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Fターム[5D006DA04]の内容

磁気記録担体 (13,985) | 記録担体の形状、構造、機能 (2,643) | 記録担体の表面形状 (336)

Fターム[5D006DA04]に分類される特許

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【課題】近接場光を用いて情報記録する際に、トラックピッチ方向においても高密度で記録が可能となる記録再生装置及び記録再生システムを提供する。
【解決手段】光源と、所定間隔で対向して配置された2つの導電体部を有し、光源からの光照射により2つの導電体部間に近接場光を発生させる近接場光発生部とを備える記録再生装置を提供する。そして、近接場光を用いて記録媒体に情報記録を行う際に、2つの導電体部の対向方向が記録媒体の線方向と略直交するように2つの導電体部を配置する。 (もっと読む)


【課題】トラッキングサーボ情報としてトラッキングサーボパターンを高密度で形成することができ、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるものとなるとともに、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを高精度で形成することができ、歩留まりよく製造できる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターン51aが備えられ、磁気記録パターン51aの一部に、前記磁気記録パターン51aの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターン33がトラッキングサーボ情報として形成されている磁気記録媒体50とする。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体及びその製造方法並びに記憶装置において、記録層をパターニングする際に記録層を形成する磁性粒子の体積の局所的減少を抑えて熱揺らぎの影響を受けにくくすることを目的とする。
【解決手段】非磁性母体の中に磁性粒子を分散させたグラニュラ構造を有する記録層と、記録層に形成されたパターンの凹部に埋め込まれた非磁性体を備え、磁性粒子は記録層の上部領域内の直径が記録層の下部領域内の直径より大きい逆円錐台形状を有するように構成する。 (もっと読む)


【課題】形状異方性を有する記録マークが形成された記録媒体に対して、その記録マークに効率よく近接場光を吸収させることができる記録再生装置及び記録再生システムを提供する。
【解決手段】記録再生装置を、光源と、所定間隔で対向して配置された2つの導電体部を有し且つ光源からの光照射により2つの導電体部間に近接場光を発生する近接場光発生部とを備える構成とする。そして、形状異方性を有する記録マークが形成された記録媒体の情報記録時に、2つの導電体部の対向方向が記録マークの長軸方向と略平行になるように2つの導電体部を配置する。 (もっと読む)


【課題】磁性層からなるパターンを磁気的に分離している領域における磁気特性のばらつきが小さく、磁性層からなるパターン形状の全てが高精度で形成されることにより歩留まりよく製造できる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】円盤状の非磁性基板の記録再生領域50a上に、磁気的に分離された磁性層からなる規則的に配置された複数の磁気記録パターン51aが備えられ、前記複数の磁気記録パターン51aに、磁気記録トラック幅および磁気記録ビット幅を規定する情報を含むサーボ情報が磁気的に書き込まれており、前記複数の磁気記録パターン51aは、前記非磁性基板の半径方向の間隔が前記磁気記録トラック幅の1/2以下であり、前記非磁性基板の円周方向の間隔が前記円周方向の前記磁気記録ビット幅の1/2以下である磁気記録媒体50とする。 (もっと読む)


