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Fターム[5D112BB06]の内容

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【課題】グラニュラー磁性層における磁性粒子が基板円周方向にも半径方向にも均一に形成され、磁気特性のより一層の向上を実現することにより、高情報記録密度化に資することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも軟磁性層と配向調整層と磁気記録層とを順に備え、垂直磁気記録に用いる磁気記録媒体の製造方法であって、配向調整層及び磁気記録層のそれぞれの成膜時に、ターゲット1から放出されるスパッタ粒子を、電位調整可能な多段から成るコリメータ板2,3を通して基板7表面に堆積させる。上記多段のコリメータ板2,3の各々に−300V〜300Vの範囲内で直流バイアスを印加する。 (もっと読む)


【課題】超微粒子磁性粉末が良好に分散されるように、その表面に分散剤および結合剤樹脂を均一に被覆させる表面処理を行って磁性塗料を製造する製造方法を提供する。またこの製造方法で得られた磁性塗料を用いて電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁性粉末、分散剤および/または結合剤樹脂、並びに有機溶媒を含み、非溶媒成分の含有率が40重量%以下である組成物を、剪断力を加えながら混合、攪拌して第1組成物を得る磁性粉末の表面処理工程と、前記第1組成物の非溶媒成分の含有率を80重量%以上に濃縮して第2組成物を得る濃縮工程とを含む方法により磁性塗料を製造する。 (もっと読む)


【課題】記録密度が大きい記録媒体と、記録密度が大きい記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムを主成分とする加工対象層に、ディスクの半径位置によって異なる線速度に対応した、異なる複数のピッチで凹部を形成する第1の工程と、陽極酸化により前記加工対象層に微細孔を形成する第2の工程と、電解メッキによって前記微細孔に磁性材料を埋設する第3の工程と、を有することを特徴とする記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】トラックエッジノイズを低減して、トラック密度を向上させる。また、磁気記録を行う場合に、記録領域の外側に広がる記録磁界を遮断して、記録磁界の境界を急峻にする。
【解決手段】基板12と、基板12上に形成された垂直磁気記録層30を備える磁気記録媒体10であって、垂直磁気記録層30は、磁気信号を記録するグラニュラ層20と、グラニュラ層20と磁気的に結合する連続膜層24とを有し、連続膜層24は、グラニュラ層20に磁気信号が記録される記録領域に対応する位置にそれぞれ形成される複数の硬磁性部204と、複数の硬磁性部204の間に形成される磁気シールド部であって、磁化曲線を測定した場合に、印加磁場が0の領域において磁化曲線の傾きが前記硬磁性部より大きく、かつ残留磁気分極が前記硬磁性部よりも小さい磁界シールド部202とを含む。 (もっと読む)


【課題】低Ku層として用いる軟磁性層を、安定かつ高性能に作製することができ、磁化の熱的安定化と、磁気ヘッドでの書きこみの容易さ、SNRに関して、更なる向上を図った垂直磁気記録媒体とその製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基体1上に、少なくとも非磁性下地層2、磁気記録層3、保護層4を順次形成してなる垂直磁気記録媒体において、磁気記録層は、垂直磁気異方性定数(Ku値)が相対的に小さな低Ku層(31)と、Ku値が相対的に大きな高Ku層(32)とからなり、低Ku層は、Co, Ni, Feのいずれかの金属またはそれらの合金を主体とする強磁性体に、窒素元素を添加した鉄族元素基微結晶構造からなる軟磁性薄膜であって、かつ面心立方格子または六方細密充填の結晶構造を有する薄膜からなり、この膜面に平行な優先結晶配向面を、面心立方格子構造の場合には(111)面、六方細密充填構造の場合には(002)面とする。 (もっと読む)


【課題】記録領域間を磁気的に分離する分離領域をイオンビームの照射により形成する場合に、イオンビームの照射量(Dose)を低減する。
【解決手段】磁気記録媒体10の製造方法であって、連続膜層24を有する垂直磁気記録層30を形成する記録層形成工程と、垂直磁気記録層30において磁気信号がそれぞれ記録される複数の記録領域の間の領域にイオンビームを照射することにより、連続膜層24における複数の記録領域の間に軟磁性の分離領域202を形成するイオンビーム照射工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】磁性結晶粒子が互いに面内方向で空隙により分離された構成の記録層を有する垂直磁気記録媒体において、磁性結晶粒子の粒子サイズの面内分散を低減する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体は、基板(11)と、第1下地層(15)と、記録層(17)と、前記第1下地層と記録層の間に挿入される結晶粒サイズ抑制層(19)を備える。第1下地層は、基板に対して垂直方向に延びるRu又はRu合金の結晶粒子(15a)と、前記結晶粒子を面内方向で互いに隔てる空隙部(15b)を含む。記録層は、前記基板に対して垂直方向に延びる磁性結晶粒子(17a)と、前記磁性結晶粒子を面内方向で互いに隔てる空隙部(17b)を含む。前記結晶粒サイズ分散抑制層(19)は、前記基板に対して垂直方向に延びるCo基合金結晶粒子(19a)と、前記Co基合金結晶粒子を面内方向で互いに隔てる酸化物(19b)とを含む。 (もっと読む)


