【課題】低コストかつ分散安定性に優れたインクジェット印刷用インクを提供すること。
【解決手段】（ａ）導電性粉末、（ｂ）重合性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物、（ｃ）下記式（１）で表される基を少なくとも２つ有する化合物、および（ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とするインクジェット印刷用インク。


［式中、＊は結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】３次元の微細構造体の製造に適した３次元の微細構造体製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の微細構造体製造方法は、平版に先端材料を塗布し、該先端材料を基体へと転写させることを特徴とする。本発明の構成によれば、平版と基体のアライメントを取ることにより、基体に対して精度良く特定位置に選択的に先端材料を転写することが出来る。また、平版に塗布する先端材料の量の多寡により、微細構造体の高さなどの形状を制御することが出来る。 （もっと読む）

【課題】工程数の増加を最小限に抑えつつ、電子放出素子の高精細化が可能な電子放出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）基板上にカソード電極２０を形成する工程と、（ｂ）前記カソード電極上に、カソード電極の一部が露出するようパターニングされた犠牲層５２を形成する工程と、（ｃ）前記パターニングされた犠牲層および露出したカソード電極の上に電子放出物質層を形成する工程と、（ｄ）前記犠牲層と前記犠牲層上の電子放出層を除去する工程を含む電子放出素子の製造方法であって、前記犠牲層が画像反転レジストによって形成されることを特徴とする電子放出素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面の凹凸および針状炭素の突出状態が制御された均一かつ低電圧での電子放出が可能な電子放出源の製造方法を提供する。
【解決手段】カソード電極上に無機粒子１と針状炭素を含む第１膜を形成する工程と、前記第１膜上に無機粒子２と針状炭素を含む第２膜を形成する工程と、これらを同時に焼成する工程と、焼成後の第２膜を除去する工程とを含む電子放出源の製造方法であって、１）無機粒子１の焼結温度が無機粒子２の焼結温度よりも低いこと、および２）第１膜中の針状炭素と無機粒子の重量比ならびに第２膜中の針状炭素と無機粒子の重量比が、いずれも針状炭素１００重量部に対して無機粒子が２００〜８０００重量部であることを特徴とする電子放出源の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン非形成領域への膜パターンを形成する機能液の流動を抑制して、所望の膜厚の膜パターンを形成する膜パターン形成方法、及びそれを用いたコンタクトホールの形成方法、バンプの形成方法及び発光装置の製造方法を提供する。
【解決手段】パターン非形成領域１０に隣接してパターン形成領域２０が設けられ、パターン形成領域２０に機能液を塗布して膜パターン１を形成する膜パターン形成方法であって、パターン非形成領域１０に、上記機能液に対する撥液材料を含む液滴を塗布して撥液膜３０を形成する撥液膜形成工程と、撥液膜３０に隣接するパターン形成領域２０に上記機能液を塗布して膜パターン１を形成する膜パターン形成工程とを有し、上記撥液膜形成工程と上記膜パターン形成工程とを少なくとも２回交互に繰り返すという構成を採用する。 （もっと読む）

本発明は、デバイス構造および厚膜ペーストに前から存在するスルーホールに堆積したフォトレジストを用いて電気および電子デバイスを製造する方法、ならびにかかる方法により作製されたデバイスに関する。この方法によって、ホールの隅部に厚膜ペーストが堆積する。本発明はまた、ホールの残渣フォトレジスト堆積物から作製された拡散層を用いてパターニングされた厚膜ペーストにより作製されたデバイスにも関する。
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【課題】簡単な原理、構造によって電子デバイスあるいは電子回路を製造するための新規な製造方法を提案すること。
【解決手段】電子デバイスあるいは電子回路の構成上、先に形成したパターンよりそのパターンの上に後から形成するパターンが大きい場合の、先と後のパターン形成に使用する液体を噴射する噴射ヘッドの単位時間あたりの液体の噴射量を、後のパターン形成に使用する方が大となるようにして噴射する。 （もっと読む）

【課題】輝点の強度や形状変化を生じ難い電子放出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁性基板１上に電極２，３を形成し、該電極２，３間を連絡する導電性膜を形成し、該導電性膜に電圧を印加して間隙６を形成した後、絶縁性基板１にＸ線、紫外線、電子線の少なくともいずれかを照射して該基板表面を正電位に帯電させ、次いで、炭素を含む雰囲気下で導電性膜４，５間に電圧を印加して上記間隙６及びその周囲の是つん正基板１表面に炭素膜７を堆積させる。 （もっと読む）