【課題】発明の課題は、長距離秩序性に優れ、欠陥の少ないミクロ相分離構造からなる微細構造を有する高分子薄膜の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、ブロック共重合体組成物が、少なくともブロック鎖A1とブロック鎖A2とからなるブロック共重合体Aを主成分とし、ブロック鎖A1を主成分とする高分子相P1に相溶するブロック鎖B1と、ブロック鎖A2を主成分とする高分子相P2に相溶するブロック鎖B2とを有するブロック共重合体Bを副成分として配合されてなり、このブロック共重合体組成物が付与される基板表面は、第1の素材106からなる表面に第2の素材107からなるパターン部材が離散的に配置される微細構造を有する高分子薄膜の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】生産性に優れ、しかも良好なヘッドの浮上性を確保することができるパターンド磁気記録媒体(DTRおよびBPM)の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録層上に、第1のハードマスク、第2のハードマスクおよびレジストを形成し、前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、パターン化されたレジストの凹部に残存している残渣を除去し、パターン化されたレジストをマスクとして、前記第2のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、前記第2のハードマスクをマスクとして前記第1のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、イオンビームエッチングにより、凹部で露出している前記磁気記録層の磁性を失活させるとともに前記第2のハードマスクを除去することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】表面の平滑性に優れた磁気記録媒体を、高い生産性で製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層2に、磁気記録パターン20として、凸部からなる磁気記録領域21と、該磁気記録領域21の間の凹部からなる境界領域22とを形成する磁気記録パターン形成工程と、次いで、非磁性基板1に負のバイアスを印加しながら、スパッタリング法を用いて非磁性膜12を形成することで、磁気記録領域21上の非磁性膜12(12a)を、境界領域22上の非磁性膜12(12b)よりも薄くする非磁性膜形成工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】偏心補正信号の消失を抑制するとともに、記録素子と再生素子の間に半径方向のオフセットがある場合にも、偏心補正信号を読み取る。
【解決手段】記録素子や再生素子の位置制御に用いられる偏心補正信号を書き込むためのビットパターン120が、磁気ディスク10の半径方向に関する長さcが円周方向に関する長さdよりも短く設定されているので、熱揺らぎによる記録情報への影響が生じにくい程度の面積を維持しつつ、半径方向に関して、比較的細かい間隔でビットパターン120を配置することができる。これにより、半径方向に並ぶビットパターンの集合をほぼ連続領域のように扱う(情報を読み書きする)ことができるので、記録素子と再生素子の間に半径方向のオフセットがある場合であっても、そのオフセット量に関わらず補正信号sの記録及び読み出しを行うことができる。 (もっと読む)


【課題】アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】分子内に芳香環を有するイソシアネート化合物と、分子内に水酸基および(メタ)アクリロイル基を有する化合物とを反応させて得られるウレタンアクリレート化合物を含有することを特徴とする転写材料用硬化性組成物である。 (もっと読む)


【課題】ナノサイズの磁性粒子を所望の形状やサイズで製造する。
【解決手段】有機溶媒での溶解処理で溶解することができるレジスト512からなり、ナノサイズの凹凸を有する型510を作成し(ステップS101〜ステップS102)、MBE法によりCoの膜とPdの膜とを型510上に交互に積層して磁性膜530を形成し(ステップS103)、型510の凹部内に堆積した磁性膜530を、有機溶媒での溶解処理によってレジスト512を除去することで取り出すことで磁性粒子211を得る。 (もっと読む)


【課題】サイドイレーズを抑制して記録密度を向上させることができる記憶媒体および記憶装置を提供する。
【解決手段】各磁性ドット64では軟磁性体68は硬磁性体67の外端よりも記録トラック61の中心線63側で外端を規定する。硬磁性体67および軟磁性体68の間で磁気的な交換結合が実現される。その結果、中心線63側で軟磁性体68に所定の記録磁界が作用すれば、軟磁性体68および硬磁性体67で磁化は所定の方向に容易に向けられる。その一方で、境界線66に隣接する外側で硬磁性体67上に軟磁性体68は配置されない。硬磁性体67に記録磁界が作用しても硬磁性体67で磁化の向きは変化しにくい。境界線66を挟んで隣接する記録トラック61に対して記録磁界が作用しても、サイドイレーズの発生は抑制される。その結果、クロストラック方向に磁性ドット64同士のビットピッチはこれまで以上に狭められる。記録密度は向上する。 (もっと読む)


【課題】記録密度を向上させつつ、隣接トラック内の磁性ドットの磁化反転を抑制すること。
【解決手段】データを記録する複数の記録トラックを備えた磁気記録層と、この磁気記録層の下方に配設された裏打層とを有する磁気記憶媒体であって、裏打層は、凸部と凹部とよりなる凹凸パターンを有し、各記録トラックの下方に、凹凸パターンの凸部を配置していると共に、隣接する各記録トラックの境界領域の下方に、凹凸パターンの凹部を配置している。 (もっと読む)


