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【課題】良好な(001)配向を有し、かつ、規則度が高いL1型のFePt合金、もしくはCoPt合金からなる磁性層を有する熱アシスト記録媒体が実現し、これを用いたエラーレートの低い磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、L1構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、該複数の下地層が、NiO下地層と、該NiO下地層に(100)配向をとらせるための配向制御層を含むからなる下地層であることを特徴とする磁気記録媒体を用いる。 (もっと読む)


【課題】垂直磁性層の高い垂直配向性を維持し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板の上に、軟磁性下地層と、直上の層の配向性を制御する配向制御層11と、磁化容易軸が非磁性基板に対して主に垂直に配向した垂直磁性層とを積層してなる磁気記録媒体の製造方法であって、垂直磁性層を2層以上の磁性層から構成し、各磁性層を構成する結晶粒子が配向制御層11を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶を形成するように各層を結晶成長させる際に、配向制御層11をCoCr合金で形成し、この配向制御層11をスパッタリングガスに窒素を混合した反応性スパッタリングにより成膜すると共に、成膜時に前記非磁性基板に対して負のバイアス電圧を印加する。 (もっと読む)


【課題】 高い温度域でも結晶膜化を抑制可能な垂直磁気記録媒体等に用いられるFe−Co系合金軟磁性膜およびそのFe−Co系合金軟磁性膜形成用粉末焼結スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が((Fe−Co100−X100−Y−Ni100−a−b−M−B、10≦X≦70、0≦Y≦25、7≦a、1≦b≦5、13≦a+b≦25で表され、前記組成式のM元素がNbおよび/またはTaからなる粉末焼結ターゲット材をスパッタリングして、膜厚20〜300nmに成膜されてなる垂直磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜である。 (もっと読む)


【課題】酸素等の不純物の量の少ないPd合金系スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Pdを主要成分として含有するPd合金系スパッタリングターゲットであって、V、Nb、Taのうちの少なくとも1種以上を合計で1〜60at%含有し、残部がPdおよび不可避的不純物からなり、ターゲット全体に対する酸素含有量を2000質量ppm以下にする。
また、V、Nb、Taのうちの少なくとも1種以上を合計で1〜60at%含有し、残部がPdおよび不可避的不純物からなるPd合金粉末をアトマイズ法で作製し、作製した該Pd合金粉末を加圧下で加熱して成形してPd合金系スパッタリングターゲットを製造する。 (もっと読む)


【課題】所望する磁性体を効果的に加熱して高い信頼性で書き込みを行うことができると共に、記録時における他の磁性体の熱的安定性を確保して記録消失や誤記録などを抑制することができる磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】基板2に記録層4が形成ており、記録層4を構成する複数の記録ビット領域11それぞれの内側には、記録層4よりも熱伝導率が高い高熱伝導体14が配設されている。また、記録層4には、記録層4を複数の記録ビット領域11に区分する分断部12が形成されており、分断部12には、記録層4よりも熱伝導率が低い低熱伝導体13が充填されている。 (もっと読む)


【課題】垂直磁性層の高い垂直配向性を維持し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板の上に、軟磁性下地層と、直上の層の配向性を制御する配向制御層11と、磁化容易軸が非磁性基板に対して主に垂直に配向した垂直磁性層とを積層してなる磁気記録媒体の製造方法であって、垂直磁性層を2層以上の磁性層から構成し、各磁性層を構成する結晶粒子が配向制御層11を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶を形成するように各層を結晶成長させる際に、配向制御層11をCoCr合金で形成し、この配向制御層11をスパッタリングガスに窒素を混合した反応性スパッタリングにより成膜することで、CoCr合金に3〜15原子%の範囲で窒素をドープさせる。 (もっと読む)