【課題】電子放出素子の製造方法、電子放出素子及び電子放出素子を備えた発光装置を提供する。
【解決手段】基板上で一方向に沿って互いに距離をおいて離隔配置された複数の第１電極と、前記一方向に沿って前記第１電極の間に配置される複数の第２電極を平行に交互に形成し、隣接する前記第１電極と前記第２電極の間で電子放出層を形成し、前記電子放出層の一部を除去して電子放出層間にピッチを形成する電子放出素子の製造方法及び当該製造方法で製造された電子放出素子である。 （もっと読む）

【課題】 ナノ繊維を含む電界電子放出材料を用いて、良好な起毛処理を行うことにより、電子放出能力の高い電界電子放出源を製造すること。
【解決手段】 カーボンナノツイストを含む電界電子放出材料１０３を陰極基板１００表面に形成し、陰極基板１００の表面に０．１ａｔｍから２ａｔｍの圧力範囲で発生させた大気圧プラズマ２６１を照射して、電界電子放出材料１０３に含まれるカーボンナノツイストの起毛処理を行い、電子放出能力を向上させた電界電子放出源を製造する。 （もっと読む）

【課題】ヘリカルカーボンナノファイバを用いて電子放出能力の高い電界電子放出源を製造すること。
【解決手段】ビーカ２０４にカーボンナノコイルを含む炭素物質２０１と過酸化水素水２０２を入れて混合し混合液２０３を作成し、ビーカ２０４をホットプレート２０５で２０℃〜２００℃の範囲で１５分から６０分間加熱した。次に、蒸留水でカーボンナノコイル２０１を洗浄しながら、吸引濾過器２０６を用いてカーボンナノコイルを含む炭素物質２０１と過酸化水素水を分離して、カーボンナノコイルを含む炭素物質２０１の水溶液２０７を得た後、該水溶液２０７を電気炉２０８で空気中で乾燥させて、アッシング処理されたカーボンナノコイルを含む炭素物質を得る。このようにして得られたカーボンナノコイルを含む炭素物質を電界電子放出源の陰極に使用する。 （もっと読む）

【課題】下地膜を有する膜パターンの製造に際し、得られる膜パターンが基板全面で下地膜とのパターンの位置ズレを発生させることなく均一に得られるようにする。
【解決手段】下地膜上に、成膜成分を含む溶液を吸収可能な樹脂パターンを形成し、この樹脂パターンに成膜成分を含む溶液を吸収させ、高温乾燥して樹脂パターンを硬化させた後、樹脂パターンを保護膜にして下地膜をエッチングしてから樹脂パターンを焼成して膜パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】厚さが数ｎｍ乃至数十ｎｍの薄膜であり、シート抵抗が１０ｋΩ／□乃至数百ｋΩ／□の高抵抗で且つ抵抗バラツキの少ない導電性膜を備えた電子放出素子を提供する。
【解決手段】貴金属と卑金属の錯体を含んだ溶液を塗布し、ＵＶ照射しながら焼成することによって、膜厚が３ｎｍ乃至５０ｎｍで、貴金属と卑金属酸化物からなり、酸化物金属の金属比率が貴金属の３０モル％以上であり、膜厚方向に卑金属酸化物の濃度勾配を有する導電性膜を作製する。 （もっと読む）

【課題】得られる膜パターンの密着性のバラツキの発生を抑制し、得られる膜パターンの密着性を向上させる。
【解決手段】基板上に形成される膜パターンを、抵抗を有する金属もしくは金属酸化物と抵抗を阻害する金属酸化物で構成し、抵抗を有する金属もしくは金属酸化物の膜と抵抗を阻害する金属酸化物の膜を各々別々の膜で存在させ、膜間の境界面に、各々の膜に対して濃度勾配をもたせた膜パターンとする。 （もっと読む）