【課題】第1強磁性薄膜とNiを主成分とする第3強磁性厚膜間の密着力を向上させ、磁性層破損の生じない磁気転写用マスター担体を提供する。
【解決手段】所望の情報に応じた凹凸パターンを表面に有する基板に対して、該基板の凹凸パターン上に第1強磁性薄膜(F1)を形成し、この第1強磁性薄膜(F1)上に該第1強磁性薄膜(F1)を電導層として第3強磁性厚膜(F3)を電気メッキにより形成し、これを前記凹凸パターンを有する基板から剥離することで転写情報担持面の形成された磁気転写用マスター担体を得る磁気転写用マスター担体の製造方法であって、基板表面に凹凸パターンをレジストにより形成し、第3強磁性厚膜(F3)を、凹凸パターンによる凹凸を有する第1強磁性薄膜(F1)上に形成し、基板から剥離した後に第1強磁性薄膜(F1)に付着したレジストを除去することで凹凸状の転写情報担持面を形成する。 (もっと読む)


【課題】基板上に、微粒子で高保磁力であり、かつ高価な白金を含まない磁性微粒子を単層配列させることにより高密度磁気記録媒体を得る。
【解決手段】基板上に単層配列された磁性粒子を有する磁気記録媒体において、該磁性粒子が、少なくとも鉄および窒素を構成元素とし、かつ少なくともFe162相を含む、平均粒子サイズが5〜50nmの球状ないし楕円状の磁性粒子である磁気記録媒体。この磁気記録媒体は、Fe162相の高い磁気異方性を反映して、79.6〜398.0kA/m(1000〜5000Oe)の大きな保磁力を示す。 (もっと読む)


【課題】非磁性層により囲まれた柱状磁性結晶よりなる記録層を有する垂直磁気記録媒体において、柱状磁性結晶の粒径分散を低減し、信号対ノイズ比およびオーバーライト特性を向上させ、また書き込み領域幅を低減する。
【解決手段】基板と、前記基板上に順次形成された軟磁性裏打ち層、配向制御層13と、RuあるいはRu合金の連続膜よりなる第1の下地層31と、RuあるいはRu合金よりなる複数の結晶粒14aと、前記複数の結晶粒を互いに離間させる隙間14bとよりなる第2の下地層14と、前記複数の結晶粒に対応して形成され、各々基板面に略垂直方向に磁化容易軸を有する複数の磁性粒子15aと、前記複数の磁性粒子を互いに離隔する非磁性粒界相15bとよりなる記録層15と、よりなる垂直磁気記録媒体であって、前記第1の下地層13と前記配向制御層との界面には、複数の核が、互いに離間して形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 重合体マトリクス中で十分分散した磁性ナノ粒子を生成するための方法を提供する。
【解決手段】 ナノ粒子は、非強磁性または弱い強磁性である。分散液は、非強磁性ナノ粒子を強磁性ナノ粒子に転換させ、且つ弱い強磁性ナノ粒子中の強磁性を増進する温度TFMでアニールされる。磁場が分散液に加えられ、分散液が温度Tに加熱される間にナノ粒子を整列する。 (もっと読む)


【課題】極めて粒子サイズが小さく、かつ球状ないし楕円状の形状であるにもかかわらず、高い保磁力狭い保磁力分布を有する窒素含有磁性粉末の製造方法およびこの磁性粉末を用いた保磁力分布の狭い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】少なくとも鉄および窒素を構成元素とし、かつ少なくともFe16N2相を含む平均粒子サイズが10〜20nmの球状ないし楕円状の磁性粉末であって、さらに希土類元素、アルミニウムおよび/またはシリコンを含有する窒化鉄磁性粉末の製造において、原料となるゲータイト粒子を作製後、このゲータイト粒子を予め水熱処理に付すことにより、粒子サイズ分布が狭くて表面の滑らかなゲータイト粒子が得られる。このゲータイト粒子を原料に用いた窒化鉄磁性粉末は保磁力分布が狭くなり、磁気塗膜としたときにSFDが良好となる。 (もっと読む)


【課題】最適な構造を有する粒状垂直磁気記録層を得るために改良された中間層を成膜する。
【解決手段】50at.%超のレニウム(Re)と、少なくとも一つの合金化材料とを含んで構成されたレニウム(Re)ベース合金材料であり、前記合金化材料がレニウム(Re)の原子半径よりも大きい又は小さい原子半径を有し、室温以上の温度で六方稠密構造(hcp)のレニウム(Re)中に6at.%よりも小さい固溶度を有する微粒子化成分Xと、レニウム(Re)の原子半径よりも大きい又は小さい原子半径を有し、室温以上の温度で六方稠密構造(hcp)のレニウム(Re)中で固溶体の形態を有する格子整合成分Yと、から成る群から選択されたもので、酸化物、窒素化物及び炭化物から成る群から選択された少なくとも1つの材料を更に含んで構成されて、ターゲットにされる。 (もっと読む)