【課題】低磁歪定数、高飽和磁束密度及び良好な表面平滑性を備えたハ−ドディスク装置などに用いられる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板1上に、少なくとも軟磁性裏打ち層11、下地層6、中間層7及び磁気記録層8をこの順で有する磁気記録媒体において、軟磁性裏打ち層11が、少なくとも1層以上のナノ結晶粒子を含まないアモルファス構造を有する軟磁性合金膜3,5を含み、この軟磁性合金膜3,5の磁歪定数λの絶対値が1×10−6以下である。 (もっと読む)


【課題】スイッチング磁場分布を減少した極薄酸化膜を有するパターン化垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】パターン化垂直磁気記録媒体は、同心トラックに配置された離散的データアイランドにパターン化されたCo合金記録層を有し、狭いスイッチング磁場分布(SFD)を示す。ディスクは、基板と、基板上のNiTa合金平坦化層と、平坦化層上の非磁性Ru含有下地層と、酸化物が無いCo合金磁気記録層と、Ru含有層とCo合金磁気記録層との間の極薄酸化膜とを含む。酸化膜は、Ta酸化物、Co酸化物およびTi酸化物から選択された酸化物であってもよく、不連続膜と考えられる極薄である。平坦化層および極薄酸化膜により、Co合金記録層の成長均一性が向上するので、データアイランドを有するパターン化ディスクではSFDが大幅に減少する。 (もっと読む)


【課題】 良好な記録再生が可能な磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 磁気記録媒体は、基板と、基板上に設けられ、磁性材料を含有する磁気記録層と、保護層とを含む。磁気記録層は、面内方向に規則的に配列されたパターンを有する記録部と、記録部の飽和磁化よりも低い飽和磁化を有する非記録部を含む。非記録部は、磁性材料と、飽和磁化の値を該記録部の飽和磁化の値よりも低下せしめる失活種と、保護層の成分とを含有する。 (もっと読む)


【課題】磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】磁気記録媒体10は、垂直磁気記録層5、クロム、チタン、及びシリコンから選択される磁性失活元素を含むRu非磁性下地層2、及び非磁性基板1を含む積層に、磁性失活ガスを用いてガスイオン照射を行なうことにより形成される。ガスイオン照射を行なう前の垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち少なくとも1つ、及びプラチナを含有する。ガスイオン照射には、ヘリウム、水素、及びBからなる群から選択される少なくとも1種のガスと窒素ガスの混合ガス、あるいは単独の窒素ガスのいずれかを使用する。 (もっと読む)


【課題】結晶配向中間層と、中間層上に配設される磁気ゼロ層と、磁気ゼロ層上に配設される磁気記録層とを含む積層体を提供する。
【解決手段】磁気ゼロ層(140,240)は非磁性であるか、または飽和磁束密度(BS)が約100emu/cc未満である。磁気ゼロ層(140,240)および磁性層(150,242)は、非磁性分離体によって囲まれる粒子を含む。磁気ゼロ層(140,240)は、格子不整合が約4%未満である、中間層(130,238)と磁性層(150,242)との間のコヒーレントな界面を設ける。 (もっと読む)


【課題】量産プロセスで形成可能な3nm以下の膜厚のMgO下地層を用いながらも、優れた磁気特性を有するL1型FePt規則合金を磁気記録層に用いた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】MgO下地層の下部に設ける下地層の材料として、立方晶系に属する結晶構造を有する導電性化合物を用いる。MgO層の膜厚は1nm以上3nm以下とする。 (もっと読む)


【課題】放熱層を厚膜化した場合でも放熱層が磁気記録層に与える影響を適切に抑制できる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】熱アシスト磁気記録装置に用いられる磁気記録媒体である。前記磁気記録媒体が、非磁性基体、放熱層、バッファ層、軟磁性裏打ち層、および磁気記録層をこの順に含む。前記バッファ層が、非磁性かつ非晶質の材料からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】磁性層が良好な規則度と(001)配向を有し、Hcが高く、かつ、Hc分散の狭い熱アシスト記録媒体、及びそれを用いた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、L1構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、該下地層の少なくとも一つが、MnOであることを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体を用いる。また、MnO下地層を、Cr、もしくはCrを主成分とし、Ti、V、Mo、W、Mn、Ruのうちの少なくとも1種類を含有したBCC構造を有する下地層の上に形成する。 (もっと読む)


