【課題】安定した形状の導電性膜を形成でき、持って導電性膜抵抗のばらつきを抑制する。
【解決手段】画像形成装置の一構成である背面基板上に複数の電子放出素子を製造する方法において、前記背面基板上に第１の電極２２、第２の電極２３を対向して形成する工程と、基板全面に感光性撥水液を付与する工程と、露光により導電性膜形成予定部を親水部とした後、導電性膜形成用塗布液を付与して導電性膜形成予定部に導電性膜２５を形成する工程と、焼成の後、前記第１・第２の電極間のセンターラインに位置する前記導電性膜２５を選択的に除去し電子放出用ギャップ２４を形成する工程を具備することを特徴とする電子放出素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 薄膜を有する電子デバイスの薄膜形状の均一化を図る。
【解決手段】 機能性薄膜材料を含有する溶液の液滴を吐出する複数のノズルを有するインクジェットヘッドを用いて、該複数のノズルのうちの少なくとも一部から該液滴を基板上に付与し、略直線状の液滴パターンを形成する工程と、基板上に付与された液滴を乾燥する工程とを有し、前記乾燥工程は、前記インクジェットヘッドに対して、前記略直線状の液滴パターンに直行する方向に位置し、前記略直線状の液滴パターンよりも幅広の排気口を有する吸引排気手段によって行われる。 （もっと読む）

実質的に強化された電界放出特性が、ＣＮＴの表面を非接着性材料（例えば、紙、八歩シートまたはローラー）で覆う工程、特定の力を使用してその材料をプレスする工程、およびその材料を除去する工程からなるプロセスを使用することによって、達成される。この方法は、テーピングプロセスと比較して、ＣＮＴのずっと良い電界放出特性が達成された。このプロセスは以下の利点を有する：プロセスが非常に簡便かつ低コストである；このプロセスは、非常に大きな領域で、非常に良い均一性で行われ得る；プロセス後に残渣が基板上に残存しない。
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ディスプレイデバイスにおけるカソードとしての使用のためのナノ粒子エミッターをパターン化するための工業的スケールの方法が開示される。低温の方法が、得られるディスプレイデバイスの良好な均一性とともに高容量適用で実施され得る。この方法のステップは、予備製作されたコンポジット構造の全面の上にＣＮＴエミッター材料の堆積、および物理的方法を用いる表面の所望されない部分からのＣＮＴエミッター材料の引き続く除去を含む。
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【課題】 表面伝導型の電子放出素子を用いてなる電子源において、高抵抗膜を用いて素子部の帯電防止を図ると同時に、該高抵抗膜の存在により発生するリーク電流を防止する。
【解決手段】 導電性膜４を形成後、該導電性膜４とその周囲を除く領域に高抵抗膜７を形成し、フォーミング処理を施して導電性膜４に亀裂５を形成した後、炭素化合物含有雰囲気下において素子電極２，３間に電圧を印加することにより、亀裂５内及び亀裂５の端部から高抵抗膜７に渡るカーボン膜６を堆積させる。 （もっと読む）

本発明はカソード（１００）と、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）（１０５）および粒子（１０４）を含むカソード材料（１０６）とを目的とする。本発明はまた、本発明のカソード（１００）を含む電界放出装置、ならびにこれらのカソード（１００）を製造する方法も目的とする。いくつかの実施態様では、本発明のカソード（１００）は電界放出ディスプレイ（２００）中に用いられる。本発明はまた、基板（２０４）上にＣＮＴ（１０５）と粒子（１０４）との層を堆積させて本発明のカソード（１００）を作製する方法、ならびにその結果得られる層の電界放出特性を電界放出ディスプレイ用途に最適化することを目的として、この混合層中に用いられるＣＮＴ（１０５）の密度を制御する方法を含む。
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粒子ブラスティング技術（サンドブラスティングまたはビーズブラスティングとも呼ばれる）を使用する印刷またはディスペンスされたカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）フィルムの活性化。このプロセスは、粒子が表面に当たるときに、表面の材料のいくらかが取り除かれるように、十分に高い速度で材料の粒子を送りことによって作動する。印刷ＣＮＴフィルムの表面は、粒子銃からの粒子によってゆっくり侵食される。ＣＮＴファイバーは、容易に除去され得ないので、印刷層のいくつかの層に埋め込まれ得る。
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本発明において、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）の組成物がインク中に生成され、このインクは、インクジェット被覆プロセスを介して分配し得る。このＣＮＴインクは、カソード構造体に形成されるウェルに分配される。本発明のある実施形態は、図１（ａ）に示されるような、ウェル構造体内にＣＮＴを均一に被覆するためのプロセスを提供する。ウェル構造体は、穴を形成するために４つ以上の壁（または、丸穴の場合は、１つの壁）を有し得る。
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【課題】ナノダイヤモンドを用いた改良された電子放出構造と画素化された配列と共に、冷陰極の放出領域をより簡単に製造する方法を提供する。
【解決手段】高い仕事関数を有する金属１８であって、金属−ドープされたダイヤモンドナノ結晶粒子層１４を低い仕事関数を有する金属陰極１２の平坦面と接触させて包むカプセルである金属１８を備えた電子放出素子と、その形成方法である。その方法は、伝導性を有するナノダイヤモンド粉末を金属性の溶液と調合すること、仕事関数が高い金属を含むこと、及び、それを金属陰極１２の上に配置して低い電子親和力を示す表面領域を有する合成の物質層を構成することを含んでいてもよい。得られる冷陰極構造は、効率的な電子放出のために必要な抽出電界が低く、単位面積あたりの放出電流を制限する手段を有し、そして、吸着/脱着に対する電子放出感度が低減されている。 （もっと読む）

基板上にナノ構造材料のパターニングされたコーティングを成膜する方法は、（１）前記ナノ構造材料を含む溶液又は懸濁液を形成する工程；（２）前記基板の少なくとも１つの表面の一部にマスクを形成する工程；（３）前記溶液中に電極を浸す工程であって、その上に前記電極の１つとして機能する前記ナノ構造材料が成膜されるか又は少なくとも前記電極の１つに電気的に接続される工程；（４）前記２つの電極の間に所定の期間の間、直流電流電界及び／又は交流電流電界を印加し、それによって前記溶液中のナノ構造材料を前記基板電極に向けて移動させて付着させる工程；（５）その後の随意的な処理を行う工程、を含む。
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レーザ又はプラズマで処理されたカーボンナノチューブマットを備えるフィールドエミッションデバイスを提供する。マットは、直径が約１ミクロン未満の虫くい状のカーボンデポジットである、カーボンフィブリルとしても周知のカーボンナノチューブから形成する。次いでカーボンナノチューブマットをレーザ又はプラズマで処理する。カーボンナノチューブマットをそのように処理することによって、フィールドエミッションカソードとしての、又はフィールドエミッションデバイスの一部分としてのフィールドエミッション性能が改善される。 （もっと読む）