空ポンプで排気する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、クリーンな状態が維持され、長寿命化が可能でありながら、イオンの生成量の増加が可能なイオン源を提供することにある。
【解決手段】プラズマ室１と、プラズマをプラズマ室１に閉じ込めるためのカスプ磁場発生用磁場発生手段としての永久磁石３と、プラズマを高温電子領域と低温電子領域に分離するためのフィルタ磁場発生用磁場発生手段としての永久磁石４と、永久磁石４より下流側に設けられ、イオンが通過するための開孔部５ｄを有したプラズマ電極５と、を備え、プラズマ電極５に取付けられた開孔部電極７の内部表面にダイヤモンド薄膜８が設けられたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 加熱して温度を上げたときのフィラメントの腐食および自重による撓みを抑制する。
【解決手段】 このフィラメント４は、通電加熱されて熱電子を放出するフィラメント部６と、フィラメント部６が貫通していてそれからの熱によって加熱されて熱電子を放出する筒状の熱電子放出部８とを備えている。熱電子放出部８を構成する材料の方がフィラメント部６を構成する材料よりも熱電子放射電流密度が大きく、剛性率はフィラメント部６を構成する材料の方が大きい。 （もっと読む）

【課題】原材料の供給量を安定化することができ、ひいてはイオンを安定して発生させることができるイオン源装置およびイオン発生方法、ならびに前記イオン源装置を備えるイオン注入装置および前記イオン発生方法によってイオンを発生させるイオン注入方法を提供する。
【解決手段】原材料容器２２とアークチャンバ２３とを接続する配管２４の内部にオリフィス板３１を設け、原材料容器２２で発生した塩化アルミニウム気体８を、オリフィス板３１に形成される連通孔を通して流下させる。これによって、原材料容器２２内では、圧力が上昇して、塩化アルミニウムが液化する圧力以上の圧力になり、固体であった塩化アルミニウムが塩化アルミニウム液体２７になる。この塩化アルミニウム液体２７の蒸発によって発生した塩化アルミニウム気体８をアークチャンバ２３に供給する。 （もっと読む）

【課題】 同軸構造の熱陰極を備えているイオン源において、イオンビーム生成効率の向上および熱陰極の長寿命化を可能にする。
【解決手段】 このイオン源２は、中空の外部導体１２と、その内側に同軸状に配置された中空の内部導体１４と、両導体１２、１４の先端部を電気的に接続する環状の接続導体１６とを有する熱陰極１０を備えている。熱陰極１０は、細長いイオン引出し口６の長手方向に沿うようにプラズマ生成容器４内に挿入されている。このイオン源２は更に、熱陰極１０の内部導体１４内に原料ガス８を供給してそれを内部導体１４の先端からプラズマ生成容器４内へ放出させるガス供給機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】 小型化が可能であり、かつイオンビーム生成効率の高いイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源２は、プラズマ生成室２２と、その内部に配置された熱陰極１０と、その内部導体１４に原料ガス８を供給するガス供給パイプ２８と、プラズマ電極３８を有していてプラズマ２０からイオンビーム５０を引き出す引出し電極系３６とを備えている。熱陰極１０は、中空の外部導体１２と、その内側に同軸状に配置された中空の内部導体１４と、両導体１２、１４の先端部を電気的に接続する接続導体とを有しており、原料ガス８は内部導体１４の先端からプラズマ生成室２２内へ放出される。プラズマ電極３８は、陽極を兼ねていて、プラズマ生成室２２の一端部に、熱陰極１０の先端部に対向するように配置されており、かつ熱陰極１０の内部導体１４の先端の正面にイオン引出し孔を有している。 （もっと読む）

【課題】ホローカソード内のインサート材の交換が効率的に行えるホローカソード型放電管を提供する。
【解決手段】ホローカソード型放電管１００は、カソードパイプ２０１と、放電ガス放出用の開口２０２Ｂが前端面２０２Ａに形成されたカソードキャップ２０２と、の接続により構成されてホローカソード２００と、前端面２０２Ａに対向して配置され、開口２０２Ｂの中心軸Ｓ上にアノード穴３０２Ａが形成されたアノード電極３０２と、ホローカソード２００が内部を延びている筒状のアノードケーシング３０１と、接続部ＳＰに配されたインサート材２０３と、を備える。そして、開口２０２Ｂとアノード穴３０２Ａとの間で放電ガスによる放電が行われる。また、インサート材２０３が、接続部ＳＰを構成するホローカソード２００の筒状の内壁内から延びて、ホローカソード２００の筒状の外壁と平行に、上記内壁外に突出している。 （もっと読む）

イオンインプランテーションシステムまたはその部材のクリーングおよび、カソードバイアス電力をモニタし、カソードをエッチングまたは再生させるための比較値に依存する修正処置による、イオンインプランテーションシステムのための間接加熱カソードのカソードの成長／エッチングを可能にする反応性クリーニング剤を提供する。 （もっと読む）

【課題】複数のイオンビーム引出し孔が整列されたイオンガンにおいて、イオンビーム電流密度を均一にする。
【解決手段】カソード（１０）及びアノード（２０）からなるプラズマ生成手段、並びにプラズマ生成手段によって生成されたプラズマからイオンビームを引き出すグリッド（３０）を備えたイオンガンにおいて、カソードが、一対のフィラメント電極（１３）間に架設されたフィラメント（１２）からなり、グリッドが、フィラメントに平行に配列された複数のイオンビーム引出し孔（３１）を有し、フィラメントの両端部（１２ａ）を含む単位空間当たりの発熱量がフィラメントの中央部（１２ｂ）を含む単位空間当たりの発熱量のよりも大きくなるようにした。 （もっと読む）