【課題】 ＳＥＤ素子膜製造のように、インクジェット直描で膜を形成するにあたり、全てのパターンを均一に塗布するために、ノズル毎の吐出量を正確に測定する。
【解決手段】 塗布物質を分散または溶解した液体、液体を液滴として吐出させるノズルを備えた液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドから前述液滴を吐出して被塗布物体の表面に前述塗布物質を塗布する液体塗布装置、被塗布物体上に塗布されて付着した塗布物質の３次元的形状値を測定する形状測定手段、形状測定値から塗布物質の体積値を計算する体積計算手段を有する。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブ及びカーバイド誘導炭素を含む混成複合体、該混成複合体を含む電子放出源及びその製造方法、並びに該電子放出源を採用した電子放出素子を提供する。
【解決手段】炭素ナノチューブと、カーバイド化合物をハロゲン族元素含有ガスと熱化学反応させて、カーバイド化合物内の炭素以外の残りの元素を抽出することによって製造されたカーバイド誘導炭素と、を含む混成複合体、該混成複合体を含む電子放出源の製造方法、その方法によって製造された電子放出源及び電子放出源を採用した電子放出素子。これにより、炭素ナノチューブとカーバイド誘導炭素が混成複合化されることによって、多量の炭素ナノチューブの使用時に発生するスクリーン効果を防止できて、電子放出能力が優秀なだけでなく、均一性に優れて長寿命の電子放出源を提供できる。 （もっと読む）

【課題】作製したＣＮＴを回収し、さまざまな基板材料上に低温で塗布または分配できるようにしたいという明らかな要求、電界放出特性を最適化することを目的として、ＣＮＴの密度を制御できるようにしたいという要求に対する解決手段の提供。
【解決手段】（１）ａ）基板、およびｂ）カーボンナノチューブと粒子との混合物を含む電界放出カソード材料
を含む電界放出カソードであって、１つの実施形態において、カーボンナノチューブは、単層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ、バッキーチューブ、カーボンフィブリル、化学修飾されたカーボンナノチューブ、誘導体化されたカーボンナノチューブ、金属性カーボンナノチューブ、半導体性カーボンナノチューブ、メタル化カーボンナノチューブ、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、カソード。 （もっと読む）

【課題】特殊な材料や特殊な操作を必要とすることなく、電子放出能の高い薄膜型電子放出材料を形成するための組成物、前記薄膜型電子放出材料、その製造方法等を提供する。
【解決手段】（１）有機高分子バインダーと、有機溶媒と、導電材と、気相成長法で作製された平均繊維径５〜１８０ｎｍのカーボンナノチューブ等を含む薄膜型電子放出材料の形成用組成物、（２）有機高分子マトリックス又は有機高分子の炭化物マトリックスと、導電材と、前記カーボンナノチューブ等の凝集体とを含む薄膜型電子放出材料、（３）前記組成物を導電性基板上に塗布したのち、加熱処理し、又はさらに焼成処理することにより、前記薄膜型電子放出材料を製造する方法、（４）前記薄膜型電子放出材料を用いて作製されてなる電界放出型素子、及び（５）前記電界放出型素子を搭載してなる電界放出型ディスプレイである。 （もっと読む）

【課題】電子エミッタ作製プロセスが含むバッファ層を生成するプロセスを省略可能とすることである。
【解決手段】本電子エミッタ用基材１０は、素材例である導電性ワイヤ１１の表面に直流プラズマによる炭素膜成膜の条件に適合したバッファ層としての黒鉛含有膜１２が付着している。本電子エミッタ用基材１０の製造方法は、導電性基材１６の表面に黒鉛含有ペースト２０を付着させる工程を含む。本電子エミッタ製造方法は、真空成膜室３２内で上記電子エミッタ用基材１０の基材温度を７００℃以上に昇温し炭素含有ガスを直流プラズマで分解し該基材表面に電界電子放出性能を有する炭素膜４２を成膜して電子エミッタ４４を製造する。 （もっと読む）

【課題】作製したＣＮＴを回収し、さまざまな基板材料上に低温で塗布または分配できるようにしたいという明らかな要求、電界放出特性を最適化することを目的として、ＣＮＴの密度を制御できるようにしたいという要求に対する解決手段の提供。
【解決手段】（１）ａ）基板、およびｂ）カーボンナノチューブと粒子との混合物を含む電界放出カソード材料
を含む電界放出カソードであって、１つの実施形態において、カーボンナノチューブは、単層カーボンナノチューブ、二層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ、バッキーチューブ、カーボンフィブリル、化学修飾されたカーボンナノチューブ、誘導体化されたカーボンナノチューブ、金属性カーボンナノチューブ、半導体性カーボンナノチューブ、メタル化カーボンナノチューブ、およびそれらの組み合わせからなる群から選ばれる、カソード。 （もっと読む）