【課題】高強度かつ適度な柔軟性を有する塗膜を形成可能な磁気記録媒体用結合剤組成物を提供すること。
【解決手段】放射線硬化性官能基含有塩化ビニル系樹脂を含む磁気記録媒体用結合剤樹脂組成物。前記塩化ビニル系樹脂の含有量に対して0.3質量%以上10質量%以下の下記式(A)で表されるメタクリレート化合物を含む。
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【課題】高密度でSNRを高めた熱アシスト記録装置用の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】熱アシスト記録装置用の磁気記録媒体である。該磁気記録媒体が、非磁性基体、磁気記録層、保護層、および液体潤滑層をこの順に含み、該磁気記録層が、磁性部および該磁性部を取り囲む非磁性部からなるグラニュラー構造を有し、該グラニュラー構造における該非磁性部の割合が15体積%以上30体積%以下であり、該非磁性部が炭素系材料を含み、該磁気記録媒体の表面が、算術平均粗さRaおよび粗さ曲線要素の平均長さRSmを有し、Ra/RSmが0.05以上0.15以下である。 (もっと読む)


【課題】反転磁界分散が小さい熱アシスト磁気記録媒体、及びそれを用いた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、L1構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、下地層の少なくとも一つが、TiCであることを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体を用いる。また下地層を、Cr、もしくはCrを主成分とし、Ti、V、Mo、W、Mn、Ruのうちの少なくとも1種類を含有するBCC構造を有する下地層の上に形成する。 (もっと読む)


【課題】優れた電磁変換特性と摩擦特性を兼ね備えた磁気テープを提供すること。
【解決手段】非磁性支持体の一方の表面上に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、該非磁性層上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープ。前記磁性層は、平均粒径φが磁性層厚tと、1.0≦φ/t≦2.0の関係を満たす非磁性フィラーを含み、かつ上記tは30〜200nmの範囲であり、前記非磁性層は、厚みが30〜200nmであり、前記磁性層表面で測定される複合弾性率は6.0〜8.0GPaの範囲であり、前記磁性層表面の光学式三次元粗さ計により測定される中心線平均表面粗さRaは0.2〜1.5nmの範囲である。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録媒体の製造方法が提供される。
【解決手段】垂直磁気記録媒体が、基板、該基板上の下層、該下層上の中間層及び該中間層上の記録層を備える。この下層が、第一軟質下層、該第一軟質下層上の反強磁性的に結合されたRu層、該反強磁性的に結合されたRu層上の第二軟質下層、及び該第二軟質下層上の方位制御層を備え、この方法が、下層を形成する間、基板に負バイアス電圧を印加するステップを含む。 (もっと読む)


【課題】電磁変換特性及び走行特性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性支持体と、その一方の主面に形成された非磁性層と、前記非磁性層の主面に形成された磁性層とを含む磁気記録媒体の断面の輝度曲線から求めた微分曲線の第1のピークと第2のピークとの間の距離を、磁性層の平均厚さtとし、非磁性層の平均輝度値を0とし、磁性層の最高輝度値を100とした場合、磁性層の非磁性層側とは反対側の輝度値70から30までの領域の平均厚さを第1混合層の平均厚さL1とし、磁性層の非磁性層側の輝度値70から30までの領域の平均厚さを第2混合層の平均厚さL2とし、磁性層の残留磁束密度をMrとし、下記関係(1)、(2)及び(3)が成立するようにMr、t、L1及びL2を制御する。(1)0.0020μT・m≦Mr・t≦0.015μT・m(2)2nm≦L1≦6nm(3)0.1≦L2/t≦0.45 (もっと読む)


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