【課題】複数のイオンビーム引出し孔が整列されたイオンガンにおいて、イオンビーム電流密度を均一にする。
【解決手段】カソード及びアノードからなるプラズマ生成手段並びにプラズマからイオンビームを引き出すグリッドを備えたイオンガンにおいて、グリッドが長手方向に複数又は一連のイオンビーム引出し孔を有し、複数又は一連のイオンビーム引出し孔の中心部を原点として、長手方向をｘ軸方向、イオンビーム出射方向をｚ軸正方向として、複数又は一連のイオンビーム引出し孔の周辺に配置され、複数又は一連のイオンビーム引出し孔にｚ軸正方向の磁場を与える第１の磁石、及び複数又は一連のイオンビーム引出し孔の端部に配置され、端部付近にｘ軸原点方向の磁場を与える第２の磁石をさらに備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】イオン源において、フィラメントを保持するフィラメント保持具の熱膨張によりフィラメントが受ける応力を緩和および抑制し、これによって、フィラメントの破断や変形によるフィラメントの機能不全を予防する。
【解決手段】イオン源は、プラズマ容器の外側で、フィラメントの両端を保持するフィラメント保持具と、このフィラメント保持具を支持固定する基台と、フィラメント保持具と基台との間を介在して接続する介在部材と、を有する。フィラメント保持具と介在部材とが接続される第１の接続位置から、フィラメント保持具のフィラメントの保持位置に至る第１の方向を定め、さらに、介在部材と基台が接続される第２の接続位置から、第１の接続位置に至る方向を第２の方向を定めたとき、第２の接続位置は、第１の面で分割される２つの側のうち第１の接続位置のある側にあり、第２の方向を第１の方向に射影した成分は、第１の方向と反対の向きを向いている。 （もっと読む）

励起したおよび／または原子状態のガスの注入を利用するイオン源を開示する。イオンビームに適用する場合、ソースガスはそのまま使用して従来どおり供給する。代替的にまたは付加的に、ソースガスをイオン源チャンバに導入する前にリモートプラズマ源を通過させることにより変質させることができる。これにより励起中性種、重イオン、準安定分子、または多価イオンを生成することができる。他の実施形態において、複数のガスを用い、１つ以上のガスがリモートプラズマ源を通過するようにする。特定の実施形態においては、複数のガスをイオン源チャンバへ供給する前に単一のプラズマ源において混合する。プラズマ浸漬に適用する場合、１つ以上の追加ガス注入箇所を介して、プラズマをプロセスチャンバに注入する。これら注入箇所により、プロセスチャンバの外部におけるリモートプラズマ源で生成した追加プラズマの流入が可能になる。 （もっと読む）

【課題】低いエネルギーを有しながらも電流密度が充分に高いイオンビームを生成し、少ない損失で長い距離を輸送できるビーム生成装置及び輸送装置を提供する。
【解決手段】ビーム生成装置は、高エネルギー、且つ高電流密度を有するビームを引き出す多重引出口を有するプラズマ電極１１とビーム引出電極１２とを含むイオン源１０と、多重口構造の第１減速電極２０と、ビームを集束する多重口構造の静電レンズ３０と、ビームを再び減速させながら、前記ビームの最終エネルギーを制御する多重口構造の第２減速電極４０とを含む。また、ビーム輸送装置は、前記生成装置によって生成されたビームを輸送する装置であって、前記第２減速電極４０の下流に多重口構造のイオンビームレンズ５０を一定間隔で繰り返し配置することにより、ビームが移動する間、ビームの空間電荷による広がりによる損失を減らすことができる。 （もっと読む）

【課題】フィラメントの寿命が長く、メンテナンスに要する時間の短い、ランニングコストを低減できるイオン源を提供すること。
【解決手段】直流電源１４によってフィラメント１５のマイナス側接続部１６およびプラス側接続部１７間で電位差が生じ、イオン源１０で発生したイオンの極性がアルゴンのようにプラスの場合、フィラメント１５への衝突頻度が、マイナス側接続部１６付近で高くなるが、マイナス側接続部１６付近に保護部１５０が設けられているので、フィラメント１５へのイオンの衝突による損傷を防ぐことができる。したがって、フィラメント１５の断線までの時間を長くでき、メンテナンスの回数を少なくでき、ランニングコストを低減できる。 （もっと読む）

【課題】複数のアノードを含むイオンビーム蒸着用のイオン源に関する。イオン源は、原材料の複数のゾーンを蒸着し、複数のゾーンのうちの少なくとも２つのゾーンの厚みを異なるようにする。
【解決手段】イオンビーム蒸着で炭素を蒸着する場合、プロセス室の数は制限されるので、２つまたは３つ以上のイオン源を利用することは、スペースの理由で不可能なこと、または費用の理由で現実的でないことが多いが、イオン源として、複数の同心のアノードを含み、異なる電圧が複数のアノードに印加することで、少くとも2つのゾーンの厚みを異ならせることができる。 （もっと読む）