【課題】サイズ選別過程なしで、単分散で結晶性に優れた金属、複合金属合金、単金属酸化物及び複合金属酸化物のナノ粒子を直接合成する方法を提供すること。
【解決手段】代表的な方法は、容器内の溶媒に金属前駆体、酸化剤、界面活性剤を添加して混合溶液を準備した後、加熱処理を行うことにより、単分散金属酸化物ナノ粒子を合成する段階と、貧溶媒を添加してから遠心分離して、金属酸化物ナノ粒子の形成を完了する段階とを含んでなり、その結果として得られるナノ粒子は多様な用途に適した優れた磁気特性を有する。 (もっと読む)


【課題】陽極酸化アルミナナノホールの形成用起点として機能し得るパターンを高精細に転写可能で、生産性に優れた磁気記録媒体の製造方法、及び大容量で高密度記録が可能な磁気記録媒体の提供。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、凸凹パターンを表面に有するモールドの該凸凹パターン上に金属層を製膜する金属層製膜工程と、製膜した金属層における前記モールドとは反対側に位置する面に、基板を接着剤により接着する基板接着工程と、該基板接着工程の後、前記モールドを前記金属層から剥離するモールド剥離工程と、ナノホール形成処理を行うことにより、前記モールドにおける凸凹パターンが転写されて前記金属層に形成された凹凸パターンを起点として、前記基板面に対し略直交する方向にナノホールが複数形成された多孔質層を形成する多孔質層形成工程と、該ナノホールの内部に磁性材料を充填する磁性材料充填工程とを少なくとも含む。 (もっと読む)


【課題】ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアに高品質なパターンを転写形成するモールド構造体を高精細で効率よく作製するモールド構造体の製造方法の提供。
【解決手段】表面に凹凸部が形成された原盤を、光透過性を有する被加工基板の一方の表面に塗布されたインプリントレジストに対して、前記凹凸部側を押し当てて、前記凹凸部の形状を前記インプリントレジスト上に転写する転写工程と、
前記インプリントレジストを硬化させる硬化工程と、
該硬化工程において硬化したインプリントレジストをマスクにして前記被加工基板の一方の表面のエッチングを行い、前記被加工基板の一方の表面上に凹凸形状のパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするモールド構造体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体の表裏両面の記録層に凹凸パターンを効率良く形成する。
【解決手段】被エッチング基板を保持する凹部と該凹部真下に形成された貫通孔とを備えた絶縁体部材と、当該貫通孔に係合する凸部を備えた導電体部材とを備え、前記凹部に前記被エッチング基板が載置された状態で前記凸部表面と該基板底面との間に隙間部が形成されており、該隙間部の厚さが0.05mm以上1mm以下、かつ、該絶縁体部材の厚さが1mm以上15mm以下であることを特徴とする基板ホルダを用い処理を行う。 (もっと読む)


【課題】両面に磁気特性に劣化のない磁性パターンが形成され、表面の平坦性が良好なディスクリートトラック媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の両面に、凸状の磁性パターンと磁性パターン間の凹部を充填する非磁性体とを含むディスクリートトラック媒体を製造する方法であって、前記磁性パターン間の凹部を充填するように第1の非磁性体を成膜し、前記第1の非磁性体の表面を改質し、前記基板を冷却し、前記第1の非磁性体上に第2の非磁性体を成膜し、前記第2および第1の非磁性体をエッチバックすることを特徴とするディスクリートトラック媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、情報を磁気的に記録する磁気記録媒体等に関し、低ノイズ性能を維持したまま、記録層と裏打層との間の距離を縮めることにより被ライト性能を向上させる。
【解決手段】 非磁性基体と、非磁性基体の上に形成された裏打層22と、裏打層22の上に形成された下地層23と、下地層23の上に形成された中間層24と、中間層24の上に形成された、垂直磁気異方性を有する記録層とを有し、中間層24が、上層側の層ほど下層側の層に比較して膜厚が厚くかつ高ガス圧で製膜された、2層以上の層241,242からなる。 (もっと読む)


【課題】高密度記録領域における電磁変換特性が良好で、且つ生産性の高い磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、支持体2の上に放射線硬化性樹脂を含む非磁性層10を形成する工程と、非磁性層10の上に磁性粉末と樹脂とを含む磁性層11を形成する工程と、磁性層11に表面加工ロール5を押圧して当接させる工程と、磁性層11に表面加工ロール5を当接させた状態で、非磁性層10及び磁性層11に放射線を照射させて、少なくとも非磁性層10を硬化させる工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


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