【課題】磁性層の酸化による非磁性化や、フッ素化合物残存によるアフターコロージョンのないパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板表面に磁性層および第1の保護層を含む磁気記録媒体中間体を準備する準備工程と、所定のパターンを有するマスクを用いて前記磁気記録媒体中間体の、第1の保護層及び磁性層を部分的に除去して凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成工程と、
凹凸パターンの全表面に第2の保護層を形成する第2保護層形成工程と、凹凸パターンの凹部に非磁性材料を充填し、かつ、凸部表面にも非磁性材料層を形成する非磁性材料充填工程と、凸部表面の非磁性材料層、第2の保護層及びマスクを除去して、平坦な表面を有するパターンドメディア型磁気記録媒体を形成する平坦化工程とを含むことを特徴とするパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】記憶容量の増加が可能な情報記憶媒体および情報記憶装置を提供する。
【解決手段】情報記憶媒体において、基板S、および、径方向の位置を表す情報が記録されたサーボパターン22と、周方向に所定のピッチsで並んだ複数の記録ドット26とをそれぞれ有する、周方向に並んだ複数のセクタ21を有し、サーボパターン22は、記録ドット26のピッチsに対し所定の整数比を有するピッチpで周方向に並んだ磁気パターン221を有し、サーボパターンに最近接位置に配置された記録ドット26が、サーボパターンのピッチpに対し、いずれのセクタにおいても一定の位相関係φを有する位置に配置されている。 (もっと読む)


【課題】作製時の磁気特性の劣化を起こすことなく、また、簡便な方法で製造でき、生産性に優れた磁気記録媒体の提供。
【解決手段】基板と、軟磁性層、結晶配向制御層、磁気記録層、および保護層とをこの順に含み、磁気記録層が、グラニュラー構造を有する少なくとも1つのグラニュラー磁性層と、非グラニュラー構造を有する非グラニュラー磁性層とを含み、グラニュラー磁性層の少なくとも1つは、複数の磁性部と、磁性部を取り囲む分離部とを含み、分離部は、磁性部の磁気特性とは異なる磁気特性を有し、および非グラニュラー磁性層は連続膜であることを特徴とする磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し記録層の磁気特性の変化が生じにくい信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体10は、基板と、該基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素14Aを構成する記録層14と、記録要素14Aの間の凹部16を充填する充填部18と、を有し、該充填部18は金属系材料の主充填材料と窒素とを含んでなり、且つ、主充填材料の原子数及び窒素の原子数の合計値に対する窒素の原子数の比率が充填部18の上面部18Aにおいて充填部18の下部18Bにおけるよりも高くなるように充填部18中に窒素が偏って分布している。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンの形成精度を高め、製造歩留まりの高い磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体、並びに磁気記録再生装置を提供する
【解決手段】少なくとも、非磁性基板1上に連続した磁性層2を形成する工程、磁性層2の上にレジスト層4を形成する工程、レジスト層4をパターニングする工程、及び、パターニングしたレジスト層4を用いて磁性層2を磁気的に分離する工程の各工程をこの順で有しており、レジスト層4をパターニングする工程において、レジスト層4の内、当該磁気記録媒体における磁気記録再生に使用されない領域に検査用パターンを形成し、該検査用パターンに記録された制御情報を用いることにより、レジスト層4をパターニングする工程における、当該磁気記録媒体ワークの次に加工する磁気記録媒体ワークの加工条件、及び/又は、磁性層2を磁気的に分離する工程における、当該磁気記録媒体ワークの加工条件を制御する。 (もっと読む)


【課題】レジストの直下に剥離しやすい層を新たに設けることで、レジストを簡単かつ確実に除去することができるため、表面に露出する層にダメージを与えずに磁気トラックパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体100の製造方法は、ディスク基体110上に、磁気記録層122を成膜し、磁気記録層の上に保護層126を成膜し、保護層の上にSOGによって剥離層130を成膜し、剥離層の上にレジスト層132を成膜し、レジスト層および剥離層を加工することで当該レジスト層および剥離層の厚さを部分的に変化させ所定のパターンを形成し、所定のパターンに対応したパターンで磁気記録層を磁気的に分離し、剥離層を溶剤で除去することによりレジスト層を除去することを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】イオン注入を阻害するマスクで覆われている箇所と他の箇所との境界でのイオン注入量の分布において高い急峻さが得られる膜製造方法と、その膜製造方法を利用して磁性材料の膜が形成された磁気記憶媒体と、そのような磁気記憶媒体が搭載された情報記憶装置とを提供する。
【解決手段】磁気ディスク10を製造する磁気ディスク製造方法において、ガラス基板61上に磁性層62を形成する製膜工程(A)と、磁性層62上に、磁性ドットとなる箇所へのイオンの注入を阻害する、厚みが縁でステップ状に減少するレジストドット63aを形成するナノインプリント工程(B)と、レジスト63が形成された磁性層61の上からイオンを注入するイオン注入工程(C)とを実行する。 (もっと読む)


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